MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）可變形鏡面技術(shù)MEMS可變形反射鏡
維爾克斯光電為用戶提供來自Boston Micromachines Corporation(BMC)的微機(jī)電可變形反射鏡和微機(jī)電分段變形鏡，類型主要分為低致動器數(shù)DM、中執(zhí)行器計數(shù)DM以及高執(zhí)行器數(shù)MEMS可變形反射鏡。
Multi-DM可變形鏡能夠?qū)崿F(xiàn)高達(dá) 5.5 μm 的行程、2 kHz 的幀速率、亞納米級步長且無滯后。以 X-Driver 的形式為 Multi-DM 系統(tǒng)提供高速電子升級。
中執(zhí)行器數(shù)DM系統(tǒng)是高性能波前校正器，適用于天文學(xué)、激光通信和遠(yuǎn)程成像等要求嚴(yán)苛的應(yīng)用，提供三種類型：Kilo-DM、492-DM 和 648-DM。
Kilo-DM可變形鏡是用于精確、高速、高分辨率波前控制的使能組件。多達(dá) 1020 個執(zhí)行器控制在1納米以下的精度且無滯后，該系統(tǒng)非常適合要求嚴(yán)苛的應(yīng)用。
作為流行的Kilo-DM可變形鏡的替代品，492-DM和 648-DM可以以更低的成本使用并產(chǎn)生的效果。492-DM和648-DM系統(tǒng)分別將492和648執(zhí)行器的精度控制在1 nm以下且無滯后，是天文學(xué)和下一代成像應(yīng)用的理想選擇。
Boston Micromachines的MEMS可變形反射鏡其中低制動器數(shù)MEMS反射鏡是用于高級波前控制的經(jīng)濟(jì)且通用的像差調(diào)制解決方案，具有高達(dá)140個精確控制的元件和低致動器間耦合，Multi-DM系統(tǒng)是包括顯微鏡、天文學(xué)、視網(wǎng)膜成像和激光束整形應(yīng)用在內(nèi)的廣泛應(yīng)用的理想選擇。這種DM可用于自適應(yīng)光學(xué)或空間光調(diào)制器應(yīng)用的連續(xù)和分段表面。
Boston Micromachines Corporation(BMC)是高執(zhí)行器數(shù)MEMS變形鏡技術(shù)的者，這些反射鏡部署在世界各地的天文設(shè)施中，用以提高波前校正能力，其中4K-DM 安裝在雙子座行星成像儀器上2K-DM則包含在多個空間望遠(yuǎn)鏡概念的設(shè)計中。
此外，2K-DM 被安裝為斯巴魯日冕儀自適應(yīng)光學(xué)（SCExAO）儀器和麥哲倫望遠(yuǎn)鏡 (MagAO-X) 的實(shí)驗(yàn)性日冕自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)中的啟用組件。多年來，兩者都一直在空中觀測中持續(xù)運(yùn)行。
MEMS可變形反射鏡反射鏡特點(diǎn)：
-大陣列產(chǎn)生高分辨率波前校正。
-*的微結(jié)構(gòu)允許對高空間頻率表面的相鄰執(zhí)行器之間的影響最小
-優(yōu)化設(shè)計可實(shí)現(xiàn)高速應(yīng)用的快速波前整形
微機(jī)電分段變形鏡，MEMS可變形反射鏡規(guī)格：
| DM型號 | 執(zhí)行器數(shù)量 | 跨孔徑執(zhí)行器數(shù)量 | 物理行程（μm） | 波前行程（μm） | 孔徑（mm） | 螺距（μm） | 機(jī)械響應(yīng) | 更新率：標(biāo)準(zhǔn)（kHz） | 更新率：高速（kHz） | 近似執(zhí)行器耦合 |
| 492-S-1.0-SLM | 492 | 24 | 1.0 | 2.0 | 9.60 | 400 | ＜80 | 60 | n/a | 0% |
| 492-3.5-SLM | 492 | 24 | 3.5 | 7.0 | 9.60 | 400 | ＜80 | 45 | n/a | 0% |
| Kilo-CS-1.0-SLM | 952 | 34 | 1.0 | 2.0 | 13.60 | 400 | ＜80 | 60 | n/a | 0% |
| Kilo-C-3.5-SLM | 952 | 34 | 3.5 | 7.0 | 13.60 | 400 | ＜80 | 45 | n/a | 0% |
| 2K-1.5L-SLM | 2040 | 50 | 1.5 | 3.0 | 20.00 | 400 | ＜20 | 30 | n/a | 0% |
| 2K-3.5-SLM | 2040 | 50 | 3.5 | 7.0 | 20.00 | 400 | ＜80 | 30 | n/a | 0% |
請注意：填充系數(shù)>98%(SLM)，表面形狀：<30 nm
*自定義執(zhí)行器可根據(jù)要求提供
微機(jī)電可變形反射鏡, MEMS變形鏡規(guī)格：
| DM型號 | 執(zhí)行器數(shù)量 | 跨孔徑執(zhí)行器數(shù)量 | 物理行程(μm） | 波前行程(μm) | 孔徑（mm） | 螺距(μm) | 機(jī)械響應(yīng) | 更新率：標(biāo)準(zhǔn)（kHz） | 更新率：高速（kHz） | 近似執(zhí)行器耦合 |
| Multi-C-1.5L-DM | 137 | 13 | 1.5 | 3.0 | 4.80 | 400 | ＜75 | 2 | 100 | 15% |
| Multi-3.5-DM | 140 | 12 | 3.5 | 7.0 | 4.40 | 400 | ＜75 | 2 | 100 | 13% |
| Multi-3.5L-DM | 140 | 12 | 3.5 | 7.0 | 4.95 | 450 | ＜75 | 2 | 100 | 13% |
| Multi-5.5-DM | 140 | 12 | 5.5 | 11.0 | 4.95 | 450 | ＜100 | 2 | 100 | 22% |
| 492-S-0.6-DM | 492 | 24 | 0.6 | 1.2 | 6.90 | 300 | ＜20 | 60 | n/a | 15% |
| 492-S-1.0-DM | 492 | 24 | 1.0 | 2.0 | 9.20 | 400 | ＜75 | 60 | n/a | 13% |
| 492-1.5-DM | 492 | 24 | 1.5 | 3.0 | 6.90 | 300 | ＜20 | 45 | 60 | 15% |
| 492-3.5-DM | 492 | 24 | 3.5 | 7.0 | 9.20 | 400 | ＜75 | 45 | 60 | 13% |
| 492-5.5-DM | 492 | 24 | 5.5 | 11.0 | 10.35 | 450 | ＜100 | 45 | 60 | 22% |
| 648-5.5-DM | 648 | 28 | 5.5 | 11.0 | 12.15 | 450 | ＜100 | 45 | 60 | 22% |
| Kilo-CS-0.6-DM | 952 | 34 | 0.6 | 1.2 | 9.90 | 300 | ＜20 | 60 | n/a | 15% |
| Kilo-CS-1.0-DM | 952 | 34 | 1.0 | 2.0 | 13.20 | 400 | ＜75 | 60 | n/a | 13% |
| Kilo-C-1.5-DM | 952 | 34 | 1.5 | 3.0 | 9.90 | 300 | ＜20 | 45 | 60 | 15% |
| Kilo-C-3.5-DM | 952 | 34 | 3.5 | 7.0 | 13.20 | 400 | ＜75 | 45 | 60 | 13% |
| 2K-1.5L-DM | 2040 | 50 | 1.5 | 3.0 | 19.60 | 400 | ＜40 | 30 | n/a | 15% |
| 2K-3.5-DM | 2040 | 50 | 3.5 | 7.0 | 19.60 | 400 | ＜75 | 30 | n/a | 13% |
| 3K-1.5-DM | 3063 | 62 | 1.5 | 3.0 | 18.30 | 300 | ＜20 | 16 | n/a | 15% |
| 4K-3.5-DM | 4092 | 64 | 3.5 | 7.0 | 25.20 | 400 | ＜75 | 16 | n/a | 13% |
請注意：填充系數(shù)>99%(DM)，表面形狀：<30 nm
*自定義執(zhí)行器可根據(jù)要求提供
MEMS可變形反射鏡可用的選項(xiàng)：
| 變形鏡 | 鍍層 | 窗口AR鍍層（nm） | 驅(qū)動* |
| Multi | 鋁金防護(hù)銀 | 400-1100 550-2500 650-1050 1050-1700 1550 | Multi-Driver X-Driver |
| 492 648 ** Kilo | 400-1100 550-2500 1550 | S-Driver ** Kilo-Driver Kilo-Low-Latency-Driver | |
| 2K 3K 4K | 400-1100 550-2500 1550 | +K Driver |
* 亞納米級平均步長
** S-Driver 不適用于 648 DM
