立式線性連續(xù)磁控濺射適用于大尺寸基板產(chǎn)品的研發(fā)及生產(chǎn),設備由進樣室,濺鍍室,出樣室和基片傳遞機構組成,可實現(xiàn)連續(xù)鍍膜,廣泛應用于顯示器件及光伏電池薄膜的開發(fā)及生產(chǎn)。矽基具備豐富的工業(yè)級大尺寸設備生產(chǎn)經(jīng)驗,目前在廣東及北京地區(qū)均有線性連續(xù)磁控濺射設備銷售實績。
技術參數(shù):
1 本底真空10-7 Torr;
2 基片尺寸:490x390 mm (玻璃基片);
3 基片直立傳送,傳送速度可調(diào)節(jié);
4 基片可加熱至400℃;
5 濺鍍室數(shù)量可自由拓展;
6 20英寸基片內(nèi)鍍膜均勻性優(yōu)于 ±3%;