磁控濺射（共濺射）-儀表網(wǎng)

公司介紹主營產(chǎn)品

深圳海創(chuàng)德科技有限公司成立于2012年，由數(shù)位理工科博士創(chuàng)辦，團隊成員均為理工科博士和碩士，具有高水平的專業(yè)水準。公司致力于半導體微加工及分析設備的銷售和安裝服務，產(chǎn)品覆蓋薄膜制備，物性測量和表面分析。經(jīng)營的主要產(chǎn)品如下：1. 磁控濺射、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)、PECVD、LPCVD、ALD、RIE、ICP、RTP、涂膠機和熱板等薄膜技術相關的設備；2. 美國Kimball Physics的電子槍、離子槍、真空腔體和熒光屏等部件；美國OCI的LEED和AES等各種真空組件；美國MicroXact的真空、低溫和磁場等數(shù)種探針臺；3. 我們還提供上述設備的配套部件及耗材，如直流和射頻電源、靶材、探針、光刻膠和ALD耗材等。我們的產(chǎn)品性價比高，品質精良，性能*，在歐美及中國臺灣地區(qū)具有的口碑，國內眾多的科研院所和大學均對我們的產(chǎn)品報以好評。我們期待以優(yōu)質的產(chǎn)品，良好的服務和專業(yè)的技術為更多的客戶提供解決方案！期待與您的合作！

點擊展示更多內容

產(chǎn)品簡介在線詢價

磁控濺射是物理氣相沉積技術(PhysicalVaporDeposition,PVD)的一種

磁控濺射（共濺射）產(chǎn)品詳情

磁控濺射是物理氣相沉積技術(Physical Vapor Deposition, PVD)的一種。一般用于制備金屬、半導體、絕緣體等薄膜材料，具有設備簡單、易于控制、效率高，面積大等優(yōu)點。

磁控濺射原理：通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

技術參數(shù)：

1 本底真空：10^-7Torr到10^-9Torr；

2 單基片設計，尺寸可定制，常規(guī)尺寸2-6英寸；

3 基片可旋轉并加熱：300℃/500℃/800℃；

4 最多可拓展8支磁控濺射靶槍，可共濺射；

5 靶槍角度可調，濺鍍距離可調，可升級強磁靶；

6 可選配多路氣路；

7 防交叉污染隔板設計；

8 可配備離子束輔助沉積；

9 可配備樣品預清洗功能；

10 可配備快速進樣室；

11 可配備自動壓力控制系統(tǒng)；

12 全自動操作系統(tǒng)；

關鍵詞：控制系統(tǒng)

熱門產(chǎn)品

產(chǎn)品名稱	參考價	地區(qū)	公司名稱	更新時間
恒溫型浸漬提拉鍍膜機	面議	北京市	北京亞歐德鵬科技有限公司	2016-12-21	在線詢價
浸漬提拉鍍膜涂膜提拉機提拉涂膜機	面議	北京市	北京愛歐德儀器設備有限公司	2017-04-20	在線詢價
浸漬提拉鍍膜機/提拉鍍膜機/鍍膜機	面議	北京市	北京亞歐德鵬科技有限公司	2016-12-16	在線詢價
浸漬提拉鍍膜機/提拉鍍膜機/鍍膜機	面議	北京市	北京亞歐德鵬科技有限公司	2016-12-16	在線詢價
浸漬提拉鍍膜機/提拉鍍膜機/鍍膜機	面議	北京市	北京亞歐德鵬科技有限公司	2016-12-16	在線詢價
Leica EM ACE600 高真空鍍膜機	面議	上海	圓派科學儀器（上海）有限公司	2025-01-13	在線詢價

免責申明

所展示的信息由會員自行提供，內容的真實性、準確性和合法性由發(fā)布會員負責，儀表網(wǎng)對此不承擔任何責任。儀表網(wǎng)不涉及用戶間因交易而產(chǎn)生的法律關系及法律糾紛，糾紛由您自行協(xié)商解決

友情提醒：本網(wǎng)站僅作為用戶尋找交易對象，就貨物和服務的交易進行協(xié)商，以及獲取各類與貿易相關的服務信息的平臺。為避免產(chǎn)生購買風險，建議您在購買相關產(chǎn)品前務必確認供應商資質及產(chǎn)品質量。過低的價格、夸張的描述、私人銀行賬戶等都有可能是虛假信息，請采購商謹慎對待，謹防欺詐，對于任何付款行為請您慎重抉擇！如您遇到欺詐等不誠信行為，請您立即與儀表網(wǎng)聯(lián)系，如查證屬實，儀表網(wǎng)會對該企業(yè)商鋪做注銷處理，但儀表網(wǎng)不對您因此造成的損失承擔責任！

相關產(chǎn)品分類更多+