由托托科技自主研發(fā)的TTT-07-UV Litho-ACA無掩模板紫外光刻機(jī)就采用空間光調(diào)制器的光刻技術(shù)，使得其在光學(xué)掩模板設(shè)計(jì)上有著得天獨(dú)厚的優(yōu)勢。其分辨率可達(dá)1 µm，高性能無鐵芯直線驅(qū)動(dòng)電機(jī)保證了套刻精度和6英寸的圖形拼接。同時(shí)，其研發(fā)團(tuán)隊(duì)通過定制化微納結(jié)構(gòu)與器件的低成本、快速達(dá)成批量制造，實(shí)現(xiàn)規(guī)?；瘧?yīng)用，助力電子、光學(xué)和生物等領(lǐng)域的微納米器件研究與開發(fā)。
主要應(yīng)用方向包括：微流道芯片，微納結(jié)構(gòu)曝光，電輸運(yùn)測試/光電測試器件，二維材料的電極搭建，太赫茲/毫米波器件制備，光學(xué)掩模板的制作等。
產(chǎn)品特點(diǎn)
自主研發(fā)
高精度五軸位移臺(tái)
多精度寫頭自由切換
所見即所得的套刻指引功能
機(jī)體內(nèi)除濕功能
全自動(dòng)光刻控制軟件
矢量圖轉(zhuǎn)像素圖軟件
全畫幅主動(dòng)對(duì)焦功能
曝光圖形自由變換
尺寸測量功能
進(jìn)程顯示功能
產(chǎn)品選型
實(shí)際案例
1.平面光刻
2.灰度光刻
3.3D重構(gòu)光刻
