FR-ES是一款輕巧便捷膜厚測量分析系統(tǒng)。 使用FR-ES,用戶可以在370-1020nm光譜范圍內(nèi)進(jìn)行反射率和透射率測量。 |
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FR-ES機(jī)型提供出色的膜厚測量分析性能??捎糜诟鞣N不同的應(yīng)用,例如:薄膜厚度、折射率、顏色、透射率、反射率等等.
FR-ES機(jī)型提供三種波長范圍配置:VIS/NIR (370- 1020nm, NIR-N1 (850-1050nm), NIR (900-1700nm).
這里有很多可選的配件:
- 濾光片可阻擋某些光譜范圍內(nèi)的光
- FR-Mic提供微米級別區(qū)域進(jìn)行測量
- 手動載物臺, 100x100mm或 200x200mm
- 薄膜/比色皿支架用于吸光度/透射率和化學(xué)濃度測量的薄膜/比色皿支架
- 積分球積分球用于漫反射和全反射反射率測量
通過不同模塊的組合設(shè)置滿足任何蕞終用戶的需求。
2、特征
o 單擊分析(無需初始值)
o 動態(tài)測量連續(xù)測量
o n & k、色座標(biāo)測量
o 保存測量的圖像和視頻
o Multiple installationsfor off-line analysis
o 免廢軟件更新
3、FR-ES規(guī)格(標(biāo)準(zhǔn)配置)
機(jī)型 | VIS/NIR | NIR | NIR-N1 |
WL Range -nm Pixels Min Thick -SiO2 Max Thick SiO2 Max Thick -Si n&k -Min. Thickness Thick. Accuracy *,** Thick. Precision*,** Thick. stability *,** | 370 –1020 3648 12nm 100um 100nm 1nm / 0.2% 0.05nm 0.05nm | 900 – 1700 512 50nm 250um 500nm 3nm / 0.4% 0.1nm 0.15nm | 850-1050 3648 1um 500um 300um 50nm / 0.2% |
Light Source Integration Time Spot size Material Database Dimensions/Weight Power | Halogen (internal), 10000h (MTBF) | ||
5msec (min) Diameter of 350um (smaller spot size as option) > 700 different materials 20x22x6cm (LxWxH), 1.8Kg (stage excluded) 110V/230V, 50-60Hz, 10W |
4、配件
計(jì)算機(jī) | 筆記本電腦/觸摸屏PC,19英寸屏幕 |
聚焦模塊 | 安裝在反射探頭上的光學(xué)模塊,用于直徑<100μm的光斑尺寸 |
膜厚/比色皿套件 | 標(biāo)準(zhǔn)比色皿中的薄膜或液體進(jìn)行透射測量 |
接觸探頭 | 曲面樣品的反射率和厚度測量,具有高橫向分辨率的基于顯微鏡的反射率和厚度測量 |
顯微鏡 | 用于測量涂層和表面的鏡面反射和漫反射 |
積分球sphere | 手動X-Y平臺,用于測量100mm x 100mm或200mm x 200mm的區(qū)域 |
5、膜厚測量儀工作原理
白光反射光譜(WLRS)是測量垂直于樣品表面的某一波段的入射光,在經(jīng)多層或單層薄膜反射后,經(jīng)各層薄膜介面界面干涉產(chǎn)生的反射光譜可確定單層或多層薄膜(透明,半透明或全反射襯底)的厚度及 N*K 光學(xué)常數(shù)。
*規(guī)格如有更改,恕不另行通知; ** 厚度測量范圍即代裱光譜范圍,是基于在高反射襯底折射率為1.5 的單層膜測量厚度