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(1)防爆探頭式顆粒錄影顯微鏡技術(shù)PVM、2D工藝過(guò)程成像技術(shù)，優(yōu)于單獨(dú)的PVM，比PVM更加*；
*優(yōu)勢(shì)特點(diǎn)：一臺(tái)儀器可實(shí)時(shí)在線查看顆粒的形貌，同時(shí)可以在線計(jì)算出顆粒的粒徑大小和粒度分布。測(cè)量的范圍可以達(dá)到1微米-2000微米。（擴(kuò)充探頭可以達(dá)到5000微米）
*分為實(shí)驗(yàn)室用和工業(yè)在線使用，可根據(jù)客戶需求定制，在線粒度儀防爆級(jí)ExdⅡBT6Gb 和非防爆。
(2)防爆探頭式超聲在線顆粒粒度分布測(cè)量?jī)xNANO，不同于聚焦光束反射測(cè)量?jī)xFBRM，檢測(cè)范圍達(dá)到1納米-3000微米，測(cè)試的是真實(shí)的粒徑大小，非弦長(zhǎng)計(jì)算！
在線實(shí)時(shí)晶體顆粒錄影顯微鏡技術(shù)PVM-2D,探頭式在線粒度測(cè)量?jī)x能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)顆粒的形貌和尺寸大小做實(shí)時(shí)的準(zhǔn)確測(cè)量，進(jìn)而加深對(duì)過(guò)程的了解和實(shí)現(xiàn)過(guò)程的優(yōu)化控制及放大。除了固體結(jié)晶以外，對(duì)其他非固體的領(lǐng)域，例如氣泡，泡沫，乳狀液，液滴，聚合物，流場(chǎng)等刻畫也具有極其廣泛的應(yīng)用前景。在線晶體實(shí)時(shí)錄影系統(tǒng)晶體顆粒錄影顯微鏡技術(shù)PVM-2D,工藝過(guò)程成像探頭系統(tǒng)適用于生產(chǎn)中對(duì)過(guò)程的研究，產(chǎn)品開發(fā)及其改進(jìn)。特別適用于監(jiān)測(cè)，優(yōu)化和控制高顆粒濃度過(guò)程及非透明顆粒的生產(chǎn)過(guò)程。
應(yīng)用實(shí)例：
1、冷卻結(jié)晶實(shí)驗(yàn)
在制備**晶體的過(guò)程中，冷卻結(jié)晶使*常用的手段之一。利用工藝過(guò)程成像系統(tǒng)可以很好的得到晶體的形貌和粒徑分布。并且了解，初始溫度，*終溫度，降溫速率，攪拌速率，晶種等，外加條件對(duì)晶體的形貌，粒徑等的影響。下面的實(shí)例利用了工藝過(guò)程成像系統(tǒng)，對(duì)晶體結(jié)晶過(guò)程進(jìn)行監(jiān)控
成像系統(tǒng)觀察到的晶體圖片，
的顆粒粒徑大小分布圖， 2D工藝過(guò)程成像顆粒錄影顯微鏡技術(shù)PVM，可以幫助客戶很好的了解在結(jié)晶過(guò)程中的晶體隨外加條件的變化， 在高體積分?jǐn)?shù)時(shí)也能勝任。
*探頭式設(shè)計(jì)，可直接插入反應(yīng)容器，直接測(cè)試?。ㄌ筋^大小，長(zhǎng)度均可定制，標(biāo)準(zhǔn)直徑D10，D20）
*測(cè)量范圍：1微米到5000毫米（與鏡頭放大倍數(shù)，相機(jī)等相關(guān)）
*測(cè)量方式：在線測(cè)量晶體形態(tài)，平均尺寸，顆粒大小分布
*測(cè)量濃度：可高達(dá)50%固體顆粒濃度（與顆粒形狀相關(guān)）
*工作溫度：-10~150℃
性能特征
特殊設(shè)計(jì)的探頭（相機(jī)/鏡頭/光源）可廣泛地適用于許多困難物系（尤其是非透明顆粒物系及高固體濃度）。
由于特殊的光源設(shè)計(jì)，本系統(tǒng)可有效的防止顆粒沉積/粘結(jié)于探頭上。
根據(jù)不同物系及客戶要求，本系統(tǒng)可設(shè)計(jì)不同方案（包括氣體清理系統(tǒng)）。
強(qiáng)大的圖像處理功能可實(shí)現(xiàn)顆粒多尺度分割，計(jì)算顆粒形狀參數(shù)（主元素分析和傅立葉變換），聚類分析和定量產(chǎn)品/過(guò)程控制。
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