產(chǎn)品概述

反射光譜干涉法是一種非接觸式、無損的、快速的光學(xué)薄膜厚度測(cè)量技術(shù)。

測(cè)量范圍: 1 nm - 1 mm

波長(zhǎng)范圍: 200 nm -8000 nm

光斑尺寸:2mum -3 um

產(chǎn)品特點(diǎn)：

a. 高的測(cè)量精度：0.01nm或0.01%

b. 準(zhǔn)確度：1nm或0.2%

c. 穩(wěn)定性：0.02nm或0.02%

d. 強(qiáng)大的軟件材料庫(kù)，包含500多種材料的光學(xué)常數(shù)

e. 通過Modbus TCP或OPC協(xié)議，與其他設(shè)備聯(lián)用

適用于實(shí)時(shí)在線測(cè)量，多層測(cè)量，非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(kù)(超過500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等

大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測(cè)量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導(dǎo)體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導(dǎo)體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對(duì)二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)

標(biāo)準(zhǔn)配置中包含：

1. 主機(jī)(光譜儀，光源，電線)

2. 反射光纖

3. 樣品臺(tái)及光纖適配器

4. TFCompanion軟件

5. 校準(zhǔn)套裝

6. 測(cè)試樣品，200nm晶圓

多種型號(hào)可選，每個(gè)型號(hào)對(duì)應(yīng)不同的測(cè)量范圍：

測(cè)量n和k值，其厚度范圍需在25納米和5微米之間

廣泛的應(yīng)用于各種工業(yè)生產(chǎn)及工藝監(jiān)控中：

半導(dǎo)體晶圓，薄膜太陽(yáng)能電池，液晶平板，觸摸屛，光學(xué)鍍膜，聚合物薄膜等

半導(dǎo)體制造：· 光刻膠          · 氧化物        · 氮化物

光學(xué)鍍膜：· 硬涂層          · 抗反射涂層         · 濾波片

生物醫(yī)學(xué)：· 聚對(duì)二甲苯         · 生物膜厚度         · 硝化纖維