● 采用技術(shù)-積木錯(cuò)位蠅眼透鏡消衍射技術(shù)和線條陡直增強(qiáng)技術(shù)，曝
光圖形質(zhì)量好，光刻分辯力高。
● 采用創(chuàng)的CCD圖像底面對(duì)準(zhǔn)，單曝光頭正面曝光實(shí)現(xiàn)雙面對(duì)準(zhǔn)
功能。
● 采用新穎的高精度，多自由度掩模一樣片精密對(duì)準(zhǔn)工件臺(tái)結(jié)構(gòu),掩模與
樣片對(duì)準(zhǔn)過程直觀，套刻對(duì)準(zhǔn)速度快，精度高樣片的放置采用推拉式
基準(zhǔn)平板，真空吸附式，操作方便。
● 采用1000W長(zhǎng)壽命型汞燈光源，曝光能量高，聚光角度小，光源穩(wěn)定，
持久。
● 支持真空接觸曝光，硬接觸曝光，壓力接觸曝光，接近式曝光四種曝光功能。
● 配備循環(huán)水冷卻系統(tǒng)，照明面溫度恒定。
● 具有納米壓印接口功能。
● 曝光面積：8英寸；對(duì)準(zhǔn)精度：≤±2 μm（雙面,片厚0.8mm）/0.8 μm（單面）。
● 掩模尺寸：4英寸、5英寸、7英寸、9英寸。
● 光刻分辨力：1 μm。
● 曝光方式：定時(shí)（倒計(jì)時(shí)方式0.1s-9999.9s任意設(shè)定）和定劑量。
● 膠厚：500 μm（SU8膠，用戶提供檢測(cè)條件）。
● 汞燈功率：1000W（直流，進(jìn)口直流高壓汞燈德國(guó)歐司朗)。
● 照明不均勻性：5%（Φ200mm 范圍）。