1、升級后的新產品-環(huán)境掃描技術的高分辨場發(fā)射掃描電鏡。 

2、齊全的配置 

Quattro 場發(fā)射掃描電鏡給用戶配置了高真空的二次電子探頭，低真空的二次電子探頭，環(huán)境真空下的二次電子探頭，以及背散射電子探頭，和紅外CCD 探頭。能滿足用戶在日后工作中所有可能遇到的情況，以降低用戶對樣品制備的要求。 

低真空/環(huán)境真空技術使得不導電樣品和/或含水樣品不經導電處理即可直接成像和分析，樣品表面無電荷累積現象。 

3、*的電子光學技術成熟的肖特基場發(fā)射電子槍、固定式末級光闌、60°/45°兩級錐度極靴、大工作距離精密聚焦技術等，能對導電和不導電樣品進行EDS/EBSD 分析，在高真空模式，低真空模式，或環(huán)境真空模式。

穩(wěn)定的大束流(200 nA) 確保能譜及EBSD 分析工作的快速與準確。

4、“穿過透鏡” 壓差真空系統(tǒng)設計

普通高真空掃描電子顯微鏡的樣品室和鏡筒都處于高真空狀態(tài)，要求所分析的樣品必須是固體的導電樣品，如果樣品不是固體和導電的，需要對樣品進行處理，使樣品達到要求。然而，在研究工作中所遇到的樣品中，固體導電樣品只是很少一部分，通常我們還會遇到非導電固體樣品，表面含水、含油的固體樣品以及非固態(tài)樣品。

在環(huán)境掃描電子顯微鏡中，通過特殊的真空系統(tǒng)設計，采用三個區(qū)域兩個不同的泵來抽真空，樣品室的真空度降低，使得不適應高真空的樣品能夠保持保持原始狀態(tài)，在掃描電子顯微鏡中進行觀察和分析。

與此同時，掃描電子顯微鏡的鏡筒部分仍然處于高真空狀態(tài)，滿足電子光學系統(tǒng)的要求。在環(huán)境掃描電子顯微鏡中，通過向樣品室充水汽，可保持含水樣品和生物樣品的原始狀態(tài)。FEI/飛利浦環(huán)境掃描電子顯微鏡的樣品室氣體壓力可在10Pa ～ 4000Pa 之間改變，達到樣品中水的平衡，或進行樣品的脫水、增濕測試。

5、二次電子探測器

在普通高真空掃描電子顯微鏡中，采用的是E‐T 二次電子探測器。這種探測器在低真空狀態(tài)下不能工作。為了能夠在樣品室低真空狀態(tài)下探測二次電子信號，FEI/飛利浦公司開發(fā)了低真空二次電子探測器GSED。

GSED 二次電子探測器的分辨率可達到< 1.4 nm ，與普通高真空電鏡的分辨率指標相同。而且，GSED 探測器克服了E‐T 探測器的缺點，可觀察發(fā)光、加熱的樣品。

6、特殊的樣品倉設計284mm 大型樣品倉，整體鑄造而成，在5軸馬達全自動驅動，給用戶雙重保證。在手動操作時, xT‐電鏡控制軟件也監(jiān)控樣品臺的運行, 保證樣品上座標的性。樣品位置和觀察條件記憶功能允許用戶將感興趣的區(qū)域的位置和電鏡條件記憶下來, 可隨時回復記憶的位置和觀察條件, 方便用戶的對比分析工作。

7、*的單窗口和四窗口操作界面

同時可以顯示二次電子像，背散射像，以及他們的混合像，還有紅外CCD 實時監(jiān)控像。

這樣可以獲得的信息?？刂茀^(qū)功能使用非常人性化, 控制功能易于接近。

8、特殊的紅外CCD 設計

紅外CCD 探頭設計，不僅可以實時監(jiān)控樣品倉的內部情況，同時可以通過這個窗口控制樣品臺的移動，還可以利用這個床空拍攝低倍照片進行導航。

9、分析型末級光闌。

在一般的低真空掃描電子顯微鏡中，在低真空狀態(tài)下，能譜分析的空間分辨率和分析精度大大降低，基本喪失了能譜分析的實用性。在環(huán)境掃描電子顯微鏡中，FEI/飛利浦配置了分析型末級光闌，能夠保證在低真空狀態(tài)下的能譜分析的空間分辨率和分析精度。

10、數字化掃描技術

在Quattro掃描電鏡中, FEI/ 飛利浦采用了數字化的電子束掃描技術, 無論是通過Quanta xT‐控制軟件對電鏡進行操作, 還是外接的第三方分析設備, 都是基于網絡結構進行數字化掃描控制。例如, 如果用戶在Quanta 上安裝能譜儀系統(tǒng), 能譜儀公司只要將其為Quanta 設計的能譜探頭安裝在Quattro樣品室上, 將其為Quattro 設計的能譜分析器通過Quattro提供的網絡集線器進行網絡連接, 能譜儀就可通過Quattro的數字化掃描器來控制電子束在樣品表面的掃描。

11、真空系統(tǒng)

采用FEI/飛利浦的離子泵、分子泵、機械泵真空系統(tǒng), 無油污染, 抽速快。

12、微觀實驗室

Quattro環(huán)境掃描電鏡可安裝特殊的原位樣品臺，如熱臺，冷臺，和拉伸臺。從‐165 °C 到1400 °C 溫度范圍內，對多種樣品保持其原始狀態(tài)下進行動態(tài)原位分析。