什么是紫外臭氧清洗?

紫外臭氧清洗是一種光敏氧化處理過程。在處理過程中，有機分子在吸收短波長紫外輻射后，與臭氧分子發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，使有機分子從樣品表面分離下來。紫外臭氧清洗是一種的清潔技術(shù)，可清潔光敏表面、樹脂表面，以及洗滌溶劑、助焊劑、油類中的殘留物，可以對你的樣品進(jìn)行表面殺菌處理而不影響表面屬性。紫外臭氧清洗與其它清洗技術(shù)(如氧等離子清洗)不同，不會導(dǎo)致樣品表面損傷。

紫外臭氧清洗機利用高強度紫外光源，在185nm和 254nm兩個波長照射目標(biāo)表面進(jìn)行處理。樣品倉內(nèi)的分子氧(O2)在200nm以下波長的紫外線照射下進(jìn)行分解，產(chǎn)生兩個氧自由基(O?)。每個氧自由基隨后與更多的氧分子發(fā)生反應(yīng)，生成臭氧(O3)分子(圖1)。沒有被殘余氧吸收的大于200nm波長的紫外線被基片表面上的有機化學(xué)鍵大量吸收，導(dǎo)致激發(fā)狀態(tài)或有機自由基的產(chǎn)生。這些活性有機物種與不穩(wěn)定的臭氧分子接觸時會產(chǎn)生易揮發(fā)性物種，如CO2，H2O，N2及短鏈有機化合物。這種揮發(fā)性物質(zhì)極易從樣品表面揮發(fā)釋放，達(dá)到表面清潔的效果。

英國Ossila紫外臭氧清洗機可以去除樣品表面污染，數(shù)分鐘內(nèi)產(chǎn)生超凈表面。它利用高能紫外光源產(chǎn)生臭氧，臭氧將樣品表面的污染物分解為揮發(fā)性化合物。揮發(fā)性化合物從樣品表面蒸發(fā)，跡。這種清潔方法可以產(chǎn)生接近原子級的清潔表面，而不會對樣品表面產(chǎn)生損壞。

英國Ossila紫外臭氧清洗機的托盤尺寸為100mmx100mm，可將樣品定位于紫外光源下。您只需將樣品放到托盤上，關(guān)上倉門，設(shè)置好時間，按開始鍵即可。

英國Ossila紫外臭氧清洗機性價比高，廠家提供2年免費質(zhì)保。

目前紫外臭氧清洗機的主要應(yīng)用表面UV光清洗和表面UV光改質(zhì)。

u 表面UV光清洗：利用紫外光以及由其產(chǎn)生的臭氧OZONE，對有機物質(zhì)所起的光敏氧化分解作用，以達(dá)到去除粘附在物體表面上的有機化合物（碳?xì)浠衔铮@得超潔凈的表面。

u 表面UV光改質(zhì)：利用紫外光照射有機表面，在將有機物分解的同時，254nm波長的紫外光被物體表面吸收后，將表層的化學(xué)結(jié)構(gòu)切斷，光子作用產(chǎn)生原子氧會與被切斷的表層分子結(jié)合，并將之變換成具有高度親水性的官能基（如-OH，-CHO，-COOH），從而提高表面的浸潤性。

主要應(yīng)用

u 石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板,等離子電視屏幕,彩色過濾片,光罩,棱鏡,透鏡,反射鏡,平板電視等。

u 微電子產(chǎn)品的表面清洗：微型馬達(dá)軸,磁頭驅(qū)動架,光盤,光電器件,手機攝像頭,微型喇叭/受話器震膜,半導(dǎo)體硅片,掩膜版。

u 精密集成電路的表面清洗：液晶顯示器ITO,精密電路板,軟性電路板接頭,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金屬基板的清洗,BGA基板與粘結(jié)墊的清洗。

u 在膠粘接或是印刷之前，對高分子聚合制品的表面改性：橡膠粘接，塑料汽車部件，透鏡保護(hù)膜,塑料薄膜,樹脂成型空氣袋,IC包裝,注射針接合部份的表面性,介入導(dǎo)管的表面改型等。

u 科研過程的表面清洗及處理：半導(dǎo)體，生物芯片，納米材料，聚合物，光化學(xué)等。              

紫外臭氧清洗機適用的樣品類型包括:

· 石英

· 硅

· 二氧化硅

· 氮化硅

· 金

· 鎳

· 鋁

· 砷化鎵

· 氧化鋁

· 玻璃

· 不銹鋼

產(chǎn)品特點

u 成本低。

u 120x120mm樣品臺。

u 大處理樣品高14mm。

u 抽屜式樣品臺，簡單方便。                                 

u 樣品臺自動安全開關(guān),打開UV自動關(guān)閉，防止對人身傷害。                

  UVO顯示器

u LCD屏顯示“已用時間”和“剩余時間”。

u 60分鐘定時器。

u 高強度UV燈源。

u 可控溫的樣品臺。

u 樣品清洗無需溶劑。

u 超凈表面。                                                                                 

UVO樣品托盤

二、技術(shù)參數(shù)