低頻輸出：低頻高電壓電源

反應(yīng)腔：Φ100×200mm

經(jīng)濟(jì)型、通過等離子化氣體的活性作用對處理對象表面進(jìn)行改質(zhì)、清洗。

■ 用途

<清洗>

● 有機(jī)膜的去除（油，蠟等有機(jī)膜）。

● 電子零件，光學(xué)零件和微小部件的清洗、電鍍、涂層前處理。

● 細(xì)菌的消毒等（通過氧自由基進(jìn)行細(xì)胞膜的蝕刻或通過紫外線進(jìn)行消毒）。

<表面改質(zhì)>

● 高分子材料表面的官能基付與→ 粘合性，密著性提高。通過氧化反應(yīng)，在表面生成-OH, >C=O, -COOH等官能基（微量的水分及二氧化碳影響）；

● 電子零件，光學(xué)零件和微小部件的清洗、電鍍、涂層前處理。

● 細(xì)菌的消毒等（通過氧自由基進(jìn)行細(xì)胞膜的蝕刻或通過紫外線進(jìn)行消毒）。

同樣，氮?dú)獾入x子時(shí)，表面吸取氮原子生成-NH2官能基。

● 提高各種聚合物的粘結(jié)性以及提高醫(yī)科齒科材料的生物相容性等。

● 通過處理培養(yǎng)皿可以在其上均勻涂抹培養(yǎng)基等。

<蝕刻>

● 有機(jī)高分子材料的蝕刻。對于有機(jī)高分子氧氣成為蝕刻氣體，可以進(jìn)行抗蝕劑的蝕刻。

● 促進(jìn)種子發(fā)芽等實(shí)驗(yàn)。

■ 特征

● 經(jīng)濟(jì)型等離子清洗機(jī)。

● 簡單的等離子處理操作。

● 無需高頻使用申請。

■ 規(guī)格