彩色抗蝕劑（RGB）的薄膜厚度測量[FE - 0003]

液晶顯示器的結(jié)構(gòu)通常如右圖所示。 CF在一個像素中具有RGB，并且它是非常精細(xì)的微小圖案。 在CF膜形成方法中，主流是采用應(yīng)用在玻璃的整個表面上涂覆基于顏料的彩色抗蝕劑，通過光刻對其進(jìn)行曝光和顯影，并且在每個RGB處僅留下圖案化的部分的工藝。 在這種情況下，如果彩色抗蝕劑的厚度不恒定，將導(dǎo)致圖案變形和作為濾色器導(dǎo)致顏色變化，因此管理膜厚度值很重要。

硬涂層膜厚度的測量[FE-0004]

近年來，使用具有各種功能的高性能薄膜的產(chǎn)品被廣泛使用，并且根據(jù)應(yīng)用不同，還需要提供具有諸如摩擦阻力，抗沖擊性，耐熱性，薄膜表面的耐化學(xué)性等性能的保護(hù)薄膜。通常保護(hù)膜層是使用形成的硬涂層（HC）膜，但是根據(jù)HC膜的厚度不同，可能出現(xiàn)不起保護(hù)膜的作用，膜中發(fā)生翹曲，或者外觀不均勻和變形等不良。 因此，管理HC層的膜厚值很有必要。

考慮到表面粗糙度測量的膜厚值[FE-0007]

當(dāng)樣品表面存在粗糙度（粗糙度）時，將表面粗糙度和空氣（air）及膜厚材料以1：1的比例混合,模擬為“粗糙層”，可以分析粗糙度和膜厚度。此處示例了測量表面粗糙度為幾nm的SiN（氮化硅）的情況。

使用超晶格模型測量干涉濾光片[FE-0009]

干涉濾光片是通過控制膜厚及nk進(jìn)行成膜，可以使得在波長帶域里具有任意的反射率和透過率。其中特別是高精度的干涉濾光片是將高折射率層和低折射率層組合（一組），再經(jīng)過數(shù)次這樣的循環(huán)而成膜。以下記述了這類樣品使用超晶格模型測量、分析的案例。

使用非干涉層模型測量封裝的有機(jī)EL材料[FE - 0010]

有機(jī)EL材料易受氧氣和水分的影響，并且在正常大氣條件下它們可能會發(fā)生變質(zhì)和損壞。 因此，在成膜后需立即用玻璃密封。 此處展示了密封狀態(tài)下通過玻璃測量膜厚度的情況。玻璃和中間空氣層使用非干涉層模型。

用界面系數(shù)測量基板的薄膜厚度[FE-0015]

如果基板表面非鏡面且粗糙度大，則由于散射，測量光降低且測量的反射率低于實(shí)際值。而通過使用界面系數(shù)，因為考慮到了基板表面上的反射率的降低，可以測量出基板上薄膜的膜厚度值。 作為示例，展示測量發(fā)絲成品鋁基板上的樹脂膜的膜厚度的例子。

各種用途的DLC涂層厚度的測量

DLC（類金剛石碳）是無定形碳基材料。 由于其高硬度、低摩擦系數(shù)、耐磨性、電絕緣性、高阻隔性、表面改性以及與其他材料的親和性等特征，被廣泛用于各種用途。 近年來，根據(jù)各種不同的應(yīng)用，膜厚度測量的需求也在增加。

一般做法是通過使用電子顯微鏡觀察準(zhǔn)備的監(jiān)測樣品橫截面來進(jìn)行破壞性的DLC厚度測量。而大塚電子采用的光干涉型膜厚計，則可以非破壞性地和高速地進(jìn)行測量。通過改變測量波長范圍，還可以測量從極薄膜到超厚膜的廣范圍的膜厚度。

通過采用我們自己的顯微鏡光學(xué)系統(tǒng)，不僅可以測量監(jiān)測樣品，還可以測量有形狀的樣品。 此外，監(jiān)視器一邊確認(rèn)檢查測量位置一邊進(jìn)行測量的方式，還可以用于分析異常原因。

支持定制的傾斜/旋轉(zhuǎn)平臺，可對應(yīng)各種形狀?？梢詼y量實(shí)際樣本的任意多處位置。

光學(xué)干涉膜厚度系統(tǒng)的薄弱點(diǎn)是在不知道材料的光學(xué)常數(shù)（nk）的情況下，無法進(jìn)行精確的膜厚度測量，對此大塚電子通過使用*的分析方法來確認(rèn)：多點(diǎn)分析。通過同時分析事先準(zhǔn)備的厚度不同的樣品即可測量。與傳統(tǒng)測量方法相比，可以獲得*精度的nk。
通過NIST（美國國家標(biāo)準(zhǔn)與技術(shù)研究院）認(rèn)證的標(biāo)準(zhǔn)樣品進(jìn)行校準(zhǔn)，保證了可追溯性。