G200M，G150M和G150S立式平面干涉儀
適用于計(jì)量機(jī)構(gòu)檢定和校準(zhǔn)光學(xué)平晶。其集 高性能、長(zhǎng)壽命氦氖激光器，1-6.7倍圖像放大功能，高精度的成像系統(tǒng)和圖像采集系統(tǒng)，精密平面 標(biāo)準(zhǔn)鏡等一系列高精技術(shù)，通過優(yōu)化光學(xué)系統(tǒng)和機(jī)械系統(tǒng)結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)高精密平面光學(xué)元件的測(cè)量。
G200M，G150M和G150S激光平面干涉儀為正立式結(jié)構(gòu)，通光口徑分別為200mm和150mm。 G200M彌補(bǔ)了國(guó)內(nèi)使用有效口徑150mm的干涉儀測(cè)試大尺寸光學(xué)系統(tǒng)和光學(xué)元件不能全口徑測(cè)試的不足，改善提高了大口徑光學(xué)系統(tǒng)和光學(xué)元件測(cè)試精度。G200M，G150M和G150S立式平面干涉儀
G150M型平面干涉儀專為計(jì)量級(jí)測(cè)試的需求設(shè)計(jì)，適用于計(jì)量機(jī)構(gòu)檢定和校準(zhǔn)光學(xué)平晶。其集 高性能、長(zhǎng)壽命氦氖激光器，1-6.7倍圖像放大功能，高精度的成像系統(tǒng)和圖像采集系統(tǒng)，精密平面 標(biāo)準(zhǔn)鏡等一系列高精技術(shù)，通過優(yōu)化光學(xué)系統(tǒng)和機(jī)械系統(tǒng)結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)高精密平面光學(xué)元件的測(cè)量。
G150S為G150M的簡(jiǎn)化版本，適合光學(xué)車間的現(xiàn)場(chǎng)檢驗(yàn)。G200M，G150M和G150S立式平面干涉儀
主要用途：平面類光學(xué)元件（包括玻璃、金屬、陶瓷等）表面面形、光學(xué)平行度和材料均勻性的 測(cè)試；準(zhǔn)直系統(tǒng)波前質(zhì)量的測(cè)試。
儀器規(guī)格參數(shù)表
產(chǎn)品型號(hào) | G200M | G150M | G150S |
測(cè)量方式 | 菲索干涉原理 | 菲索干涉原理 | 菲索干涉原理 |
有效通光口徑 | 200mm | 152.4mm（6英寸） | 152.4mm（6英寸） |
標(biāo)準(zhǔn)鏡材料 | 熔石英（康寧7980） | 熔石英（康寧7980） | 熔石英（康寧7980） |
光源 | 氦氖激光（632.8nm） | 氦氖激光（632.8nm） | 半導(dǎo)體激光（635nm） |
連續(xù)變焦倍數(shù) | 1-6.7倍 | 1-6.7倍 | 固定倍率 |
光路切換 | 對(duì)準(zhǔn)（十字叉絲）與測(cè)試（干涉場(chǎng)）模式電控切換 | ||
顯示方式 | 計(jì)算機(jī)或獨(dú)立監(jiān)視器實(shí)時(shí)顯示 | ||
平面透過標(biāo)準(zhǔn)鏡 | PV：優(yōu)于λ/15 | PV：優(yōu)于λ/20，可定制更高精度標(biāo)準(zhǔn)鏡 | |
平面反射標(biāo)準(zhǔn)鏡 | 選配 | 標(biāo)配 | 選配 |
衰減過濾片 | 選配 | 選配 | 選配 |
儀器尺寸·(長(zhǎng)X寬X高) | 550X550X1100mm | 550X550X1070mm | 550X550X1070mm |
儀器重量 | 100KG | 80KG | 80KG |
電源 | AC100-240V 50/60Hz | AC100-240V 50/60Hz | AC100-240V 50/60Hz |
氣浮平臺(tái)（長(zhǎng)X寬） | 標(biāo)配(1200X600mm) | 標(biāo)配（1200X600mm） | 選配 |
