XMA2000金相顯微鏡
在反射光照明下可進(jìn)行明暗場觀察和DIC觀察、偏光觀察。在透射光下作明場觀察。穩(wěn)定、高品質(zhì)的光學(xué)系統(tǒng)使成像更清晰，襯度更好。符合人機工程學(xué)要求的設(shè)計，使您在工作中感到舒適和放松。
XMA2000金相顯微鏡是針對半導(dǎo)體工業(yè)、硅片制造業(yè)、電子信息產(chǎn)業(yè)、冶金工業(yè)需求而開發(fā)的，作為高級金相顯微鏡用戶在使用時能夠體驗其*性能，可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、FPD、電路封裝、電路基板、材料、鑄件/金屬/陶瓷部件、精密模具的檢測。本儀器采用了反射和透射兩種照明形式，在反射光照明下可進(jìn)行明暗場觀察和DIC觀察、偏光觀察。在透射光下作明場觀察。穩(wěn)定、高品質(zhì)的光學(xué)系統(tǒng)使成像更清晰，襯度更好。符合人機工程學(xué)要求的設(shè)計，使您在工作中感到舒適和放松。
| 技術(shù)規(guī)格XMA2000金相顯微鏡 | |
| 觀察頭 | 30°鉸鏈?zhǔn)饺浚?0mm-75mm） |
| 目鏡 | WF10×/25mm |
| WF10×/20mm,帶0.1mm十字分劃板 | |
| 物鏡 | 平場無限遠(yuǎn)長工作. 距離明暗場物鏡：5×/0.1B.D/W.D.29.4mm、 10×/0.25B.D/W.D.16mm、20×/0.40B.D/W.D.10.6mm、50×/0.60B.D/W.D.5.4mm、 |
| 轉(zhuǎn)換器 | 帶DIC插孔四孔轉(zhuǎn)換器 |
| 平臺 | 雙層移動平臺 |
| 平臺尺寸: 189mm×160mm | |
| 移動范圍：80mm×50mm | |
| 濾色片 | 插板式濾色片（綠、藍(lán)、中性） |
| 聚光鏡 | N.A.1.25阿貝聚光鏡帶可變光闌和濾色片 |
| 調(diào)焦 | 粗、微動同軸調(diào)焦，采用齒輪齒條傳動機構(gòu).微動格值0.002mm |
| 光源 | 透射照明:鹵素?zé)?2V/50W, AC85V-230V,亮度可調(diào)節(jié) |
| 落射照明:帶孔徑光欄和視場光欄，鹵素?zé)?2V/50W，AC85V-230V, 亮度可調(diào)節(jié) | |
| 偏光裝置 | 檢偏鏡可360度轉(zhuǎn)動，起偏鏡、檢偏鏡均可移出光路 |
| 檢測工具 | 0.01mm測微尺 |
| 可供附件選擇 | 二維測量軟件 |
| 專業(yè)金相圖像分析軟件 | |
| 落射照明：鹵素?zé)?2V/100W, AC85V-230V,亮度可調(diào)節(jié) | |
| 平場無限遠(yuǎn)長工作距離明暗場物鏡:50×/0.55B.D/W.D.5.1mm、 80×/0.75B.D/W.D.4mm、100×/0.80B.D/W.D.3mm | |
| 測微目鏡 | |
| 130萬、200萬、300萬、500萬像素CMOS電子目鏡 | |
| 攝影裝置及CCD接口0.5×、0.57×、0.75× | |
| DIC（10×、20×、40×、100×） | |
| 壓平機 | |
| 彩色1/3寸CCD 520條線 | |
特點說明
1． 采用了UIS高分辨率、長工作距離無限光路校正系統(tǒng)的物鏡成像技術(shù)。
2． 拓展了物鏡的復(fù)用技術(shù)，無限遠(yuǎn)物鏡與所有觀察法相兼容包括明暗視野法、偏光法，DIC并在
每一觀察法中均提供高清晰的圖像質(zhì)量。
3． 采用非球面Kohler照明，增加觀察亮度。
4． WF10×（Φ25）超大視野目鏡，長工作距離明暗場金相物鏡。
5． 可插DIC微分干涉裝置的轉(zhuǎn)換器。
