科研級微分干涉顯微鏡WYJ-52DIC
是金屬學、礦物學、精密工程學、電子學、半導體工業(yè)、硅片制造業(yè)、電子信息產(chǎn)業(yè)等觀察研究的理想儀器。總放大倍數(shù)：50-800X。
產(chǎn)品概述科研級微分干涉顯微鏡WYJ-52DIC
科研級微分干涉金相顯微鏡WYJ-52DIC配有大范圍移動的載物臺、采用優(yōu)良的無限遠光學系統(tǒng)與多功能、模塊化的設計理念，帶有偏光裝置、微分干涉裝置，可實現(xiàn)偏光觀察、微分干涉觀察等功能。緊湊穩(wěn)定的高剛性主體，充分體現(xiàn)了顯微鏡操作的防振要求。符合人機工程學要求的理想設計，使操作更方便舒適，空間更廣闊。適用于薄片試樣的金相、礦相、晶體、硅片、電路基板、FPD等結構分析和研究，或用于TFT液晶顯示屏導電粒子分析研究。是金屬學、礦物學、精密工程學、電子學、半導體工業(yè)、硅片制造業(yè)、電子信息產(chǎn)業(yè)等觀察研究的理想儀器?？偡糯蟊稊?shù)：50-800X。科研級微分干涉顯微鏡WYJ-52DIC
◆產(chǎn)品特點：
1、采用了*的無限遠光路設計，提供了的光學系統(tǒng)。
2、采用大視野目鏡和無限遠長距平場物鏡，視場平坦,成像清晰。
4、整機采用了防霉處理，保護了鏡頭，延長了儀器的使用壽命。
5、兩路光路自由切換輸出，一路用于觀察，一路連接攝像裝置。
6、配有大范圍移動的移動載物臺，適合對大型工件觀察和研究。
◆典型應用：
1、電子工業(yè)制造業(yè)對硅片、電路基板、FPD、PCB板、芯片檢驗，
2、觀察材料表面的某些特性，3、分析金屬、礦相內(nèi)部結構組織。
規(guī)格參數(shù)
一、顯微鏡參數(shù)：
序號 | 名稱 | 技術參數(shù) |
01 | 平場目鏡 | 大視野WF10X(Φ22mm) |
02 | 明暗平場物鏡 | 無限遠長距PLL 5X/0.10DIC、10X/0.25DIC、20X/0.40DIC、50X/0.60、80X/0.75 |
03 | 總放大倍數(shù) | 50X-800X |
04 | 觀察頭 | 三目，鉸鏈式30°傾斜可360°旋轉(zhuǎn) |
05 | 轉(zhuǎn)換器 | 五孔(內(nèi)向式滾珠內(nèi)定位) |
06 | 粗微調(diào)焦機構 | 粗微動同軸調(diào)焦,帶鎖緊和限位裝置,微動格值:2μm. |
07 | 載物臺 | 雙層機械移動式(尺寸:280mmX270mm,移動范圍: 204mmX204mm) |
08 | 光瞳距離 | 53-75mm |
09 | 落射照明系統(tǒng) | 12V50W鹵素燈, 亮度可調(diào) |
內(nèi)置視場光欄、孔徑光欄、(藍、綠、黃、磨砂玻璃)濾色片轉(zhuǎn)換裝置， | ||
10 | 偏光裝置 | 推拉式起偏振器 微分干涉相襯插板適用于5X,10X,20X,DIC物鏡 |
11 | 儀器重量 | 凈重11.0公斤 毛重12.5公斤 |
12 | 儀器尺寸 | 儀器尺寸42X45X45（cm） 包裝尺寸45X50X50(cm) |
二、目鏡參數(shù)：
型號 | 放大倍率 | 視場直徑(mm) | 外徑(mm) |
WF10X/22 | 10X | Φ22 | Φ30.0 |
三、物鏡參數(shù)：
放大倍率 Magnification | 數(shù)值孔徑 N.A | 分辨率 R(μm) | 工作距離WD(mm) | 共軛距離Conjugate(mm) | 齊焦距離Parfocus(mm) | 蓋玻片厚度CoverGlass(mm) |
5XDIC | 0.12 | 2.55 | 18.2 | ∞ | 45 | 無 |
10XDIC | 0.25 | 1.10 | 20.2 | ∞ | 45 | 無 |
20XDIC | 0.40 | 0.70 | 6.00 | ∞ | 45 | 無 |
40X | 0.60 | 0.55 | 3.98 | ∞ | 45 | 無 |
80X | 0.80 | 0.42 | 1.25 | ∞ | 45 | 無 |
