1.等離子表面處理設(shè)備的處理時(shí)間是多少？

等離子設(shè)備的處理聚合物表面所發(fā)生的化學(xué)改性是因?yàn)樽杂苫入x子設(shè)備處理的時(shí)間越長(zhǎng)，放電的功率就越大，所以這是需要一個(gè)很好的掌握性的。（不能用這種方法除去物體表面的切削粉末，這點(diǎn)在清洗金屬表面油垢時(shí)表現(xiàn)尤為明顯。）

2.普遍等離子表面處理機(jī)的功率是多少？

常用的等離子設(shè)備功率大概是一千W。

實(shí)踐證明不能用它清除很厚的油污，雖然用等離子體清洗少量附著在物體表面的油垢有很好的效果，但是對(duì)厚油垢的清除效果往往不佳，一方面用它清除油膜，必須延長(zhǎng)處理時(shí)間，使清洗的成本大大提高，另一方面有可能是它在與厚油垢相互接觸的過(guò)程中，引發(fā)油垢分子結(jié)構(gòu)中的不飽和鍵發(fā)生了聚合，偶聯(lián)等復(fù)雜反應(yīng)而形成較堅(jiān)硬的樹(shù)脂化立體網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)有關(guān)。一旦形成這類(lèi)樹(shù)脂膜它將很難被清除。因此通常只用等離子體清洗厚度在幾個(gè)微米以下的油污。

3.做過(guò)等離子表面處理機(jī)表面處理的產(chǎn)品可以保留多久？

這個(gè)是根據(jù)產(chǎn)品本身的材質(zhì)來(lái)的，可以建議為了避免產(chǎn)品受到二次污染，在做了等離子表面處理之后可以進(jìn)行下一道工序，這樣可以有效的解決了二次污染問(wèn)題，也提高了產(chǎn)品的性能和質(zhì)量。在應(yīng)用過(guò)程中還發(fā)現(xiàn)不能用等離子體清洗很好除去表面粘附的指紋，而指紋是玻璃光學(xué)元件上常出現(xiàn)的一種污染物。等離子體清洗也不*不能用于除去指紋，但這需要延長(zhǎng)處理時(shí)間，這時(shí)又不得不考慮到這是他會(huì)對(duì)基材的性能造成不良的影響。所以還需要采用其他清洗措施進(jìn)行預(yù)處理相配合。結(jié)果使清洗工藝過(guò)程復(fù)雜化。

4.等離子設(shè)備在使用過(guò)程中會(huì)不會(huì)產(chǎn)生有害物質(zhì)？

這個(gè)問(wèn)題也是不需要去擔(dān)心的，因?yàn)榈入x子設(shè)備在處理的時(shí)候它有全套的防范措施，會(huì)配備排風(fēng)系統(tǒng)，少部分的臭氧會(huì)被空氣電離，所以對(duì)人體是沒(méi)有什么危害性的。由于等離子體清洗過(guò)程需要進(jìn)行真空處理，而且一般為在線為在線或批量生產(chǎn)，因此在把等離子體清洗裝置引進(jìn)生產(chǎn)線時(shí)，必須考慮到被清洗工件的貯存和移送的問(wèn)題，特別是當(dāng)被處理工件體積較大，數(shù)量較多更應(yīng)考慮到這個(gè)問(wèn)題。

而在實(shí)驗(yàn)中當(dāng)我們想要對(duì)各種材料的表面做清洗活化腐蝕沉積或者聚合等操作的時(shí)候，*的就是一臺(tái)低溫等離子處理設(shè)備，而作為實(shí)驗(yàn)室經(jīng)常使用的高精尖設(shè)備，如果使用低溫等離子設(shè)備的操作不當(dāng)很有可能導(dǎo)致設(shè)備損壞或者運(yùn)行結(jié)果受到影響，所以今天三和波達(dá)小編就來(lái)說(shuō)說(shuō)低溫等離子清洗設(shè)備使用的注意事項(xiàng)。

一，低溫等離子清洗設(shè)備在運(yùn)行的時(shí)候?qū)τ陔娫吹囊笫?20V的交流電頻率為50HZ的電源，應(yīng)該在開(kāi)啟設(shè)備之前做好電源的連接和檢查工作，設(shè)備運(yùn)行之后應(yīng)該發(fā)出的是平穩(wěn)的運(yùn)轉(zhuǎn)聲，而且通常會(huì)有綠色的指示燈常亮來(lái)顯示設(shè)備正常運(yùn)行，如果出現(xiàn)黃色故障燈亮起，則要停止運(yùn)行進(jìn)行排休檢查。

二，在使用三和波達(dá)低溫等離子清洗設(shè)備的時(shí)候，應(yīng)該特別注意紅色的警示燈，通常設(shè)備運(yùn)行出現(xiàn)問(wèn)題或者抖動(dòng)頻率過(guò)快的情況下紅色燈會(huì)常亮，這個(gè)時(shí)候應(yīng)該馬上按下復(fù)位鍵觀察設(shè)備，如果設(shè)備依然出現(xiàn)異常則應(yīng)該停止設(shè)備的運(yùn)行，然后進(jìn)行故障的排查，以避免設(shè)備出現(xiàn)損壞。

三，在使用低溫等離子清洗設(shè)備的時(shí)候要定期清洗，而清洗的時(shí)候必須要先斷開(kāi)電源，然后再打開(kāi)真空倉(cāng)和電控箱，而且注意按照說(shuō)明書(shū)上要求的規(guī)范清洗，除此之外現(xiàn)在很多低溫等離子設(shè)備的真空倉(cāng)都是外置環(huán)形電級(jí)所以不容易出現(xiàn)腔內(nèi)污染。

綜上所訴可知：等離子體清洗技術(shù)適用于對(duì)物體表面的油，水及微粒等輕度油污進(jìn)行清洗，而且利于“速戰(zhàn)速?zèng)Q”的在線或批量清洗。以上提到的幾點(diǎn)基本上是所有類(lèi)型的低溫等離子清洗設(shè)備的使用注意事項(xiàng)，而隨著設(shè)備的種類(lèi)日漸繁多，操作人員在使用前應(yīng)該詳細(xì)閱讀并了解使用說(shuō)明才行，很多低溫等離子設(shè)備還需要操作人員受到上崗培訓(xùn)才行。而且隨著很多低溫等離子設(shè)備開(kāi)始帶有自潔功能，設(shè)備的日常保養(yǎng)也變得更加簡(jiǎn)潔。