高剪切石墨烯濕法研磨機，液相剝離單層石墨設(shè)備，機械法制備石墨烯設(shè)備，小型研發(fā)研磨分散機，立式高剪切研磨分散機，流體漿料高效膠體磨，中試型高速研磨分散機，循環(huán)式降溫研磨設(shè)備，耐有機溶劑研磨分散機，防腐蝕高速研磨分散機
上海依肯公司的研磨分散設(shè)備（CMSD）目前已廣泛應用于石墨烯、碳納米管、鱗片石墨、蠕蟲石墨、活性炭等碳材料中，在鋰電池、光伏材料、光催化材料、醫(yī)藥等多重領(lǐng)域上應用顯zhu，客戶遍布全國各省市，客戶群體包括各大藥企、科研機構(gòu)、新興企業(yè)、民營企業(yè)、國營及事業(yè)單位，更有包括帝斯曼、泰萊、奇華頓等多跨國企業(yè)。詳詢上海依肯 林萬翠
上海依肯CMSD2000系列研磨分散機,可以很好的解決顆?；蚍垠w漿料易團聚、分散細化不均勻等問題，其已廣泛應用于石墨烯、碳納米管、活性炭、納米粉體、高分子材料等多種新材料的制備應用上。CMSD2000系列的膠體磨（錐體磨）分散頭的組合,可以先將物料（配入溶劑和分散劑）研磨細化,然后再經(jīng)過分散頭,進行分散。這樣既可以細化又可以避免團聚的現(xiàn)象,為新材料行業(yè)提供了強有力的設(shè)備力量。
.CMSD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。
適用工藝：CMSD研磨分散機適用于高精細度的分散、均質(zhì)、乳化、混合、破碎、速度快、效率高、效果好。詳詢上海依肯 林萬翠
IKN研磨分散機綜合了均質(zhì)機、球磨機、三輥機、剪切機、攪拌機等機械的多種性能，具有*的超微粉碎、分散乳化、均質(zhì)、混合等功效。物料通過加工后，粒度達0.02～50微米，均質(zhì)度達90%以上，是超微粒加工的理想設(shè)備。該機適用于制藥、食品、化工及其他行業(yè)的濕物料超微粉碎，能起到各種半濕體及乳狀液物質(zhì)的粉碎、乳化、均質(zhì)和混合，主要技術(shù)指標已達到國外同類產(chǎn)品的xian進水平。
CMSD2000系列高剪切石墨烯濕法研磨機設(shè)備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMSD2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
CMSD2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
CMSD2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
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