中外合作* 交貨周期短 優(yōu)質(zhì)的國產(chǎn)質(zhì)量流量控制器,性能比肩進口
產(chǎn)品為定制產(chǎn)品(可特殊定制)價格需電議
山西仁荷微電子科技有限公司主要生產(chǎn)INHA氣體質(zhì)量流量控制器,氣體流量計。 本公司生產(chǎn)的氣體質(zhì)量流量控制器廣泛應(yīng)用于工業(yè)氣體、石油、化工、醫(yī)療、電子及微電子、半導體、太陽能光伏、各類實驗室、研究所、生物醫(yī)藥、標準檢測等各類*領(lǐng)域。如:真空鍍膜設(shè)備、光電產(chǎn)業(yè)到工業(yè)工具的表面鍍膜、SPUTTER磁控濺射臺、PVD、CVD、MOCVD、氧化、等離子刻蝕、離子注入,直拉式晶爐,精密半導體、燃料電池、氣調(diào)儲存保鮮相關(guān)設(shè)備、生物反應(yīng)器、生物過程控制器、食品及制藥產(chǎn)業(yè)、醫(yī)療設(shè)備、氣相色譜儀等相關(guān)行業(yè)。
產(chǎn)品優(yōu)勢:
本公司為國內(nèi)研發(fā)生產(chǎn)廠商,相比國外品牌交貨周期短 所需成本低 優(yōu)質(zhì)的性能性價比
主要技術(shù)指標:
編號 項目 MF-200C MF-200M
1 流量規(guī)格(N2) 10sccm~30slpm
2 準確度 ±1%F.S(Full Scale)
3 重復精度 ±0.25%F.S(Full Scale)
4 響應(yīng)時間 ≤2sec(特別要求時:≤1sec)
5 耐壓 ≤90bar
6 工作環(huán)境溫度 0℃~50℃
7 輸入輸出信號 0~5V 0~5V or 4~20mA
8 供電 +15Vdc or +24Vdc 350mA
9 漏率 1×10atm.cc/sec
10 使用范圍 2~100%滿量程
本公司自主開發(fā)研制的產(chǎn)品具有抗*力強,測量精度高、量程比大、工作穩(wěn)定可靠、對安裝要求低、對流體狀態(tài)要求低,壓力損失小等優(yōu)點,且易清洗、具備自排空功能;其基本技術(shù)指標已達到*水平,可直接用來測量管道中介質(zhì)的質(zhì)量流量及總量、體積流量及總量、介質(zhì)的密度、溫度、溶液的濃度以及較均勻混合的兩種液體各自的濃度等參數(shù)。 每臺傳感器都由不銹鋼材料制造,變送器的多種輸出能滿足您的各種需求。
MF系列產(chǎn)品:
MF系列MF-200C MF-200M特點:
有很寬的工作壓力范圍,產(chǎn)品可以從真空直到10Mpa;本產(chǎn)品可以使用多種氣體介質(zhì)(包括一些腐蝕性氣體);有很寬的流量范圍,產(chǎn)品zui小流量范圍可達0~10sccm,zui大流量范圍可達0~30slpm。流量控制范圍是滿量程的2~(量程比為50:1)。
——耐高壓(zui大工作壓力可達100bar)
——響應(yīng)時間快≤1sec
——準確率高
——穩(wěn)定的流量控制
——壓力范圍廣
——尺寸小
——連接方便,快拆快擰
——交貨周期短
——優(yōu)惠的價格性價比
——模擬輸入輸出接口(0-5Vdc或4-20mA可選)
——連接尺寸與其他標準質(zhì)量流量器兼容
工作原理:
•流量傳感器采用毛細管傳熱溫差量熱法原理氣體的質(zhì)量流量(無需溫度壓力補償)。
•將傳感器加熱電橋測得的流量信號送入放大器放大,放大后的流量檢測電壓與設(shè)定電壓進行比較,再將差值信號放大后去控制調(diào)節(jié)閥門,閉環(huán)控制流過通道的流量使之與設(shè)定的流量相等。
•分流器決定主通道的流量。
•與之配套的流量顯示儀上設(shè)置有穩(wěn)定電源,3位半數(shù)字電壓表,設(shè)定電位器,外設(shè)、內(nèi)設(shè)轉(zhuǎn)換和三位閥控開關(guān)等。
•控制器輸出的流量栓檢測電壓與流過通道的質(zhì)量成正比,滿量程(F.S)流量檢測輸出電+5V。氣體質(zhì)量流量控制器的流量控制范圍是(2~100)%F.S(程比為50:1)
如圖:
結(jié)構(gòu):
氣體質(zhì)量流量計由流量傳感器(Sensor),分流器通道和流量放大電路等部件組成;在氣體質(zhì)量流量計的基礎(chǔ)上,再加上調(diào)節(jié)閥門和PID控制電路就構(gòu)成了氣體質(zhì)量流量控制器。
用途和特點:
氣體質(zhì)量流量控制器(MFC)在石化工業(yè)、生化、半導體和集成電路工業(yè)、特種材料學科、醫(yī)藥、蔬果保鮮、加氣飲料、環(huán)保和真空等多種領(lǐng)域的科研和生產(chǎn)中有著重要的應(yīng)用。其典型的場合包括:電子工藝設(shè)備,如:氧化、CVD、MOCVD、擴散、外延、等離子刻蝕、離子注入、濺射、以及微反應(yīng)裝置、混氣配氣系統(tǒng)、真空鍍膜設(shè)備、光纖熔煉、氣相色譜儀及其他分析儀器。