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ITO 薄膜作為一種重?fù)诫s的 n 型半導(dǎo)體材料，具有較高的可見光平均透過率 (>80%) ， 高載流子濃度 (10 20 ~10 21 cm -3 ) 以及低電阻率 (10 -4 ? ? cm) ，其禁帶寬度在 3.5-4.3e V 之間， 同時(shí)具有光電性質(zhì)可調(diào)、化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定及易刻蝕等優(yōu)點(diǎn)，因此在探測(cè) 、傳感 、平 面顯示  、太陽能電池  等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。然而，由于ITO屬于非化學(xué)計(jì)量學(xué)化合物,薄膜的淀積條件、清洗方法及表面處理工藝都對(duì)ITO薄膜表面的化學(xué)組成及表面性能產(chǎn)生深刻影響。特別是采用表面處理可僅改變ITO薄膜的表面性能，而不改變ITO薄膜主體的光電性能,對(duì)改善OLED的光電性能起著非常重要的作用。OLED制作中經(jīng)常用于ITO薄膜表面處理的方法有:化學(xué)方法酸或堿處理)和物理方法(氧等離子體處理輝光放電及臭氧環(huán)境紫外線處理等)，其中氧等離子體處理是的方法。

采用真空氧等離子處理不僅可以清潔ITO表面,增大其功函數(shù),而且可以減小由ITO向OLED的空穴傳輸層注入空穴所需克服的勢(shì)壘;另一方面，該處理還對(duì)ITO薄膜表面的潤濕性能有所改善，提高有機(jī)材料在ITO薄膜上的成膜性能。

氧等離子體表面處理對(duì)ITO薄膜潤濕性的影響

有機(jī)物在ITO膜上的潤濕性越好,有機(jī)物溶液或液滴在其表面上的鋪展也就更均勻，更易獲得良好的薄膜。評(píng)價(jià)薄膜表面潤濕性的主要參數(shù)是接觸角0,由文獻(xiàn)知道小接觸角與高表面能有關(guān),而表面吸附力與表面能有關(guān),而且可用表面能的增加來解釋吸附力的增加,因此可通過薄膜表面吸附力來間接獲得薄膜潤濕性能的相關(guān)信息。

下圖給出了氧等離子體處理前后ITO薄膜表面水滴角的比較典型的變化

可以發(fā)現(xiàn)經(jīng)氧等離子體處理之后ITO薄膜的接觸角變小

氧等離子體處理使ITO薄膜表面能增加的原因，可主要?dú)w因于氧等離子體處理可去除薄膜表面的有機(jī)污染物。實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn)氧等離子體處理能夠減少ITO薄膜的峰狀凸起提高薄膜的平整度,這將改善OLED的穩(wěn)定性和壽命;而且經(jīng)過處理之后，ITO薄膜的表面吸附力增大將近一倍，使ITO薄膜表面的潤濕性能和吸附性能得到改善，這將促進(jìn)有機(jī)物在ITO薄膜表面上的成膜。