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在工業(yè)應用中，光學3D表面輪廓儀超0.1nm的縱向分辨能力能夠高精度測量物體的表面形貌，可用于質(zhì)量控制、表面工程和納米制造等領域。

與其它表面形貌測量方法相比，SuperViewW系列光學3D表面輪廓儀達到納米級別的相移干涉法(PSI)和垂直掃描干涉法(VSI)，具有快速、非接觸的優(yōu)點。它結(jié)合了跨尺度納米直驅(qū)技術、精密光學干涉成像技術、連續(xù)相移掃描技術三大技術，能夠濾除光源不均勻帶來的誤差，以超越0.1nm的縱向分辨能力，讓顯微形貌分毫畢現(xiàn)；以優(yōu)于0.1%的臺階測量重復性，讓測量數(shù)據(jù)萬千如一。

在半導體行業(yè)，SuperViewW系列光學3D表面輪廓儀可用于檢測芯片表面缺陷和顆粒，確保產(chǎn)品的質(zhì)量和性能，從而將不良產(chǎn)品阻截在市場之外；IC封裝中用于測量減薄之后的厚度、晶圓的粗糙度、激光切割后的槽深槽寬，測量導線框架的粗糙度；在分立器件封裝中，測量QA對打線深度，彈坑深度。

減薄工序中粗磨和細磨后的硅片表面3D圖像，用表面粗糙度Sa數(shù)值大小及多次測量數(shù)值的穩(wěn)定性來反饋加工質(zhì)量。在生產(chǎn)車間強噪聲環(huán)境中測量的減薄硅片，細磨硅片粗糙度集中在5nm附近，以25次測量數(shù)據(jù)計算重復性為0.046987nm，測量穩(wěn)定性良好。

彈坑深度測量

在涂層表面粗糙度和厚度的研究上，可以監(jiān)測納米級結(jié)構(gòu)的生長過程，為科學研究提供了更準確的測量手段。

此外，不管是從超光滑到粗糙，還是低反射率到高反射率的物體表面，光學3D表面輪廓儀都能夠以優(yōu)于納米級的分辨率，自動聚焦測量工件獲取2D，3D表面粗糙度、輪廓等一百余項參數(shù)。

全透明表面、漫反射表面、鏡面反射表面，可測反射率：覆蓋近0%~100%的表面反射率。

光學3D表面輪廓儀具有高精度、高速度和高可靠性等優(yōu)點，在科學研究、質(zhì)量控制、表面工程和納米制造等領域中，發(fā)揮著舉足輕重的作用。