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目前中國已成為了大的電子產(chǎn)品生產(chǎn)消費(fèi)市場，對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)品的需求大。2019年，中國大陸地區(qū)的半導(dǎo)體銷售額占的35%，且銷售額的增速持續(xù)高于國際市場，中國已經(jīng)成為具活力和前景的半導(dǎo)體產(chǎn)品市場。2019年第四季度以來半導(dǎo)體行業(yè)逐漸復(fù)蘇，產(chǎn)業(yè)開啟了新一輪的補(bǔ)庫存周期，因此2020年季度國內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)表現(xiàn)良好，1月、2月的半導(dǎo)體銷售額分別同比增長5.2%、5.5%，季度的集成電路產(chǎn)量同比大幅增長16%。

智研咨詢發(fā)布的《2020-2026年中國半導(dǎo)體清洗設(shè)備行業(yè)市場經(jīng)營管理及競爭策略建議報(bào)告》數(shù)據(jù)顯示：2015年半導(dǎo)體清洗設(shè)備市場規(guī)模為26億美元，預(yù)計(jì)2020年將達(dá)37億美元，復(fù)合增長率為7%。預(yù)計(jì)中國大陸地區(qū)每年的濕法清洗設(shè)備的空間在15-20億美元，到2023年清洗機(jī)的國產(chǎn)化率可達(dá)40%-50%，即國產(chǎn)設(shè)備的市場空間在40-70億元；且預(yù)計(jì)未來12寸晶圓的槽式和單片式清洗設(shè)備將是市場的主要增量。其中單片式清洗機(jī)領(lǐng)域公司有望成為少數(shù)幾家具備核心技術(shù)的國產(chǎn)設(shè)備商。

清洗為半導(dǎo)體制程重要環(huán)節(jié)，是影響器件成品率及可靠性最重要的因素之一。為減少雜質(zhì)對(duì)芯片良率的影響，實(shí)際生產(chǎn)中不僅需要提高單次清洗效率，還需要在幾乎所有制程前后都進(jìn)行頻繁的清洗，清洗步驟約占整體步驟的1/3。

集成電路制程升級(jí)，清洗環(huán)節(jié)重要性日益凸顯。隨著半導(dǎo)體芯片工藝技術(shù)的發(fā)展，工藝技術(shù)節(jié)點(diǎn)進(jìn)入28納米、14納米等更*等級(jí)，工藝流程不斷延長且越趨復(fù)雜，產(chǎn)線成品率也會(huì)隨之下降。造成這種現(xiàn)象的一個(gè)原因就是*制程對(duì)雜質(zhì)的敏感度更高，小尺寸污染物的高效清洗更困難。解決的方法主要是增加清洗步驟，晶圓清洗將變得更加復(fù)雜、重要及富有挑戰(zhàn)性。

按照清洗原理來分，清洗設(shè)備可分為干法清洗設(shè)備和濕法清洗設(shè)備。濕法工藝是指使用腐蝕性或氧化性較強(qiáng)的溶劑進(jìn)行噴霧或擦洗，使硅表明的雜質(zhì)與溶劑發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成可溶性物質(zhì)或氣體，從而將晶圓表明的顆?；蚱渌饘匐x子清洗掉。干法工藝指不使用化學(xué)試劑的清洗技術(shù)，包含等離子清洗、氣相清洗等。在實(shí)際生產(chǎn)過程中一般將兩種方法結(jié)合使用，目前90%以上的清洗步驟以濕法設(shè)備為主，少部分特定站點(diǎn)使用干法清洗來提高清洗效率。至純科技主要生產(chǎn)濕法清洗設(shè)備。

目前中國市場主要濕法設(shè)備廠商以日本和歐美為主，本土設(shè)備商主要有至純科技、北方華創(chuàng)和盛美半導(dǎo)體，但三家合計(jì)*不到10%。目前來看，盛美半導(dǎo)體目前主要產(chǎn)品是單片式清洗設(shè)備，至純科技的單片式清洗設(shè)備正在客戶驗(yàn)證階段，北方華創(chuàng)和至純科技目前仍主要以槽式清洗為主，三者核心產(chǎn)品存在差異，正面競爭較少。

中國國內(nèi)的半導(dǎo)體清洗設(shè)備的主要廠家有三家，體量都不大，分別是盛美半導(dǎo)體，北方華創(chuàng)和至純科技。盛美股份2019年收入為7.57億元，凈利潤為1.35億元。產(chǎn)品主要是單片式清洗設(shè)備，占比總收入的72.81%，槽式清洗機(jī)設(shè)備占比總收入的6%。北方華創(chuàng)主要清洗設(shè)備產(chǎn)品為單片及槽式清洗設(shè)備，可適用于技術(shù)節(jié)點(diǎn)為65nm、28nm工藝的芯片制造。其中，北方華創(chuàng)自有低端的單片清洗設(shè)備，并通過收購美國Akrion實(shí)現(xiàn)了槽式清洗設(shè)備的國產(chǎn)化。北方華創(chuàng)2019年收入40.58億元，凈利潤3.09億元。清洗機(jī)業(yè)務(wù)大約占比北方華創(chuàng)總收入的5%左右。盛美半導(dǎo)體在國內(nèi)半導(dǎo)體清洗行業(yè)單片式領(lǐng)域*為。產(chǎn)品線豐富，具有顯著技術(shù)優(yōu)勢。其SAPS、TEBO技術(shù)使兆聲波能量均勻分布在晶圓上，避免其對(duì)晶圓電路的損害，同時(shí)又提高了清洗效果。北方華創(chuàng)和至純科技主要以槽式清洗為主，至純科技的單片式清洗設(shè)備正在客戶驗(yàn)證階段，目前三者核心產(chǎn)品存在差異，正面競爭較少。至純科技是單片式清洗機(jī)的后進(jìn)入者，但團(tuán)隊(duì)技術(shù)實(shí)力強(qiáng)。目前在國內(nèi)市場，各晶圓代工廠主要產(chǎn)線依舊集中在14nm以上，至純科技剛切入單片式領(lǐng)域，主要是定制個(gè)性化單片式清洗設(shè)備，目前足以滿足各代工廠的需求。
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上海卯林機(jī)電設(shè)備有限公司是美國Teledyne Api品牌臭氧產(chǎn)品中國區(qū)總代理。

470水中臭氧傳感器是的溶解臭氧測量模塊，為半導(dǎo) 體濕法處理和許多其他工業(yè)過程設(shè)計(jì)。它能 夠提供去離子水或硫酸中濃度高達(dá)150mg/L 的溶解臭氧測量。470已完成“預(yù)備清潔”， 能夠滿足高純度半導(dǎo)體過程的需求，并且可 簡單的直接拼接進(jìn)任何濕法處理的環(huán)流回路 中，支持150 SLPM的流量。 470型傳感器使用雙路取樣傳感技術(shù)，達(dá)到 了的性能，且擺脫了對(duì)參比液體測 量的需求。 通常的安裝僅僅包括470傳感器和特氟龍7包 裹的內(nèi)部連接電纜。470傳感器能夠通過模 擬或數(shù)字信號(hào)向濕法處理過程控制臺(tái)遠(yuǎn)程報(bào) 告測量的濃度。

技術(shù)指標(biāo)
測量原理 ：紫外吸收法，雙路取樣傳感技術(shù)
紫外光源 ：低壓汞燈
測量單位 ：ppmw, mg/L

• 現(xiàn)場檢測
• 在線且全流量監(jiān)測
• 直線通過的流型
• 無移動(dòng)部件
• 無消耗品
• 測量范圍達(dá)150 mg/L
• 遠(yuǎn)程零點(diǎn)校準(zhǔn)
• 高精度紫外吸收法
• 雙光道采樣感應(yīng)技術(shù)
• 不需求日常維護(hù)
• 半導(dǎo)體級(jí)別濕式材料
• 緊湊的特氟龍外殼
• 特氟龍7包裹的內(nèi)部連接電纜

• 液態(tài)溶解臭氧
• 半導(dǎo)體濕法清洗系統(tǒng)
• 超純水系統(tǒng)
• 制藥業(yè)
• 水處理
• 其他工業(yè)過程