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摘要
反相色譜法(Reverse Phase Chromatography, RPC)是分離大多數(shù)常規(guī)樣品的分離模式,該模式一般比其他色譜模式的普適性更好,令人滿意的分離度也讓反相色譜法成為zui廣泛應(yīng)用的純化方法。然而反相色譜法對(duì)于親水性化合物卻不能很好的分離,使用普通的反相色譜柱,這類親水化合物都難以有效地保留。而Hilic柱(參見圖1)對(duì)于這類化合物不僅有合適的保留時(shí)間,還有令人滿意的分離度。
圖1 C18柱和Hilic柱的固定相
常州三泰科技公司的SepaFlash® Hilic柱與快速液相制備色譜系統(tǒng)SepaBeanTM machine結(jié)合有著*的分離性能,本文比較了SepaFlash® Hilic柱與SepaFlash® C18柱在反相模式下對(duì)于兩種強(qiáng)極性化合物的分離效果,實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明SepaFlash® Hilic柱有著的分離效果,為此類化合物的分離純化提供了一套且實(shí)用的解決方案。
實(shí)驗(yàn)
本文所采用的快速分離柱規(guī)格為25g SepaFlash® Hilic柱以及25g SepaFlash® C18柱,樣品為胞嘧啶和*的混合物(結(jié)構(gòu)式參見圖2),在上樣量*相同的條件下,利用快速液相制備色譜系統(tǒng)SepaBeanTM machine(參見圖3)進(jìn)行分離純化,實(shí)驗(yàn)結(jié)果清楚的說明了兩種色譜柱對(duì)于高極性化合物的不同選擇性。
圖2 兩種強(qiáng)極性化合物(A:胞嘧啶;B:維生素C)
圖3. 快速液相制備色譜系統(tǒng)SepaBeanTM machine[申請(qǐng)?jiān)囉?/em>]
實(shí)驗(yàn)參數(shù)設(shè)置如表1所示:
結(jié)果與討論
根據(jù)分離圖譜,我們能準(zhǔn)確測(cè)得保留時(shí)間與峰寬,可用公式計(jì)算相應(yīng)的分離度:
R = 1.18 (t2 - t1) / [(W1/2)1 + (W1/2)2]
式中t1與t2分別為相鄰譜峰的保留時(shí)間,(W1/2)1與(W1/2)2是半峰高處測(cè)得的峰1和峰2的峰寬。根據(jù)公式分別計(jì)算圖4和圖5中相鄰譜峰的分離度,SepaFlash® C18柱中相鄰譜峰的分離度R≈1.53,SepaFlash® Hilic柱中相鄰譜峰的分離度R≈5.97。通過計(jì)算分離度可以看出,SepaFlash® Hilic柱的分離度要遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過SepaFlash® C18柱。
圖4 SepaFlash® C18柱對(duì)混合物的分離圖譜
圖5 SepaFlash® Hilic柱對(duì)混合物的分離圖譜
實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,SepaFlash® Hilic柱表現(xiàn)出了的選擇性,成功地保留和分離了胞嘧啶和*的混合物。根據(jù)分離圖譜可以看出,即使在SepaFlash® C18反相柱上以高達(dá)95%的水溶液流動(dòng)相來分離,這兩種強(qiáng)極性化合物也只有很弱的保留,并且混合物樣品沒有得到基線分離。對(duì)比C18反相柱的分離結(jié)果,我們可以看到混合物樣品在SepaFlash® Hilic柱上不僅有合適的保留時(shí)間,而且有理想的分離度。因此,本文中的方法為強(qiáng)極性化合物的快速分離純化提供了一套且實(shí)用的解決方案。
關(guān)于SepaFlash® 親水性色譜柱
SepaFlash®親水性色譜柱包括一系列預(yù)裝有不同填料的色譜柱,如Hilic柱、氰基柱(-CN)、氨基柱(-NH2)和二醇柱(-Diol)等(參見表2和圖6),為分離純化強(qiáng)親水性或者強(qiáng)極性的化合物提供了多種選項(xiàng)。
*注:上述固定相均具有5.0g,20g,33g,48g,105g,155g,300g及420g的規(guī)格,具體參數(shù)請(qǐng)查詢公司上的訂購(gòu)信息。
圖6. SepaFlash® 親水性色譜柱產(chǎn)品
關(guān)于SepaBeanTM Machine
SepaBean™ machine是三泰科技(常州)有限公司經(jīng)過全體科研人員,共同努力開發(fā)的一款快速液相制備色譜系統(tǒng),擁有國(guó)家保護(hù)。除了常規(guī)的分離純化功能外,還具備強(qiáng)大的學(xué)習(xí)能力和數(shù)據(jù)共享功能,為科研工作者挑戰(zhàn)更多更復(fù)雜的分離純化難題助力。
(本文作者為CBG應(yīng)用技術(shù)研究中心:王玉麟,孫文,徐波,有任何疑問,都可以和我們一起探討)
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