一，設(shè)備介紹

 在金相試驗室，金相試樣制備過程中，試樣的預磨、拋光、研磨、是多道*的程序。本機XAP-2研磨拋光機是通過多方面市場調(diào)研和廣泛聽取操作使用人員的意思及要求開發(fā)設(shè)計而成，該機的集污盤和罩采用玻璃鋼整體制成，具有外形更新穎美觀產(chǎn)品。

　     本機集三種功能為一身，可適應(yīng)多種材料的試樣制備。該機的磨、拋、研盤直徑均大于國內(nèi)同類產(chǎn)品。磨、拋、研盤的轉(zhuǎn)速獨立操作可無極調(diào)速，是金相試樣制備*設(shè)備。

二，主要參數(shù)：

    研磨盤直徑：220mm （可選230、200）

　　拋盤直徑：220mm   （可選230、200）

砂紙直徑：220mm    （可選230、200）

轉(zhuǎn)　　速：四檔速度  低速時兩盤300/500r/min，

高速時兩盤600/1000 r/min

　　電動機： 350W,  380V,50Hz

　　外形尺寸：760×640×330mm

　　凈　　重：55Kg