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Leica DM 4 P& MSP9000C專業(yè)煤巖反射率分析儀

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產(chǎn)品簡介

關(guān)鍵詞：煤巖分析儀、煤巖反射率分析、煤巖分析系統(tǒng)、煤巖分析、煤炭分析儀、徠卡煤巖分析儀、蔡司煤巖分析儀、煤質(zhì)分析儀德國徠卡專業(yè)的煤巖分析儀器

詳細介紹

關(guān)鍵詞：煤巖分析儀、煤巖反射率分析、煤巖分析系統(tǒng)、煤巖分析、煤炭分析儀、徠卡煤巖分析儀、蔡司煤巖分析儀、煤質(zhì)分析儀

德國徠卡專業(yè)的煤巖分析儀器，技術(shù)服務(wù)熱線：

劉經(jīng)理霍經(jīng)理

1.整個系統(tǒng)的技術(shù)條件及功能

煤巖光片制備

煤巖光片的顯微觀察與照相

焦炭光片的顯微觀察與照相

煤巖光片的自動掃描照相功能，照相過程可以實現(xiàn)自動移動樣品和自動調(diào)焦，同時可人工干預(yù)微調(diào)焦距，確保圖像清晰率。速度10-20min/樣，可同時提供鏡質(zhì)組反射率和煤巖組成活惰比兩項結(jié)果。

按照現(xiàn)行GB/T 8899-1998《煤的顯微組分組和礦物測定方法》標(biāo)準(zhǔn)方法進行的煤巖顯微組分的定量統(tǒng)計測試。

基于圖像分析的煤巖顯微組分定量統(tǒng)計方法，具有測試過程追溯功能，便于審核。

鏡質(zhì)體反射率的光度計測試方法，符合GB/T 6948-2008《煤的鏡質(zhì)體反射率顯微鏡測定方法》的要求。人工確認測試對象并自動測試鏡質(zhì)組反射率，測試結(jié)果可用于仲裁。

基于圖像分析自動識別鏡質(zhì)組并測試反射率，無需人工干預(yù)，自動形成反射率測試報告。具有測試過程追溯功能。

2.顯微鏡：

(1)符合MT/T 1053-2008《測定鏡質(zhì)體反射率的顯微鏡光度計技術(shù)條件》要求。

(2)光學(xué)系統(tǒng)：偏光專業(yè)反射光路，具有明場（自然光），偏光功能。由明場反光鏡、起偏器和180度旋轉(zhuǎn)檢偏器實現(xiàn)。配有日光濾片?？蓪崿F(xiàn)鏡質(zhì)體隨機反射率、反射率測量和焦炭的觀測。

*(3)物鏡：配備10X干物鏡及50X油浸物鏡（物鏡上標(biāo)有POL XLR，XLR：專門致力于煤巖反射率分析，其他品牌均無針對性物鏡），要求高精度新標(biāo)準(zhǔn)HCS物鏡，使用高折射率低色散材料。光線透過率高，能夠降低透鏡界面漫反射，同時具有防霉功能

*(4)目鏡：配三目鏡筒，一筒用于檢測。雙目用于觀察，目鏡10x/22，帶視度補償功能，配置預(yù)裝10/100測微尺。雙目鏡頭可調(diào)眼距，能保證目鏡齊焦。

(5)光源：采用特制照明系統(tǒng)并使用長壽命高亮度鹵素?zé)?2V/100W及反光碗的柯勒照明方式，帶調(diào)光裝置和顯示。色還原好，提高分辨率，光效高而均勻，有效使用壽命在2000小時。

(6)濾色片及測量附件

安裝濾色片系統(tǒng)，配置日光矯正、隔熱濾片、目鏡測微尺10/100、測微臺尺。

*(7）載物臺360°旋轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)精度±1°

3.自動移動載物臺要求：

*(1)XYZ三軸電動載物臺通過軟件控制實現(xiàn)XY自動移動和Z軸自動調(diào)焦。

*(2)通過軟件控制和顯微攝像頭形成聯(lián)動，自動移動樣品的同時實現(xiàn)自動采集圖像，并可通過人工干預(yù)焦距調(diào)節(jié)確保圖像清晰率。

*(3)自動移動和采集圖像的過程能夠記錄每幅圖像的坐標(biāo)，圖像采集完成后能夠?qū)崿F(xiàn)圖像回溯功能，重新定位已采集的圖像。

*(4)XY軸最小步進精度0.05um，Z軸精度0.1um。XY軸復(fù)位重復(fù)精度<1um。

4.顯微數(shù)碼攝像頭技術(shù)條件

(1)通過軟件控制和自動載物臺形成聯(lián)動，自動移動樣品的同時實現(xiàn)自動采集圖像。

*(2)顯微高精密檢測專用攝像頭：檢測精度要求達到65536級（16bit）；同時可用于輸出彩色圖像，達到256×256×256級色階（24bit）。

*(3) 攝像頭應(yīng)具有足夠的穩(wěn)定工作時間，其線性范圍應(yīng)覆蓋褐煤-無煙煤的鏡質(zhì)組反射率范圍。

*(4)芯片為CCD，尺寸為 2/3 Inch CCD(Color)。

*(5) 光學(xué)接口：C-mount（Recommended: 1× ）。

5.圖像自動采集系統(tǒng)技術(shù)條件

(1)聯(lián)動控制載物臺自動移動和顯微攝像頭自動采集圖像。

(2)支持多種樣品掃描方式、支持自動聚焦方式、自動保存原始圖像數(shù)據(jù)。

(3)掃描區(qū)域大小、數(shù)量可選；聚焦模式分為自動聚焦/手動聚焦,支持暫停/等待拍照；掃描間距支持圖像之間重疊、緊鄰、間隔掃描圖像；掃描回溯支持重新定位并重新掃描。

(4)圖像追溯處理：要求可根據(jù)圖像特征，在人工選取煤巖組分時具有自動識取成片特征相近區(qū)域功能，以減少點擊量；并具有可將已選組分標(biāo)注合成在單張圖像上以及合成保存功能；當(dāng)修正完畢后，可自動統(tǒng)計全部測區(qū)的煤巖組分含量。

6.煤巖自動測試系統(tǒng)技術(shù)條件

*(1)測試過程可追溯：基于圖像分析法測試煤的顯微組分含量和鏡質(zhì)組反射率。在計算機中保留全部圖像和測試過程、測試結(jié)果數(shù)據(jù)，可將測試結(jié)果標(biāo)注于相應(yīng)圖像之上，可反復(fù)調(diào)閱已測試樣品的測試過程和測試結(jié)果，便于審核。

*(2)反射率測試具有半自動人工識別鏡質(zhì)組和全自動識別鏡質(zhì)組并測試反射率兩種功能模式。半自動人工識別鏡質(zhì)組模式嚴格按照現(xiàn)行GB/T 6948-2008《煤的鏡質(zhì)體反射率顯微鏡測定方法》進行測試。全自動識別鏡質(zhì)組模式依預(yù)測模型自動判斷鏡質(zhì)體并測試反射率模式無需人工干預(yù)，自動形成反射率測試報告。

*(3)顯微組分含量測試可按照現(xiàn)行GB/T 8899-2013《煤的顯微組分組和礦物測定方法》進行半自動（人工）測試，也可由計算機自動掃描分析得出煤巖組成（活惰比）數(shù)據(jù)。自動測試可將測試結(jié)果標(biāo)注于相應(yīng)圖像之上，便于審核。

*(4)自動測試焦炭孔隙參數(shù)：通過掃描焦炭切塊樣品，可提供平均孔隙率（%）、平均孔徑（um）、平均壁厚（um）、孔徑區(qū)間分布及壁厚區(qū)間分布含量等數(shù)據(jù)及相應(yīng)圖表。

*(5)半自動（人工）檢測焦炭光學(xué)組織功能：可按照YB/T 077-1995焦炭光學(xué)組織的測定方法進行焦炭光學(xué)組織測量。

*(6)其它組分測量功能：可自定義測量其它需要統(tǒng)計含量的組成。

7.鏡質(zhì)組反射率人工檢測技術(shù)條件

滿足MT/T 1053-2008《測定鏡質(zhì)體反射率的顯微鏡光度計技術(shù)條件》要求。

符合GB/T 6948-2008《煤的鏡質(zhì)體反射率顯微鏡測定方法》的要求。

檢測光譜主峰為546nm，半峰寬8 nm。

檢測精度：可分辨0.0001反射率變化。

檢測區(qū)直徑約2um。

線性：任一標(biāo)樣理論與實測值不超過±0.02%。

穩(wěn)定性：連續(xù)檢測任一標(biāo)樣30min，波動的值與最小值之差不超過理論值2%。

對于所測量的煤的鏡質(zhì)體反射率電信號進行統(tǒng)計分析處理，自動得出相應(yīng)的直方圖。

測試結(jié)果可用于仲裁。

8.標(biāo)準(zhǔn)樣品技術(shù)條件

配備藍寶石、釔鋁石榴石、釓鎵石榴石三個一級標(biāo)樣，符合MT/T 1053-2008《測定鏡質(zhì)體反射率的顯微鏡光度計技術(shù)條件》要求。

9.煤巖磨片成套設(shè)備，包括雙盤研磨、雙盤拋光、熱成型工具及專用浸油等耗材。

10.售后服務(wù)

軟件終生免費升級，所有煤巖反射率及組份測試新標(biāo)準(zhǔn)發(fā)布，都能夠及時更新軟件，滿足新發(fā)布的測試標(biāo)準(zhǔn)要求。

11．供貨清單總表

序號	名稱	規(guī)格型號	產(chǎn)地	數(shù)量	備注
1	顯微鏡	Leica DM 4 P研究級	德國	1臺
2	自動移動物臺	MSP9000C	德國	1臺
3	顯微攝像頭	MSP 9000C	德國	1臺
4	圖像自動采集系統(tǒng)	MSP 9000C	德國	1套
5	煤巖自動測試系統(tǒng)	MSP 9000C	德國	1套
6	計算機、顯示器	聯(lián)想THINKCENTRE M8400t商務(wù)機CPU：I7-3.4G；內(nèi)存：4G；硬盤：1T；顯示器：21.5英寸。	中國	1臺
7	打印機	HP 1108激光	中國	1臺
8	煤巖制樣設(shè)備	鑲嵌機磨片機雙盤拋光機超聲波清洗機	上海	1套
9	標(biāo)準(zhǔn)樣品	一級標(biāo)樣（藍寶石、釔鋁石榴石、釓鎵石榴石）	西安	1套
10	穩(wěn)壓器		德力西	1臺
11	耗材	專用浸油、砂紙等		1套

以下為各部分具體詳細清單：

顯微鏡（Leica DM 4 P）配置與配件表

序號	產(chǎn)品部件名稱	規(guī)格型號	產(chǎn)地	數(shù)量	備注
1	偏光顯微鏡主體		德國LEICA	1臺	德國原裝LEICA(徠卡)生產(chǎn)； Basic stａnd DM4 P TL/RL LED, DM4500主機座，包含透射光路、調(diào)焦機構(gòu), 電源部分和液晶顯示以及色溫恒定CCIC控制系統(tǒng)
2	底板有濾色片盒		德國LEICA	1個	Ground plate with filter magazine
3	6孔可對中物鏡轉(zhuǎn)換頭和反射光路		德國LEICA	1套
4	電動控制孔徑光闌和視場光闌		德國LEICA	1套
5	DIC插槽		德國LEICA	1個	Aufnahme für DIC Prismen/Kompensator
6	三目筒		德國LEICA	1個	Basic Docu Tube POL BDTP
7	出口適配器		德國LEICA	1個	Tube adapter incl. docu. port
8	360°旋轉(zhuǎn)載物臺		德國LEICA	1個	DM4500 POL stage with 45° clickstops
9	燈箱(用于反射光路)		德國LEICA	1個	Lamp housing LED
10	Smith反射器		德國LEICA	1個	POL cube to Smith, fixed
11	目鏡(有測微尺)		德國LEICA	1個	Eyepiece HC PLAN s 10x/22 Br.M +reticule
12	目鏡		德國LEICA	1個	Eyepiece HC PLAN s 10x/22 Br. M
13	反射光起偏器		德國LEICA	1個	Polarizer L ICR/P w. whole-wave plate
14	360°檢偏器		德國LEICA	1個	Analyzer 360°
15	入補償片		德國LEICA	1個	Whole-wave plate
16	10X干物鏡		德國LEICA	1個	Obj. HC PL EPI 10x/0.25 Pol
17	50X物鏡(油鏡)		德國LEICA	1個	Obj. HC PL EPI 50x/0.85 Oil POL
18	反射光濾色片插槽		德國LEICA	1個	Filter slider for IL axis
19	日光型濾片(反射光用)		德國LEICA	1個	Daylight filter DLF
20	測微臺尺		德國LEICA	1個	Stage micrometer
21	防塵罩		德國LEICA	1個	Dust cover for DM 4 P
22	壓平器		上海	1個
23	內(nèi)六角隨機工具		德國LEICA	1套

制樣設(shè)備部分

1	雙盤預(yù)磨機	YM-2A	上海金相	1臺	雙盤
2	雙盤拋光機	PG-2B	上海金相	1臺	雙盤，可單盤控制
3	鑲嵌機	XQ-1型	上海金相	1臺	直徑30mm
4	可調(diào)電阻爐		上海	1臺	1000W
5	小型刀片式粉碎機	XFB-200	上海	1臺
6	篩子	1mm		1套	1MM,0.1MM,0.06MM方孔標(biāo)準(zhǔn)篩，頂蓋、底座各1個
7	電吹風(fēng)		上海	1個

注：如需塊焦切割機可選配。

耗材及輔助件類清單

序號	產(chǎn)品名稱	規(guī)格型號	數(shù)量	備注
1	煤巖專用拋光劑	KD-01P	5Kg
2	煤巖專用拋光布	KD-02P	3張
3	粗磨耐水砂紙	KD-01M	100張
4	細磨耐水砂紙	KD-02M	100張
5	煤巖專用鑲嵌膠粉	KD-01Z	1Kg
6	煤巖專用浸油	KD-01C	2瓶	23℃ Ne=1.518
7	擦鏡紙	KD-02C	10本
8	水平膠泥	KD-03C	1塊
9	載玻片	KD-04C	1盒
10	磨口滴瓶帶滴管	25ml	3個
11	吸耳球		1個
12	塑料燒杯	500ML	2個
13	裁紙刀		1把
14	坩堝		15個
15	小鑰勺		5個	不銹鋼
16	線手套		2副
17	攪拌棒		5根
18	標(biāo)簽液		2瓶	書寫樣品標(biāo)號
19	預(yù)磨機膠圈		2個
20	插排		2個	六孔以上
21	鼠標(biāo)墊		1個
22	產(chǎn)品說明書		1份	電子版