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行業(yè)產(chǎn)品

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鄭州市金水區(qū)智研實驗室設(shè)備經(jīng)營部（個體工商戶）


直流式磁控濺射儀

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參  考  價:39600
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 產(chǎn)品型號

    KT--Z1650PVD

  • 品牌

    其他品牌

  • 廠商性質(zhì)

    生產(chǎn)商

  • 所在地

    鄭州市

規(guī)格

臺 39600元 99臺可售

聯(lián)系方式：張正敏查看聯(lián)系方式

更新時間：2024-07-15 11:23:06瀏覽次數(shù)：153次

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經(jīng)營模式：生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品：178條

所在地區(qū)：河南鄭州市

聯(lián)系人：張正敏 （銷售）

產(chǎn)品簡介
產(chǎn)地 國產(chǎn) 加工定制 是

直流式磁控濺射儀;是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全。配備有電壓、電流反饋，樣品高度調(diào)節(jié)，樣品臺旋轉(zhuǎn)及電動擋板功能，通過定時的調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。

詳細介紹

直流式磁控濺射儀KT-Z1650PVD水冷式濺射源，可實現(xiàn)高功率持續(xù)運行，有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動擋板功能。通過定時調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。

電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛倫茲力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi)，該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高，二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動，該電子的運動路徑很長。

直流式磁控濺射儀KT-Z1650PVD廠家供應(yīng)技術(shù)參數(shù)；

控制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V 電流≤1A

真空

機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺

可旋轉(zhuǎn)φ62 （可安裝φ50基底）

樣品臺轉(zhuǎn)速

8轉(zhuǎn)/分鐘

樣品濺射源調(diào)節(jié)距離

40-105mm

真空測量

皮拉尼真空計（已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa）

預(yù)留真空接口

KF25抽氣口   KF16放氣口 6mm卡套進氣口

 


關(guān)鍵詞：石英玻璃

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