GAIA V2 肽標(biāo)記流體處理器

產(chǎn)品簡介：

 GAIA V2是我們第二代合成單元，用于標(biāo)記含放射性金屬（如68GA）的肽，如DOTATOC或PSMA。該設(shè)計經(jīng)過重新設(shè)計，最大限度地減小了尺寸，并進行了優(yōu)化，以提供快速、簡單和直觀的通用放射性示蹤劑的生產(chǎn)。已修改連接的位置，以減少對熱室空間的需要，并提高維護的便捷性。

產(chǎn)品特點：

•合成時間短，減少因衰變而造成的產(chǎn)量損失

•不需要氣體

•高性能電加熱模塊，可快速高效地貼標(biāo)記

•多個放射性探測器，以增強標(biāo)記流程，實現(xiàn)高效生產(chǎn)質(zhì)量審查（檢測發(fā)展趨勢）

•集成過濾器完整性測試，減少質(zhì)量控制時間和成本

•簡單可靠的機械結(jié)構(gòu)，減少停機時間和維護成本

•功能單元（泵、閥齒輪、反應(yīng)器…）可在幾個簡單的步驟完成。

技術(shù)規(guī)格

通信：USB或LAN（計算機Windows 7或更高版本，32或64位）

電源：230V

功耗：230V/100VA

工作條件：最大相對濕度70%，溫度10-40°C

超壓穩(wěn)定性：5bar

組件

蠕動泵：+/-1 — +/-300rpm，帶旋轉(zhuǎn)和蓋傳感器

閥門數(shù)量：3 x 5

注射器支架數(shù)量：2

反應(yīng)器數(shù)量：1

傳感器

放射性探測器：3個過程控制探測器

1個壓裂檢測器

氣壓傳感器：1

壓力傳感器：精度200至7000mbar：+/-10mbar

反應(yīng)冷卻和加熱

動態(tài)范圍：10-150°C

溫度精度：+/-1.0°C

加熱速度：25°C-100°C<50s

冷卻速度：100°C-30°C<7s

尺寸L379xW195xH307 mm（L14.92英寸x 7.67英寸x 12.08英寸）

帶入口/出口：L440mm（17.32’’）

最大重量：25 kg