OE750全譜火花直讀光譜儀是一款突破性的新型OES金屬分析儀。其涵蓋了金屬元素的全部光譜，并具有同類產(chǎn)品中*低的檢出限。
由于行業(yè)法規(guī)日益嚴(yán)格，供應(yīng)鏈變得復(fù)雜以及更多地使用廢料作為基礎(chǔ)材料，因此鑄造廠和金屬制造商必須將雜質(zhì)和痕量元素控制在*低ppm范圍內(nèi)。在過去，這上等別的OES對許多企業(yè)而言是遙不可及。日立分析儀器推出的新型OE750可改變這一現(xiàn)狀。
這款直讀光譜儀可用于分析所有主要合金元素，并識別金屬中含量極低的雜質(zhì)、痕量元素和處理元素，如鋼中的氮。 OE750的測量速度快、可靠性高且運(yùn)營成本低，可進(jìn)行高性價比的日常分析和**質(zhì)量控制，其性能可與更大、更貴的光譜儀媲美。
OE750全譜火花直讀光譜儀的新光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計的一個優(yōu)點(diǎn)是啟動時間短。由于光學(xué)系統(tǒng)體積小，不到一小時的時間便可啟用儀器?？稍谛枰獧z查來料的情況下，助力實現(xiàn)高批量生產(chǎn)。
除了新的光學(xué)設(shè)計之外，OE750全譜火花直讀光譜儀還有其他支持大批量金屬分析的技術(shù)特性。它有一個新的密封火花臺，具有優(yōu)化層流設(shè)計，可降低氬氣消耗，降低污染的可能性，并大大降低維護(hù)要求。帶有低壓氬氣吹掃的中壓系統(tǒng)可減少泵的使用。這可將泵的功耗降低90，并避免油氣污染，從而增加可靠性和儀器的正常運(yùn)行時間。這使得OE750全譜火花直讀光譜儀具有高可靠性和低運(yùn)行成本。
除**性硬件技術(shù)外，新型OE750還包括可提高性能的軟件。例如，它包括日立牌號數(shù)據(jù)庫，該數(shù)據(jù)庫包含來自69個國家的339,000多種材料的1,200多萬條記錄和標(biāo)準(zhǔn)，減少了人工查閱牌號目錄的時間和潛在錯誤。作為選擇方案，它配有SPC/LIMS包，能夠輕松有效監(jiān)控該儀器所涉過程以及由其控制的過程。這是滿足IATF 16949等標(biāo)準(zhǔn)要求的理想工具。
光譜儀光學(xué)系統(tǒng)
采用帕邢-龍格裝置多塊CMOS光學(xué)系統(tǒng)
羅蘭圓直徑：400 mm
波長范圍：119 – 766nm.
像素分辨率：7 pm
外部入射窗口，方便清洗及更換
實時波長校準(zhǔn)功能保證了優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。
保證儀器能夠在任何惡劣的環(huán)境中持續(xù)正常工作，從實驗室到爐前現(xiàn)場，甚至更嚴(yán)酷的環(huán)境
火花源
全新的數(shù)字光源，電腦調(diào)節(jié)*優(yōu)的火花激發(fā)參數(shù)，幫助降低元素檢出限
高能預(yù)燃技術(shù) (HEPS)
計算機(jī)調(diào)節(jié)參數(shù)
頻率80 – 1000 Hz
電壓250– 500 V
氬氣沖洗火花臺
開放式樣品臺設(shè)計
低氬氣消耗的“噴射電極"技術(shù)
通用可調(diào)樣品適配器
特殊樣品可更換相應(yīng)火花臺
空氣冷卻系統(tǒng)
數(shù)據(jù)輸出
可接駁各種標(biāo)準(zhǔn)打印設(shè)備
數(shù)據(jù)存儲在移動存儲器上或以Excel、PDF形式輸出
網(wǎng)絡(luò)連接通過串口或USB接口
Software軟件
Windows 10操作系統(tǒng),
SpArcfire 光譜儀SpArcfire操作軟件
可選數(shù)據(jù)維護(hù)程序
操作軟件分析功能
控樣校正
局或局部標(biāo)準(zhǔn)化
校準(zhǔn)和分析時再現(xiàn)性檢查
校準(zhǔn)或監(jiān)控樣品的自動顯示
自動標(biāo)識超出曲線范圍的結(jié)果
用戶自定義樣品碼輸入
自動或用戶自定義分析結(jié)果的打印、存儲及輸出
自定義牌號數(shù)據(jù)庫
牌號搜索和牌號鑒定功能
自定義公式輸入
分析結(jié)果可顯示優(yōu)良強(qiáng)度、相對強(qiáng)度、標(biāo)準(zhǔn)化強(qiáng)度和校正強(qiáng)度等多種形式
分析結(jié)果可用濃度、通道濃度表示
單點(diǎn)標(biāo)或多點(diǎn)（高中低）標(biāo)準(zhǔn)化
干擾校正
基體校正
譜線自動切換
任意激發(fā)次數(shù)測量結(jié)果的平均值、標(biāo)準(zhǔn)偏差及相對標(biāo)準(zhǔn)偏差等計算
硬件故障自動診斷
光譜圖形顯示
譜圖信息存儲
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