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半導(dǎo)體器件參數(shù)測(cè)試儀iv+cv曲線分析
半導(dǎo)體電學(xué)參數(shù)測(cè)試設(shè)備IV+CV曲線掃描儀
半導(dǎo)體器件測(cè)試設(shè)備iv+cv一鍵測(cè)量
產(chǎn)地 | 國(guó)產(chǎn) | 加工定制 | 否 |
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集電極-發(fā)射極?最大電壓 | 3500V | 最大電流 | 6000A |
精度 | 0.1% |
目前,功率半導(dǎo)體器件市場(chǎng)呈現(xiàn)出集成化和模塊化、高性能和高可靠性、多電平技術(shù)、新型器件結(jié)構(gòu)和工藝、智能化和可重構(gòu)等發(fā)展趨勢(shì)和發(fā)展方向。功率半導(dǎo)體器件作為應(yīng)用于嚴(yán)苛環(huán)境下的高功率密度器件,對(duì)器件可靠性要求居于所有半導(dǎo)體器件的前列。因此,對(duì)器件精準(zhǔn)的性能測(cè)試要求、符合使用場(chǎng)景的可靠性測(cè)試條件以及準(zhǔn)確的失效分析方式將有效的提升功率半導(dǎo)體器件產(chǎn)品的性能及可靠性表現(xiàn)。
不同材料、不同技術(shù)的功率器件的性能差異很大。市面上傳統(tǒng)的測(cè)量技術(shù)或者儀器儀表一般可以覆蓋器件特性的測(cè)試需求。但是寬禁帶半導(dǎo)體器件碳化硅(SiC)或氮化鎵(GaN)的技術(shù)卻極大擴(kuò)展了高壓、高速的分布區(qū)間,如何精確表征功率器件高流/高壓下的I-V曲線或其它靜態(tài)特性,這就對(duì)器件的測(cè)試工具提出更為嚴(yán)苛的挑戰(zhàn)。
靜態(tài)參數(shù)主要是指本身固有的,與其工作條件無(wú)關(guān)的相關(guān)參數(shù)。靜態(tài)參數(shù)測(cè)試又叫穩(wěn)態(tài)或者DC(直流)狀態(tài)測(cè)試,施加激勵(lì)(電壓/電流)到穩(wěn)定狀態(tài)后再進(jìn)行的測(cè)試。主要包括:柵極開(kāi)啟電壓、柵極擊穿電壓、源極漏級(jí)間耐壓、源極漏級(jí)間漏電流、寄生電容(輸入電容、轉(zhuǎn)移電容、輸出電容),以及以上參數(shù)的相關(guān)特性曲線的測(cè)試。高速器件I-V測(cè)試靜態(tài)測(cè)試系統(tǒng)認(rèn)準(zhǔn)普賽斯儀表
圍繞第三代寬禁帶半導(dǎo)體靜態(tài)參數(shù)測(cè)試中的常見(jiàn)問(wèn)題,如掃描模式對(duì)SiC MOSFET 閾值電壓漂移的影響、溫度及脈寬對(duì)SiC MOSFET 導(dǎo)通電阻的影響、等效電阻及等效電感對(duì)SiC MOSFET導(dǎo)通壓降測(cè)試的影響、線路等效電容對(duì)SiC MOSFET測(cè)試的影響等多個(gè)維度,針對(duì)測(cè)試中存在的測(cè)不準(zhǔn)、測(cè)不全、可靠性以及效率低的問(wèn)題,普賽斯儀表提供一種基于國(guó)產(chǎn)化高精度數(shù)字源表(SMU)的測(cè)試方案,具備更優(yōu)的測(cè)試能力、更準(zhǔn)確的測(cè)量結(jié)果、更高的可靠性與更全面的測(cè)試能力。具有高電壓和大電流特性、μΩ級(jí)導(dǎo)通電阻精確測(cè)量、n安級(jí)電流測(cè)量能力等特點(diǎn)。支持高壓模式下測(cè)量功率器件結(jié)電容,如輸入電容、輸出電容、反向傳輸電容等。
P300高精度脈沖源表
- 脈沖直流,簡(jiǎn)單易用
- 范圍廣,高至300V低至1pA
- 最小脈沖寬度200μs
- 準(zhǔn)確度為0.1%
E系列高電壓源測(cè)單元
- ms級(jí)上升沿和下降沿
- 單臺(tái)最大3500V電壓輸出(可擴(kuò)展10kV)
- 測(cè)量電流低至1nA
- 準(zhǔn)確度為0.1%
HCPL100高電流脈沖電源
- 輸出電流達(dá)1000A
- 多臺(tái)并聯(lián)可達(dá)6000A
- 50μs-500μs的脈沖寬度可調(diào)
- 脈沖邊沿陡(典型時(shí)間15us)
- 兩路同步測(cè)量電壓(0.3mV-18V)
而GaN HEMT器件主要工作于大功率、高效率的微波毫米電路中,其機(jī)理相對(duì)更為復(fù)雜,主要體現(xiàn)在器件陷阱效應(yīng)和自熱效應(yīng)中。GaN HEMT器件的陷阱效應(yīng)會(huì)引起柵和漏滯后效應(yīng),不利于建模工作和器件射頻應(yīng)用;而自熱效應(yīng)主要體現(xiàn)在脈寬對(duì)GaN HEMT器件測(cè)試的影響。因此,針對(duì)氮化鎵(GaN)包括砷化鎵(GaAs)等材料構(gòu)成的高速器件的I-V測(cè)試,普賽斯儀表全新推出的CP系列脈沖恒壓源可以高效快速解決測(cè)試難題。
CP系列脈沖恒壓源
- 直流/脈沖兩種電壓輸出模式
- 大脈沖電流,最高可至10A
- 超窄脈寬,低至100ns
- 插卡式設(shè)計(jì),1CH/插卡,最高支持10通道
普賽斯儀表專業(yè)研究和開(kāi)發(fā)半導(dǎo)體材料與器件測(cè)試的專業(yè)智能裝備,產(chǎn)品覆蓋半導(dǎo)體領(lǐng)域從晶圓到器件生產(chǎn)全產(chǎn)業(yè)鏈。推出基于高精度數(shù)字源表(SMU)的第三代半導(dǎo)體功率器件靜態(tài)參數(shù)測(cè)試方案,為SiC和GaN器件提供可靠的測(cè)試手段,實(shí)現(xiàn)功率半導(dǎo)體器件靜態(tài)參數(shù)的高精度、高效率測(cè)量和分析。如果您對(duì)高速器件I-V測(cè)試靜態(tài)測(cè)試系統(tǒng)感興趣,歡迎隨時(shí)聯(lián)系我們!
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