當前位置:安徽貝意克設備技術(shù)有限公司>>非標定制>> BTF-1200C-Ⅲ-S-400C-D 前端預熱法硫化鉬制備CVD設備
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所 在 地合肥市
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更新時間:2023-07-01 09:37:47瀏覽次數(shù):78次
聯(lián)系我時,請告知來自 儀表網(wǎng)間歇式CVD回轉(zhuǎn)爐 BTF-1200C-III-150-CVD
智能型大口徑高真空退火爐 BTF-1100C-IIIA-05
一、設備特點
前端預熱法硫化鉬制備CVD設備由預熱爐、三溫區(qū)管式爐、低真空機組和供氣系統(tǒng)組成。
前端配有可加熱到500℃的預加熱器,輔助硫粉蒸發(fā),后端為三溫區(qū)硫化爐,溫度控制精確,操作簡便。同時搭配三路質(zhì)量流量計系統(tǒng),可以精確控制實驗所需的氣體流量,低真空機組可以滿足抽真空的需求。
二、技術(shù)參數(shù)
系統(tǒng)熱場Φ80mm | 主要特點: 1、可通氣氛抽真空,其開啟式結(jié)構(gòu)使得拆裝爐管方便,操作簡捷,使用者可直接將密封腔體移出爐體,加快降溫過程; 2、根據(jù)管徑不同,法蘭分為卡箍和折頁兩種密封方式,安裝拆卸簡便快捷,減去了取放料時的繁瑣操作 3、爐管工件橫穿與上下各6組進口電阻絲的爐膛,溫場均勻,內(nèi)外溫差可控制在3度左右; 4、體積小,性價比高。 該設備廣泛應用在半導體、納米材料、碳纖維、石墨烯等新材料、新工藝領(lǐng)域。 5、法蘭進氣端裝有兩個進氣口和截止閥。
前端預熱設備指標: 前端預熱器在二硫化鉬實驗中,可對硫,磷等固態(tài)源進行加熱蒸發(fā)。 型號:BTF-500C 工作溫度:500℃ 溫度:800℃ 升溫速率:30℃/min 推薦升溫速率:10℃/min 控溫方式:智能化30段可編程控制 工作電壓:AC220 V 額定功率:800W 控溫精度:±1℃ 加熱元件:電阻絲
反應腔體指標: 額定功率:7KW 額定電壓:AC 208-240V Single Phase,50/60 Hz 溫度:1200℃ 持續(xù)工作溫度≤1100℃ 推薦升溫速率:15℃/min |
系統(tǒng)熱場 Φ80mm |
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供氣系統(tǒng)(3路) |
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低真空機組 | 設備特點: VAU-02是一套低真空機組,內(nèi)部安裝機械泵1臺,復合真空計1套,并含有配套使用的波紋管,手動擋板閥,卡箍等連接部件。
技術(shù)參數(shù): 1、技術(shù)參數(shù): 空氣相對濕度≤85% 工作電電壓:220V±10% 50~60HZ 功率:1千瓦 抽氣速率:10m3/h 極限真空:4X10-2Pa 實驗真空度:1.0X10-1Pa 容油量:1.1L 進氣口口徑:KF25 排氣口口徑:KF25 轉(zhuǎn)速:1450rpm 噪音:50dB
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尾氣處理系統(tǒng) | 雙級尾氣處理氣體,前級做一個液封安全瓶,后期為NaOH溶劑吸收 瓶。瓶體為304不銹鋼材質(zhì),內(nèi)噴四氟。 |
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