6月27-29日，半導體行業(yè)盛會SEMICON China 2020在上海新博覽中心舉行，大的分析儀器制造商之一珀金埃爾默，攜全面的半導體行業(yè)解決方案，以及新的無機元素分析利器，業(yè)界化學高分辨多重四極桿ICP-MS NexION® 5000精彩亮相?，F(xiàn)場來往的專業(yè)觀眾不少都被這臺具有超前性能優(yōu)勢的新產(chǎn)品吸引駐足，與我們的技術(shù)人員交流了解。
NexION® 5000精彩亮相
在展會期間，珀金埃爾默應(yīng)用市場高級產(chǎn)品經(jīng)理受邀與27日下午的新技術(shù)發(fā)布會上發(fā)表主題演講《珀金埃爾默化學高分辨多重四極桿ICP-MS助力半導體工業(yè)無機元素檢測》。半導體行業(yè)是電子信息產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)，更先進的芯片一直是行業(yè)的核心追求之一。在指甲蓋大小的芯片上可能集合了近萬米金屬線和幾千萬甚至上億根晶體管，這猶如在一粒沙上建造一座城市，對集成電路芯片生產(chǎn)工藝提出了很高的要求。在半導體器件制造過程中，對痕量元素雜質(zhì)的控制會直接影響半導體產(chǎn)品的良品率。這要求對半導體制程中的晶圓、超純水、化學試劑、光刻膠、電子特氣等進行嚴格的無機元素檢測。目前，根據(jù)新的制程要求，SEMI(半導體設(shè)備和材料協(xié)會)Grade 5 標準，半導體用超純水本底要求為小于1ppt水平，所有超純化學品中關(guān)鍵無機元素離子小于10ppt，更有半導體生產(chǎn)企業(yè)依據(jù)其制程工藝，提出需達到5ppt甚至更低的水平。
珀金埃爾默為滿足嚴苛的痕量元素、超痕量元素檢測而開發(fā)的NexION 5000，具有業(yè)內(nèi)*的四組四極桿設(shè)計，結(jié)合碰撞反應(yīng)池技術(shù)，可提供超低的背景等效濃度、優(yōu)異的檢出能力和基體耐受性，可實現(xiàn)高準確度和高可重現(xiàn)性的分析結(jié)果。其四組四極桿質(zhì)譜平臺和四路碰撞反應(yīng)氣，可以依據(jù)不同的應(yīng)用需求，簡單、靈活地進行選擇，在性能上較現(xiàn)有的高分辨HR-ICP-MS、傳統(tǒng)三重四極桿和單四極桿ICP-MS均有質(zhì)的提升，可滿足半導體行業(yè)越來越嚴苛的工藝質(zhì)控要求。
在報告之后，這位高級產(chǎn)品經(jīng)理還受到了媒體的關(guān)注，并接受了中國集成電路和半導體行業(yè)觀察的采訪，請他介紹珀金埃爾默在半導體行業(yè)檢測中的布局及其先進的分析檢測技術(shù)如何助力半導體行業(yè)發(fā)展?！?/span>
優(yōu)質(zhì)儀器 助您檢測
珀金埃爾默可提供傅里葉變換紅外光譜儀、紅外顯微鏡、紫外可見近紅外分光光度計、差示掃描量熱儀、熱機械分析儀等產(chǎn)品，用于測定固化率、固化熱、熱膨脹系數(shù)、透光率、反射率、微觀污染物、成分濃度等，為客戶提供全面的解決方案?；瘜W分析與檢測對集成電路生產(chǎn)非常重要，它們?yōu)榇_保芯片生產(chǎn)質(zhì)量，改善良品率，提供敏銳的“眼睛”。前不久，業(yè)界就發(fā)生過因光刻膠中相關(guān)金屬離子不達標從而引起幾億美金損失的慘痛教訓。珀金埃爾默在半導體行業(yè)的檢測方案囊括了無機元素與納米顆粒檢測、AMC及VOCs等有機物檢測以及IC封裝中材料檢測等方面，能有效地為企業(yè)規(guī)避上述風險。
如同我司高級產(chǎn)品經(jīng)理于采訪中所言：
“我們期待與用戶一同，引進和開發(fā)更多有針對性的應(yīng)用方案，用先進的技術(shù)和可靠的儀器為客戶帶來實實在在的幫助，助力中國半導體行業(yè)的發(fā)展”。
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