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NexION 2000S ICP-MS 檢測(cè)高硅基體樣品中的微量磷雜質(zhì)

閱讀：1016 發(fā)布時(shí)間：2020-05-21

本文應(yīng)用PerkinElmer創(chuàng)造的去除干涉技術(shù)—UCT(通用池技術(shù))功能的NexION 2000S ICP-MS檢測(cè)對(duì)含有大量硅的Hydrofluoric Acid介質(zhì)中的磷的分析。

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