簡單介紹：重慶汗丁直銷olympus奧林巴斯STM7亞微米級電氣元件顯微鏡重慶汗丁直銷olympus奧林巴斯STM7亞微米級電氣元件顯微鏡使用與*的光學(xué)顯微鏡相同的UIS2無限遠校正光學(xué)系統(tǒng)。因此，觀察到的圖像具有高分辨率和高對比度，消除了像差，有助于確保**測量的高精度。

詳細介紹

詳情介紹：

重慶汗丁直銷olympus奧林巴斯STM7亞微米級電氣元件顯微鏡

重慶汗丁直銷olympus奧林巴斯STM7亞微米級電氣元件顯微鏡產(chǎn)品特性：

通過多年的顯微鏡發(fā)展提高觀察性能

STM7系列使用與*的光學(xué)顯微鏡相同的UIS2無限遠校正光學(xué)系統(tǒng)。因此，觀察到的圖像具有高分辨率和高對比度，消除了像差，有助于確保**測量的高精度。

明場圖像

暗場圖像

DIC圖像

POL圖像

通過石材制作的舞臺安裝板增強了測量可靠性

STM7-LF有限元分析

為了進一步確保測量精度，STM7系列采用高度耐用，抗振動的框架和花崗巖平板。由于這種穩(wěn)定性，可以在亞微米級別進行測量，同時確保*小的誤差。

繼續(xù)提供用戶友好的高精度三軸測量作為高度測量的

反射有源，共焦自動對焦系統(tǒng)光路

隨著現(xiàn)代制造技術(shù)變得越來越小型化和**化，高精度測量甚至更重要 - 不僅沿著水平XY軸，而且沿著Z軸。奧林巴斯通過反射主動共聚焦方法**實現(xiàn)了用于測量顯微鏡的自動對焦系統(tǒng)，從而滿足了這些需求。

重慶汗丁直銷olympus奧林巴斯STM7亞微米級電氣元件顯微鏡產(chǎn)品測量：

自動光強度調(diào)節(jié)大大提高了觀察和測量的效率

常見問題

傳統(tǒng)測量顯微鏡使用的模擬音量調(diào)節(jié)不能實現(xiàn)光強度的定量評估，這可能導(dǎo)致光強度變化時測量值的變化。
對于傳統(tǒng)的測量顯微鏡，每次切換物鏡時都可能需要調(diào)整光強度，以實現(xiàn)低效的工作流程。

STM7解決方案

通過光強度值的定量數(shù)字顯示關(guān)閉控制

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STM7系列提供光強度的定量數(shù)字顯示，可在一致的照明條件下進行觀察。

光強度管理器無需手動調(diào)節(jié)

光強度管理器可與編碼旋轉(zhuǎn)物鏡轉(zhuǎn)換器配置一起使用。編碼旋轉(zhuǎn)物鏡轉(zhuǎn)換器可自動檢測物鏡的切換。這允許為每個物鏡記錄照明方法和光強度，并且在切換物鏡時的測量期間自動調(diào)節(jié)。現(xiàn)在無需手動調(diào)節(jié)光強度，這在放大倍率之間的每次切換時都需要。

5xIntensity 50

20xIntensity 70

100xIntensity 120

可拆卸的數(shù)字讀出優(yōu)選位置可以快速，方便地檢查測量結(jié)果和設(shè)備狀態(tài)

常見問題

需要檢查設(shè)備的運行狀態(tài)，例如照明或各個單元上的測量值，這使得整個操作變得麻煩。

STM7解決方案

數(shù)字指示器使當(dāng)前操作狀態(tài)可視化驗證

指示燈顯示設(shè)備狀態(tài)和設(shè)置。*小X，Y和Z軸值可以在0.1μm和1μm之間切換，并且顯示單元可以在mm，μm，英寸和mil之間切換。

可拆卸數(shù)字讀數(shù)允許個人偏好和放置

無論是連接到框架還是桌子，可拆卸數(shù)字讀數(shù)器的放置取決于個人用戶。在站立進行測量時，它可以放置在框架的側(cè)面，與觀察位置幾乎相同的高度，以獲得特別容易的視圖。當(dāng)從坐姿操作時，例如通過數(shù)碼相機在顯示器上觀察或測量或使用電動Z軸聚焦模型時，只需將數(shù)字讀數(shù)器和手持控制器放在桌面上即可。

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數(shù)字讀數(shù)器附在框架上

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數(shù)字讀數(shù)放在桌子上

自動對焦有利于快速，高精度的高度測量

常見問題

在視覺測量期間，高度測量的結(jié)果可以在不同的操作員之間變化。
手動高度測量要求操作員重復(fù)移動平臺并用手柄調(diào)節(jié)焦距，使測量耗時且效率低。
專注于諸如鍵合線之類的微小物體是困難的。

STM7解決方案

專用自動對焦單元：出色的再現(xiàn)性和聚焦速度

無論操作員的經(jīng)驗水平如何，STM7專用自動對焦裝置均可在*短的時間內(nèi)完成高精度的高度測量。使用反射有源共焦方法可提供與表面粗糙度或傾斜樣品表面無關(guān)的穩(wěn)定焦點，而小激光直徑可實現(xiàn)自動對焦，即使在諸如鍵合線等微小物體上也是如此。

一次性模式

瞬間將自動對焦從大致聚焦?fàn)顟B(tài)轉(zhuǎn)移到位于視野中心的清晰焦點。

跟蹤模式

特色TRACK模式提供自動對焦功能，可跟蹤樣品的峰和谷，即使移動了舞臺，也能保持圖像不斷聚焦。這一進步大大提高了Z軸測量的效率，使您無需將手從X和Y手柄上移開即可進行觀察。

重慶汗丁直銷olympus奧林巴斯STM7亞微米級電氣元件顯微鏡產(chǎn)品設(shè)計：

提供適合手邊樣品大小的階段

常見問題

短測量行程排除了較大樣本的測量。
在測量期間補償比X軸覆蓋更短的Y所需的樣本旋轉(zhuǎn)是時間效率低的。到目前為止，大型平臺在X軸上提供了足夠的測量覆蓋率，但在Y軸上的覆蓋范圍較小。
由于測量范圍窄，不可能在舞臺上排列大量樣品進行測量。

STM7解決方案

提供四種類型的平臺，每種平臺具有的方形測量行程（可選擇50 mm x 50 mm，100 mm x 100 mm，200 mm x 200 mm和300 mm x 300 mm）。從小尺寸樣品到大尺寸樣品，有一個適合被測樣品的階段。
離合器系統(tǒng)可實現(xiàn)粗調(diào)和精調(diào)之間的快速切換。由于這種切換功能，平臺也可以沿X軸和Y軸快速移動，并在XY平面上自由移動。
300 mm方形長度的工作臺可以將相同的測量行程應(yīng)用于X和Y軸，這意味著它可以用于測量大樣本，例如300 mm晶圓和印刷電路板，而無需改變其方向。

STM7-CS50
50mm x 50mm

STM7-CS100
100mm x 100mm

STM7-CS200
200 mm x 200 mm

50mm_stage_stmm7-CS300
STM7-CS300

300 mm x 300 mm

Use the Same Microscope for Both Low- and High-Magnification Observations

Common Problems

Most conventional measuring microscopes only accept a measuring objective or metallurgical objective, and so are unable to meet the requirements for a wide variety of observations.

STM7 Solutions

The STM7 accepts both a metallurgical objective and a measuring objective by exchanging a revolving nosepiece with a measuring objective adapter. This means that the STM7 combines both metallurgical optics and measuring optics in one microscope. In this way, the STM7 series satisfi es a range of needs, no matter whether measuring a wide area or tiny region, measuring the size of differences betwe en levels, or assisting the user in deciding on the best observation method to choose.

Measuring Objectives

Because the measuring objectives have an extremely long working distance, they provide confidence when focusing on samples with large peaks and troughs while reducing worries of the objective coming into contact with the sample.
Furthermore, their low-magnifi cation capability enables wide areas to be observed in a single view.

Metallurgical Objectives

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Brightfield image

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Darkfield image

Metallurgical objectives enable high-magnifi cation, highresolution observation capability comparable to that of optical microscopes. What’s more, these objectives can be used not only for brightfield, but also for darkfield and DIC observation.

重慶汗丁直銷olympus奧林巴斯STM7亞微米級電氣元件顯微鏡產(chǎn)品技術(shù)規(guī)格：

		小框架	中間框架	大框架
光學(xué)系統(tǒng)			UIS2光學(xué)系統(tǒng)（無限遠校正）
顯微鏡框架	觀察方法		BF / DF / DIC / KPO * 1
	反射/透射		反射/透射
	照明系統(tǒng)		白色：用于反射照明，綠色：用于傳輸照明，*大值。功耗：10瓦
	焦點	電動/手動	手動[手動類型]
			電動[電動型]
		行程	175毫米		145毫米* 2
		FOCUS按鈕：粗調(diào)速度	8毫米/秒[電動型]
		精細定位速度（可變）	800μm/400μm/200μm/50μm（旋鈕旋轉(zhuǎn)）4個步驟[電動型]
		*大可測量高度	175毫米* 3,120毫米* 4		145毫米* 3,90毫米* 4
	目標(biāo)		衡量目標(biāo)/冶金目標(biāo)
觀察管			直立圖像單眼管，直立圖像三目鏡筒（100：0/0：100）
階段	行程		50（X）×50（Y）毫米	200（X）×200（Y）毫米	300（X）X300（Y）毫米
			100（X）×100（Y）毫米	200（X）×200（Y）毫米	300（X）X300（Y）毫米
	測量精度		50毫米行程：（3 + L / 50）μm	（3 + 4L / 200）微米	（3 + 6L / 300）微米
			100毫米行程：（3 + 2L / 100）μm	（3 + 4L / 200）微米	（3 + 6L / 300）微米
柜臺展示	軸數(shù)		三
	單元		毫米/微米/英寸/密耳
	*低分辨率		為0.1μm
外形尺寸	[手動類型]		466（W）x583（d）x651（高）mm	606（W）x762（d）x651（高）mm	804（W）x1024（d）X686（高）mm
	[電動型]		466（W）x583（d）x811（高）mm	606（W）x762（d）x811（高）mm	804（W）x1024（d）x844（高）mm
重量	[手動類型]		84公斤（約）	152公斤（約）	277公斤（約）
	[電動型]		92公斤（約）	159公斤（約）	284公斤（約）
備注			* 1：簡易偏光觀察 * 2：使用大框架STM7-LF / STM7-LFA時，高度為100mm或更小的樣品可放置在距光軸向后180mm或更遠的位置。 * 3：用于冶金顯微鏡的物鏡* 4：用物鏡測量顯微鏡