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微電子所在SOT型磁性存儲(chǔ)器研究領(lǐng)域獲進(jìn)展

儀表研發(fā) 2021年11月08日 17:01:55來(lái)源:微電子研究所 18492
摘要近日,中國(guó)科學(xué)院微電子研究所微電子器件與集成技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室在SOT型磁性存儲(chǔ)器(MRAM)研究領(lǐng)域取得進(jìn)展。

  【儀表網(wǎng) 儀表研發(fā)】近日,中國(guó)科學(xué)院微電子研究所微電子器件與集成技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室在SOT型磁性存儲(chǔ)器(MRAM)研究領(lǐng)域取得進(jìn)展。
 
  實(shí)現(xiàn)低功耗、高穩(wěn)定的數(shù)據(jù)寫入操作是MRAM亟需解決的關(guān)鍵問(wèn)題之一,其中,消除寫入電流的非對(duì)稱性對(duì)于實(shí)現(xiàn)寫入過(guò)程的穩(wěn)定可控以及簡(jiǎn)化供電電路設(shè)計(jì)十分重要。STT-MRAM(Spin-Transfer Torque MRAM)由于在寫入過(guò)程中,電子自旋在磁性功能層表面的透射和反射效率不同,寫入電流本征上是不對(duì)稱的,而SOT-MRAM(Spin-Orbit Torque MRAM)由于寫入機(jī)理上不存在自旋透射和反射的差異,因此,長(zhǎng)期以來(lái)被認(rèn)為不存在寫入電流不對(duì)稱的問(wèn)題。但另一方面,SOT-MRAM在寫入過(guò)程中所施加的輔助磁場(chǎng)則有可能從另一側(cè)面帶來(lái)寫入電流的非對(duì)稱性。由于目前SOT-MRAM尚處在尋找高效的SOT材料以及通過(guò)引入耦合層來(lái)提供此輔助場(chǎng)的基礎(chǔ)研究階段,此輔助磁場(chǎng)在器件和電路設(shè)計(jì)層面可能帶來(lái)的寫入非對(duì)稱性問(wèn)題還沒(méi)有被涉及到。
 
  針對(duì)SOT-MRAM在未來(lái)量產(chǎn)過(guò)程中可能面臨的此類問(wèn)題,微電子所微電子器件與集成技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室從優(yōu)化磁性存儲(chǔ)器整體性能及制備工藝的角度出發(fā),提前開(kāi)展此類問(wèn)題的研究。對(duì)于上述可能的寫入電流非對(duì)稱問(wèn)題,研究人員及其合作者通過(guò)測(cè)定在有無(wú)輔助磁場(chǎng)下的SOT效率與寫入電流方向、輔助場(chǎng)方向及強(qiáng)弱之間的關(guān)系,直接證實(shí)了支配寫入過(guò)程的SOT效率也具有本征的非對(duì)稱性。進(jìn)一步研究表明,此非對(duì)稱性來(lái)源于輔助磁場(chǎng)對(duì)磁性功能層內(nèi)部自旋排列的精細(xì)影響。在此基礎(chǔ)上,研究人員測(cè)試了臨界寫入電流和SOT效率的關(guān)系,分析了寫入過(guò)程的兩種物理機(jī)制,認(rèn)為基于手性疇壁運(yùn)動(dòng)的磁疇擴(kuò)展機(jī)制主導(dǎo)了SOT-MRAM的寫入過(guò)程,但另一種一致磁翻轉(zhuǎn)機(jī)制也可能隨機(jī)發(fā)生,從而為寫入過(guò)程引入額外的非對(duì)稱性。相關(guān)的研究結(jié)果從物理機(jī)理上限定了實(shí)現(xiàn)SOT-MRAM對(duì)稱性寫入的條件,為下一步電路設(shè)計(jì)和器件結(jié)構(gòu)優(yōu)化提供了設(shè)計(jì)準(zhǔn)則。
 
  相關(guān)研究成果以Write Asymmetry of Spin-Orbit Torque Memory Induced by In-Plane Magnetic Fields為題于近期發(fā)表在IEEE Electron Device Letters上。該工作得到了國(guó)家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃、國(guó)家自然科學(xué)基金以及中科院相關(guān)項(xiàng)目的支持。
 
  微電子所微電子器件與集成技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室自2019年設(shè)立磁存儲(chǔ)及自旋電子器件研究方向以來(lái),主要集中在從物理機(jī)理的角度解決限制MRAM發(fā)展的關(guān)鍵技術(shù)問(wèn)題,以及從事自旋波耦合系統(tǒng)和環(huán)柵(GAA)型自旋器件在量子計(jì)算等前沿領(lǐng)域的研究。目前實(shí)驗(yàn)室已具備了MRAM核心器件磁性隧道結(jié)(MTJ)的生長(zhǎng)及微加工能力,建成了包括自旋轉(zhuǎn)移矩的高低頻測(cè)試以及磁性存儲(chǔ)器在0.5 ns以下的高速寫入及動(dòng)態(tài)觀測(cè)系統(tǒng)在內(nèi)的研發(fā)體系。

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