項(xiàng)目編號(hào) | 采購(gòu)項(xiàng)目 | 數(shù)量 | 預(yù)算金額(萬(wàn)元) | 簡(jiǎn)要技術(shù)要求 |
21CNIC-031692-012 | 高精度無(wú)心外圓磨床 | 1套 | 170 | 于套圈及軸類外圓表面的通過式磨削加工。 *砂、導(dǎo)輪均為雙支承滾動(dòng)結(jié)構(gòu)。砂輪主軸配置內(nèi)裝式動(dòng)平衡。 *設(shè)備應(yīng)具備七根伺服軸:第一根供砂輪架的進(jìn)給;第二根供導(dǎo)輪架的進(jìn)給;第三根為砂輪修整器的進(jìn)給,可實(shí)現(xiàn)跟蹤補(bǔ)償,第四根軸為砂輪修整器往復(fù),可實(shí)現(xiàn)差補(bǔ)修整,第五軸為導(dǎo)輪修整器的進(jìn)給,第六根為導(dǎo)輪修整器往復(fù),第七根為導(dǎo)輪主軸回轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。另外,機(jī)床前后都能控制導(dǎo)輪架進(jìn)給、后退,對(duì)產(chǎn)品尺寸離散性進(jìn)行便捷控制,并可以實(shí)施點(diǎn)動(dòng)補(bǔ)償。砂輪進(jìn)給配合光柵尺實(shí)現(xiàn)閉環(huán)控制,確保進(jìn)給尺寸穩(wěn)定、可靠。 |
21CNIC-031692-010 | 液壓伺服疲勞試驗(yàn)機(jī) | 1套 | 140 | 該設(shè)備主要用于室溫和高溫條件下金屬材料在正弦波、三角波、方波、梯形波等循環(huán)應(yīng)力下的高低周疲勞性能,并能完成基本靜態(tài)力學(xué)性能測(cè)試以及裂紋拓展、K1C、J1C、斷裂韌性等斷裂力學(xué)試驗(yàn),有條件模擬實(shí)際工況試驗(yàn)。 *框架采用落地式雙立柱設(shè)計(jì),立柱直徑不小于75mm,立柱間距不小于530mm,不含夾具時(shí)的最大垂直測(cè)試空間不小于1250mm,并且可以通過液壓提升十字橫梁方便調(diào)節(jié)測(cè)試空間。 *液壓作動(dòng)器直接整合于鋼制橫梁內(nèi),構(gòu)成一體化的作動(dòng)器梁,具備高度軸向、側(cè)向剛度及卓越可靠的框架,提供作動(dòng)器圖示。 |
21CNIC-031692-009 | 透射電子顯微鏡 | 1套 | 360 | 本系統(tǒng)主要用于材料的高分辨形貌觀察和微區(qū)的晶體結(jié)構(gòu)、成分分析,系統(tǒng)由電子光學(xué)系統(tǒng)、高壓系統(tǒng)、真空系統(tǒng)等部分組成。 *點(diǎn)分辨率:0.23nm *線分辨率:0.14nm *加速電壓: 200kV |
21CNIC-031692-008 | 高效型場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡采購(gòu)項(xiàng)目 | 1套 | 500 | 本采購(gòu)設(shè)備具體功能包括:高分辨率成像觀察,快速獲取樣品表面微觀結(jié)構(gòu)形貌信息、成分襯度信息,可以在低電壓條件下無(wú)需鍍膜直接高分辨觀察樣品。搭載X射線能譜儀附件,可同時(shí)對(duì)樣品表面微觀區(qū)域內(nèi)的元素成分進(jìn)行定性和定量分析;搭載高速高靈敏高分辨EBSD附件,能夠?qū)w材料進(jìn)行空間分辨率亞微米級(jí)的電子背散射衍射,能夠給出結(jié)晶學(xué)數(shù)據(jù)。 *EBSD在線解析標(biāo)定速度不低于4500pps(花樣分辨率156*88);電子圖像分辨率≥8192*8192,EBSD面分布圖分辨率≥4096*4096,最佳取向精度≤0.05度; * 配外界磁場(chǎng)消除干擾器,X,Y,Z 矩形坐標(biāo)方式偵測(cè)器及線圈配備以消除外界的磁場(chǎng)干擾設(shè)備,工作范圍:DC ~5000Hz , 效能:【>400 X at DC】【> 100 X at 50/60 Hz】,反應(yīng)時(shí)間<100微秒;能觸屏顯示與操作,能穩(wěn)定滿足電鏡對(duì)環(huán)境磁場(chǎng)的要求。 |
21CNIC-031692-007 | 超小尺度高分辨分析掃描電鏡 | 1套 | 690 | 超高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡同時(shí)具備常規(guī)場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡的所有功能,可以通過配備能譜儀、EBSD、原位外場(chǎng)系統(tǒng)等對(duì)材料進(jìn)行成分、結(jié)構(gòu)以及外場(chǎng)下組織分析。主要為材料相關(guān)學(xué)科的科研工作服務(wù),同時(shí)兼顧其它相關(guān)學(xué)科的需求。 * 能譜探測(cè)器:要求信號(hào)透過率高,噪音低,主體為CMOS型前置放大器內(nèi)置芯片結(jié)構(gòu);晶體有效活區(qū)面積≥65mm2,探測(cè)器窗口厚度≤100nm,堅(jiān)固耐用,耐高壓高溫、耐酸堿腐蝕,可等離子直接清洗。 * EBSD相機(jī):高速高靈敏CMOS相機(jī),像素分辨率: 640 (H) x 480 (V),在線解析標(biāo)定速度不低于4500點(diǎn)/秒,以Ni為標(biāo)樣,保證 99%的標(biāo)定成功率,在100pA的低束流條件下低電壓條件下能正常工作,并配有FSD前置背散射探頭; |
所有評(píng)論僅代表網(wǎng)友意見,與本站立場(chǎng)無(wú)關(guān)。