【儀表網(wǎng) 行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)】根據(jù)國家市場監(jiān)督管理總局下達(dá)的國家計(jì)量技術(shù)規(guī)范制修訂計(jì)劃，全國幾何量長度計(jì)量技術(shù)委員會(huì)已完成《晶圓級薄膜厚度標(biāo)準(zhǔn)片校準(zhǔn)規(guī)范》《晶圓級臺(tái)階高度凹槽深度標(biāo)準(zhǔn)片校準(zhǔn)規(guī)范》《干涉式三維表面形貌測量儀校準(zhǔn)規(guī)范》《光學(xué)陀螺測角儀校準(zhǔn)規(guī)范》和《散目標(biāo)式視覺測量系統(tǒng)校準(zhǔn)規(guī)范》5項(xiàng)計(jì)量技術(shù)規(guī)范的征求意見稿。為了使國家計(jì)量技術(shù)規(guī)范能廣泛適用和更具可操作性，特向全國有關(guān)單位及專家公開征求意見和建議。
 

　　《晶圓級薄膜厚度標(biāo)準(zhǔn)片校準(zhǔn)規(guī)范》
 

　　晶圓級薄膜厚度標(biāo)準(zhǔn)片指以硅晶圓片為基底，采用化學(xué)氣相沉積(CVD)、物理氣相沉積(PVD)以及原子層沉積(ALD)等方法生長出微納米量級的單層二氧化硅薄膜，主要被測參數(shù)為薄膜厚度，晶圓級薄膜厚度標(biāo)準(zhǔn)片是集成電路產(chǎn)線質(zhì)控的必要器件。
 

　　JJF 1001-2011《通用計(jì)量術(shù)語及定義》、JJF 1059.1-2012《測量不確定度評定與表示》、JJF1071-2010《國家計(jì)量校準(zhǔn)規(guī)范編寫規(guī)則》、JJF 1094-2002《測量儀器特性評定》共同構(gòu)成支撐本校準(zhǔn)規(guī)范制定工作的基礎(chǔ)性系列文件。
 

　　根據(jù)JJF1071-2010《國家計(jì)量校準(zhǔn)規(guī)范編寫規(guī)則》，本規(guī)范內(nèi)容包括：引言；范圍；引用文件；概述；計(jì)量特性；校準(zhǔn)條件；校準(zhǔn)項(xiàng)目和校準(zhǔn)方法；校準(zhǔn)結(jié)果表達(dá)；復(fù)校時(shí)間間隔以及附錄幾個(gè)部分。
 

　　本規(guī)范為首次制定。本規(guī)范適用于晶圓級薄膜厚度標(biāo)準(zhǔn)片的校準(zhǔn)，薄膜材料為硅上二氧化硅，校準(zhǔn)方法為激光橢偏儀，同時(shí)其他材料的晶圓級薄膜厚度標(biāo)準(zhǔn)片的校準(zhǔn)也可以參照本規(guī)范。
 

　　《晶圓級臺(tái)階高度/凹槽深度標(biāo)準(zhǔn)片校準(zhǔn)規(guī)范》
 

　　晶圓級臺(tái)階高度/凹槽深度標(biāo)準(zhǔn)片是用來校準(zhǔn)微電子集成電路領(lǐng)域微納表面形貌測量儀的標(biāo)準(zhǔn)器。其基底為硅晶片，通過對其表面氧化膜刻蝕得到臺(tái)階結(jié)構(gòu)，可適應(yīng)于接觸或非接觸式的各類表面形貌顯微測量裝置。特征結(jié)構(gòu)位于標(biāo)準(zhǔn)片的中心，可通過輔助圖形幫助快速定位。
 

　　本規(guī)范依據(jù)JJF 1001-2011《通用計(jì)量術(shù)語及定義》、JJF 1059.1-2012《測量不確定度評定與表示》、JJF1071-2010《國家計(jì)量校準(zhǔn)規(guī)范編寫規(guī)則》、JJF 1094-2002《測量儀器特性評定》編制。制定本規(guī)范的目的主要是解決我國微電子集成電路領(lǐng)域納米尺度晶圓標(biāo)準(zhǔn)片上臺(tái)階高度/凹槽深度校準(zhǔn)問題。
 

　　根據(jù)JJF1071-2010《國家計(jì)量校準(zhǔn)規(guī)范編寫規(guī)則》，本規(guī)范內(nèi)容包括：引言；范圍；引用文件；概述；計(jì)量特性；校準(zhǔn)條件；校準(zhǔn)項(xiàng)目和校準(zhǔn)方法；校準(zhǔn)結(jié)果表達(dá)；復(fù)校時(shí)間間隔以及附錄幾個(gè)部分。
 

　　本規(guī)范為首次制定。本規(guī)范適用晶圓級標(biāo)準(zhǔn)片的校準(zhǔn)。包括晶圓級臺(tái)階高度標(biāo)準(zhǔn)片、晶圓級凹槽深度標(biāo)準(zhǔn)片的首次校準(zhǔn)、后續(xù)校準(zhǔn)和使用中檢查。
 

　　《干涉式三維表面形貌測量儀校準(zhǔn)規(guī)范》
 

　　干涉式三維表面形貌測量儀基于雙光束干涉的原理，經(jīng)樣品表面反射回的參考光與測量光形成干涉條紋，并經(jīng)由CCD采集，經(jīng)過算法重構(gòu)獲得表面形貌，在垂直方向上可以達(dá)到亞納米級的分辨力。
 

　　JJF1001-2011《通用計(jì)量術(shù)語及定義》、JJF1071-2010 《國家計(jì)量校準(zhǔn)規(guī)范編寫規(guī)則》、JJF 1094-2002《測量儀器特性評定》和JJF 1059.1-2012《測量不確定度評定與表示》共同構(gòu)成支撐本校準(zhǔn)規(guī)范制定工作的基礎(chǔ)性系列文件。
 

　　根據(jù)JJF1071-2010《國家計(jì)量校準(zhǔn)規(guī)范編寫規(guī)則》，本規(guī)范內(nèi)容包括：引言；范圍；引用文件；概述；計(jì)量特性；校準(zhǔn)條件；校準(zhǔn)項(xiàng)目和校準(zhǔn)方法；校準(zhǔn)結(jié)果表達(dá)；復(fù)校時(shí)間間隔以及附錄幾個(gè)部分。
 

　　本規(guī)范為首次制定。本規(guī)范適用于干涉式三維表面形貌測量儀的校準(zhǔn)，其它基于干涉原理的顯微鏡校準(zhǔn)也可參照本規(guī)范。
 

　　《光學(xué)陀螺測角儀校準(zhǔn)規(guī)范》
 

　　光學(xué)陀螺測角儀是基于薩格納克效應(yīng)(Sagnac Effect)發(fā)展出來的一種角度測量儀器，陀螺本體，光路內(nèi)藏于殼內(nèi)，卡盤下表面與陀螺敏感面平行，通過卡盤安裝在載體工作面上；數(shù)據(jù)采集模塊，通過無線或有線通訊與陀螺本體互聯(lián)，可在外部觸發(fā)或內(nèi)部觸發(fā)下實(shí)時(shí)采集角度測量結(jié)果，測量結(jié)果可傳輸至上位機(jī)顯示或分析。
 

　　JJFXXX-XXX《光學(xué)陀螺測角儀校準(zhǔn)規(guī)范》是針對光學(xué)陀螺測角儀校準(zhǔn)的計(jì)量技術(shù)法規(guī)。光學(xué)陀螺測角儀是基于薩格納克效應(yīng)(Sagnac Effect)發(fā)展出來角度測量儀器。其測量結(jié)果是在慣性空間內(nèi)的陀螺敏感面上，陀螺載體相對啟動(dòng)時(shí)刻空間指向的角度變化量?；诖藴y量原理，光學(xué)陀螺測角儀具有獨(dú)特的誤差作用機(jī)理，并相應(yīng)地表現(xiàn)出特有的計(jì)量性能，因此有必要為其制定專門的校準(zhǔn)規(guī)范，保證該類計(jì)量儀器使用規(guī)范、量值傳遞有效、測量結(jié)果可靠。同時(shí)需要聲明的是：本規(guī)范制定內(nèi)容只涉及光學(xué)陀螺測角儀在特定溫度范圍內(nèi)角位置測量結(jié)果的校準(zhǔn)方法，未涉及光學(xué)陀螺測角儀在不同溫度條件下的校準(zhǔn)方法，也不涉及光學(xué)陀螺測角儀角速度測量結(jié)果的校準(zhǔn)方法。
 

　　本規(guī)范依據(jù)JJF 1071-2010《國家計(jì)量校準(zhǔn)規(guī)范編寫規(guī)則》、JJF 1001-2011《通用計(jì)量術(shù)語及定義》和JJF 1059.1-2012《測量不確定度評定與表示》進(jìn)行編寫。
 

　　根據(jù)JJF1071-2010《國家計(jì)量校準(zhǔn)規(guī)范編寫規(guī)則》，本規(guī)范內(nèi)容包括：引言；范圍；引用文件；術(shù)語；概述；計(jì)量特性；校準(zhǔn)條件；校準(zhǔn)項(xiàng)目和校準(zhǔn)方法；校準(zhǔn)結(jié)果表達(dá)；復(fù)校時(shí)間間隔以及附錄幾個(gè)部分。
 

　　本校準(zhǔn)規(guī)范為首次發(fā)布。本規(guī)范適用于環(huán)形激光陀螺測角儀和光纖陀螺測角儀的角位置相關(guān)計(jì)量性能的校準(zhǔn)。
 

　　《散目標(biāo)式視覺測量儀校準(zhǔn)規(guī)范》
 

　　散目標(biāo)式視覺測量儀是以散斑為目標(biāo)點(diǎn)，利用數(shù)字相機(jī)獲取散斑的數(shù)字圖像，經(jīng)數(shù)字圖像相關(guān)法運(yùn)算，獲得被測對象表面坐標(biāo)的測量儀器，常用于零件表面變形/應(yīng)變的測量，也稱為全場變形/應(yīng)變測量系統(tǒng)，具有非接觸測量、全場測量、動(dòng)態(tài)測量等特性。
 

　　本規(guī)范依據(jù)JJF1001《通用計(jì)量術(shù)語及定義》、JJF1071《國家計(jì)量校準(zhǔn)規(guī)范編寫規(guī)則》編制，測量不確定度的評定按照J(rèn)JF1059.1《測量不確定度評定與表示》進(jìn)行。
 

　　根據(jù)JJF1071-2010《國家計(jì)量校準(zhǔn)規(guī)范編寫規(guī)則》，本規(guī)范內(nèi)容包括：引言；范圍；引用文件；術(shù)語和定義；概述；計(jì)量特性；校準(zhǔn)條件；校準(zhǔn)項(xiàng)目和校準(zhǔn)方法；校準(zhǔn)結(jié)果表達(dá)；復(fù)校時(shí)間間隔以及附錄幾個(gè)部分。
 

　　本規(guī)范為首次發(fā)布。本規(guī)范適用于以散斑點(diǎn)為特征點(diǎn)、以數(shù)字圖像相關(guān)法為基本原理的視覺測量儀的校準(zhǔn)。