隨著半導(dǎo)體器件特征尺寸的不斷縮小，等離子體工藝中的電弧放電問題日益突出。微小的電弧不僅可能損壞設(shè)備，還會導(dǎo)致產(chǎn)品缺陷，甚至造成生產(chǎn)中斷。如何實時監(jiān)測等離子體狀態(tài)和晶圓蝕刻程度，快速檢測電弧并優(yōu)化工藝，成為半導(dǎo)體制造中的一大挑戰(zhàn)。

英?？瞪漕l傳感技術(shù)提供了強(qiáng)大的解決方案：Sion™射頻探測器，提供連續(xù)反饋，確保精確的端點(diǎn)檢測，避免過度蝕刻和材料浪費(fèi)；ADC100電弧檢測器，擁有zhuoyue的電弧檢測技術(shù)，在維護(hù)生產(chǎn)效率的同時保護(hù)設(shè)備；協(xié)力幫助客戶提升生產(chǎn)效率、減少停機(jī)時間，并確保產(chǎn)品質(zhì)量。

Sion™是一款非侵入式射頻探測器，專為高速電弧檢測和工藝終點(diǎn)控制設(shè)計。它適用于多種等離子體輔助工藝，如電離物理氣相沉積 (iPVD)、等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 (PECVD) 和蝕刻工藝，能夠?qū)崟r檢測電弧工藝，確保工藝穩(wěn)定性和產(chǎn)品良率。

Sion™的核心優(yōu)勢在于：