Optitherm lll發(fā)射率自動測量儀
美國*!
簡要描述:
在CVD、MBE和MOCVD反應(yīng)過程中,Optitherm lll 發(fā)射率自動測量系統(tǒng)通過光纖鏡頭和的脈沖激光器可以精確地測量單個(gè)或多個(gè)晶片的溫度 。
Optitherm lll 可以監(jiān)測著被測光潔材料的不斷變化的發(fā)射率,從而使得紅外測溫設(shè)備可以達(dá)到±3℃的精度。該主動式測量技術(shù)不同于傳統(tǒng)的被動式測量技術(shù)。
Optitherm lll 通過主動式反射測量技術(shù)得到目標(biāo)的發(fā)射率(E%),從而得到目標(biāo)的實(shí)際溫度(Te)。當(dāng)接收測量紅外輻射時(shí),在同一時(shí)間,位置,波段自動測量被測物光潔表面的反射,獲得準(zhǔn)確的實(shí)際溫度。微處理器以極快的速度(1ms)將這些值傳遞給PC,PC快速計(jì)算并記錄下目標(biāo)的實(shí)際溫度,從而實(shí)現(xiàn)即時(shí)的過程控制。
Optitherm lll 可以應(yīng)用在各種各樣的應(yīng)用中,如:生產(chǎn)制造、芯片加工或研究與開發(fā)等其他一系列與精確溫度測量方面的應(yīng)用。
技術(shù):
Optitherm lll 使用了技術(shù),基于紅外技術(shù)的激光來測量目標(biāo)的發(fā)射率及真實(shí)溫度。
一個(gè)低功率的砷化鎵脈沖激光器發(fā)出脈沖激光,通過特定的光路(激光通道)發(fā)射到被測目標(biāo)上的測量區(qū)域,激光反射信號和紅外輻射信號通過另一個(gè)光路(輻射通道)返回。激光信號(AC)在目標(biāo)信號(DC)之上。監(jiān)控發(fā)出的激光能量并加上幾何因素(包括測量距離),Optitherm lll 可以得到被測目標(biāo)的反射率及發(fā)射率。測量過程中,僅接收目標(biāo)輻射出的以激光波段為中心的非常窄的帶寬的波段,這使其可以在特殊應(yīng)用中得到zui高的精度。
Optitherm lll 內(nèi)置了5種操作模式:遠(yuǎn)程控制模式,由PC通過命令操作和控制;自動模式,在一定時(shí)間內(nèi)持續(xù)輸出數(shù)據(jù),時(shí)間可調(diào);單一模式,僅適用其溫度測量功能;間隔模式,在特定的時(shí)間定序內(nèi)測量;離線模式,用于安裝和校準(zhǔn)功能。
- 參數(shù)設(shè)置:< >紅外輻射和發(fā)射率的自動測量溫度范圍: 250°C- 1500°C溫度精度: ±3°C6 個(gè)波段可選:808、850、905、940、980和 1550nm
實(shí)際應(yīng)用:
半導(dǎo)體薄片溫度測量
晶片的生產(chǎn)和研發(fā)
光潔表面的測量
反應(yīng)過程的溫度測量:
CVD 反應(yīng)器
MBE 反應(yīng)器
MOCVD 反應(yīng)器