準(zhǔn)直望遠(yuǎn)鏡儀 型號(hào)：ZWJ-851
1.用途:
是用于測(cè)量汽車及道路車輛用安全玻璃的副像偏離和光學(xué)偏移的主要儀器，*符合GB9656-2003及GB/T5137.2-2002標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的儀器技術(shù)參數(shù)和測(cè)試條件，
準(zhǔn)直望遠(yuǎn)鏡儀 型號(hào)：ZWJ-851
1.用途:
ZWJ-851型準(zhǔn)直望遠(yuǎn)鏡儀是用于測(cè)量汽車及道路車輛用安全玻璃的副像偏離和光學(xué)偏移的主要儀器，*符合GB9656-2003及GB/T5137.2-2002標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的儀器技術(shù)參數(shù)和測(cè)試條件，是安全玻璃生產(chǎn)企業(yè)和研究單位進(jìn)行驗(yàn)收、質(zhì)量控制及評(píng)定產(chǎn)品的儀器之一。
2.主要技術(shù)參數(shù):
a.準(zhǔn)直鏡
光源：12V 30W儀器燈泡; 物鏡焦距：f=200mm; 物鏡口徑：φ=30mm
b.望遠(yuǎn)鏡 放大倍數(shù)：10倍；
物鏡焦距：f=200mm;
物鏡口徑：φ=30mm;
分辯率：4”
 | 產(chǎn)品名稱：汽車安全玻璃光畸變檢測(cè)儀 產(chǎn)品型號(hào)：GJB-1 |
汽車安全玻璃光畸變檢測(cè)儀型號(hào)：GJB-1
GJB-1型汽車安全玻璃光畸變檢測(cè)儀是依據(jù)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB9656和GB5137.2設(shè)計(jì)并制造的，用于檢測(cè)汽車玻璃光畸變的儀器。
該儀器由幻燈機(jī)（含可變焦鏡頭）、幻燈片和銀幕組成。
技術(shù)參數(shù)：
電 源：220V
燈泡功率：24V 150W
焦 距：70—120mm
相對(duì)孔徑：1：3.5
幻 燈 片：暗背景上的亮圓直徑8mm
銀幕材質(zhì)：玻璃微珠
等離子體去膠機(jī)型號(hào)：ME1
ME1型等離子體去膠機(jī)，是在（RIE）反應(yīng)離子刻蝕機(jī)的基礎(chǔ)上簡(jiǎn)化改進(jìn)而來(lái)，為小型等離子去膠機(jī)，具有體積小，性能優(yōu)良、用途多、工藝速率高、均勻性及重復(fù)性好、價(jià)格低、使用方便等特點(diǎn)。是各電子器件企業(yè)及科研單位、大專院校的機(jī)型。適合于微電子制作工藝中光刻膠的去膠工藝，同時(shí)有RIE刻蝕功能，可以刻蝕Si、SiO2、SiN。已出口國(guó)外。
整機(jī)基本配置和性能：
1．激勵(lì)電源：13.56MHz 500W；帶匹配器和功率計(jì)各1臺(tái)（自動(dòng)匹配可選），帶定時(shí)器1臺(tái)。
2．真空系統(tǒng)：8升/秒機(jī)械泵1臺(tái)。帶真空計(jì)。
3．載片臺(tái)尺寸：Ф220mm ，一次可放3片4英寸片或者4片3英寸片。
4．氣路系統(tǒng)：2路進(jìn)氣；2個(gè)質(zhì)量流量計(jì)，2路顯示。
5．手動(dòng)控制(可以選擇配置工藝過(guò)程自動(dòng)控制)。
6．均勻性：±5% (4英寸內(nèi))
| 產(chǎn)品名稱： 等離子體去膠機(jī) 產(chǎn)品型號(hào)：ME1 |
等離子體去膠機(jī)型號(hào)：ME1
ME1型等離子體去膠機(jī)，是在（RIE）反應(yīng)離子刻蝕機(jī)的基礎(chǔ)上簡(jiǎn)化改進(jìn)而來(lái)，為小型等離子去膠機(jī)，具有體積小，性能優(yōu)良、用途多、工藝速率高、均勻性及重復(fù)性好、價(jià)格低、使用方便等特點(diǎn)。是各電子器件企業(yè)及科研單位、大專院校的機(jī)型。適合于微電子制作工藝中光刻膠的去膠工藝，同時(shí)有RIE刻蝕功能，可以刻蝕Si、SiO2、SiN。已出口國(guó)外。
整機(jī)基本配置和性能：
1．激勵(lì)電源：13.56MHz 500W；帶匹配器和功率計(jì)各1臺(tái)（自動(dòng)匹配可選），帶定時(shí)器1臺(tái)。
2．真空系統(tǒng)：8升/秒機(jī)械泵1臺(tái)。帶真空計(jì)。
3．載片臺(tái)尺寸：Ф220mm ，一次可放3片4英寸片或者4片3英寸片。
4．氣路系統(tǒng)：2路進(jìn)氣；2個(gè)質(zhì)量流量計(jì)，2路顯示。
5．手動(dòng)控制(可以選擇配置工藝過(guò)程自動(dòng)控制)。
6．均勻性：±5% (4英寸內(nèi))
ME1型等離子體去膠機(jī)，是在（RIE）反應(yīng)離子刻蝕機(jī)的基礎(chǔ)上簡(jiǎn)化改進(jìn)而來(lái)，為小型等離子去膠機(jī)，具有體積小，性能優(yōu)良、用途多、工藝速率高、均勻性及重復(fù)性好、價(jià)格低、使用方便等特點(diǎn)。是各電子器件企業(yè)及科研單位、大專院校的機(jī)型。適合于微電子制作工藝中光刻膠的去膠工藝，同時(shí)有RIE刻蝕功能，可以刻蝕Si、SiO2、SiN。已出口國(guó)外。
整機(jī)基本配置和性能：
1．激勵(lì)電源：13.56MHz 500W；帶匹配器和功率計(jì)各1臺(tái)（自動(dòng)匹配可選），帶定時(shí)器1臺(tái)。
2．真空系統(tǒng)：8升/秒機(jī)械泵1臺(tái)。帶真空計(jì)。
3．載片臺(tái)尺寸：Ф220mm ，一次可放3片4英寸片或者4片3英寸片。
4．氣路系統(tǒng)：2路進(jìn)氣；2個(gè)質(zhì)量流量計(jì)，2路顯示。
5．手動(dòng)控制(可以選擇配置工藝過(guò)程自動(dòng)控制)。
6．均勻性：±5% (4英寸內(nèi))
| 產(chǎn)品名稱： 等離子體去膠機(jī) 產(chǎn)品型號(hào)：ME1 |
等離子體去膠機(jī)型號(hào)：ME1
ME1型等離子體去膠機(jī)，是在（RIE）反應(yīng)離子刻蝕機(jī)的基礎(chǔ)上簡(jiǎn)化改進(jìn)而來(lái)，為小型等離子去膠機(jī)，具有體積小，性能優(yōu)良、用途多、工藝速率高、均勻性及重復(fù)性好、價(jià)格低、使用方便等特點(diǎn)。是各電子器件企業(yè)及科研單位、大專院校的機(jī)型。適合于微電子制作工藝中光刻膠的去膠工藝，同時(shí)有RIE刻蝕功能，可以刻蝕Si、SiO2、SiN。已出口國(guó)外。
整機(jī)基本配置和性能：
1．激勵(lì)電源：13.56MHz 500W；帶匹配器和功率計(jì)各1臺(tái)（自動(dòng)匹配可選），帶定時(shí)器1臺(tái)。
2．真空系統(tǒng)：8升/秒機(jī)械泵1臺(tái)。帶真空計(jì)。
3．載片臺(tái)尺寸：Ф220mm ，一次可放3片4英寸片或者4片3英寸片。
4．氣路系統(tǒng)：2路進(jìn)氣；2個(gè)質(zhì)量流量計(jì)，2路顯示。
5．手動(dòng)控制(可以選擇配置工藝過(guò)程自動(dòng)控制)。
6．均勻性：±5% (4英寸內(nèi))
ME1型等離子體去膠機(jī)，是在（RIE）反應(yīng)離子刻蝕機(jī)的基礎(chǔ)上簡(jiǎn)化改進(jìn)而來(lái)，為小型等離子去膠機(jī)，具有體積小，性能優(yōu)良、用途多、工藝速率高、均勻性及重復(fù)性好、價(jià)格低、使用方便等特點(diǎn)。是各電子器件企業(yè)及科研單位、大專院校的機(jī)型。適合于微電子制作工藝中光刻膠的去膠工藝，同時(shí)有RIE刻蝕功能，可以刻蝕Si、SiO2、SiN。已出口國(guó)外。
整機(jī)基本配置和性能：
1．激勵(lì)電源：13.56MHz 500W；帶匹配器和功率計(jì)各1臺(tái)（自動(dòng)匹配可選），帶定時(shí)器1臺(tái)。
2．真空系統(tǒng)：8升/秒機(jī)械泵1臺(tái)。帶真空計(jì)。
3．載片臺(tái)尺寸：Ф220mm ，一次可放3片4英寸片或者4片3英寸片。
4．氣路系統(tǒng)：2路進(jìn)氣；2個(gè)質(zhì)量流量計(jì)，2路顯示。
5．手動(dòng)控制(可以選擇配置工藝過(guò)程自動(dòng)控制)。
6．均勻性：±5% (4英寸內(nèi))
| 產(chǎn)品名稱： 等離子體去膠機(jī) 產(chǎn)品型號(hào)：ME1 |
等離子體去膠機(jī)型號(hào)：ME1
ME1型等離子體去膠機(jī)，是在（RIE）反應(yīng)離子刻蝕機(jī)的基礎(chǔ)上簡(jiǎn)化改進(jìn)而來(lái)，為小型等離子去膠機(jī)，具有體積小，性能優(yōu)良、用途多、工藝速率高、均勻性及重復(fù)性好、價(jià)格低、使用方便等特點(diǎn)。是各電子器件企業(yè)及科研單位、大專院校的機(jī)型。適合于微電子制作工藝中光刻膠的去膠工藝，同時(shí)有RIE刻蝕功能，可以刻蝕Si、SiO2、SiN。已出口國(guó)外。
整機(jī)基本配置和性能：
1．激勵(lì)電源：13.56MHz 500W；帶匹配器和功率計(jì)各1臺(tái)（自動(dòng)匹配可選），帶定時(shí)器1臺(tái)。
2．真空系統(tǒng)：8升/秒機(jī)械泵1臺(tái)。帶真空計(jì)。
3．載片臺(tái)尺寸：Ф220mm ，一次可放3片4英寸片或者4片3英寸片。
4．氣路系統(tǒng)：2路進(jìn)氣；2個(gè)質(zhì)量流量計(jì)，2路顯示。
5．手動(dòng)控制(可以選擇配置工藝過(guò)程自動(dòng)控制)。
6．均勻性：±5% (4英寸內(nèi))
ME1型等離子體去膠機(jī)，是在（RIE）反應(yīng)離子刻蝕機(jī)的基礎(chǔ)上簡(jiǎn)化改進(jìn)而來(lái)，為小型等離子去膠機(jī)，具有體積小，性能優(yōu)良、用途多、工藝速率高、均勻性及重復(fù)性好、價(jià)格低、使用方便等特點(diǎn)。是各電子器件企業(yè)及科研單位、大專院校的機(jī)型。適合于微電子制作工藝中光刻膠的去膠工藝，同時(shí)有RIE刻蝕功能，可以刻蝕Si、SiO2、SiN。已出口國(guó)外。
整機(jī)基本配置和性能：
1．激勵(lì)電源：13.56MHz 500W；帶匹配器和功率計(jì)各1臺(tái)（自動(dòng)匹配可選），帶定時(shí)器1臺(tái)。
2．真空系統(tǒng)：8升/秒機(jī)械泵1臺(tái)。帶真空計(jì)。
3．載片臺(tái)尺寸：Ф220mm ，一次可放3片4英寸片或者4片3英寸片。
4．氣路系統(tǒng)：2路進(jìn)氣；2個(gè)質(zhì)量流量計(jì)，2路顯示。
5．手動(dòng)控制(可以選擇配置工藝過(guò)程自動(dòng)控制)。
6．均勻性：±5% (4英寸內(nèi))
