JF-3型X射線晶體分析儀(勞厄照相與高精度定向)
JF-3型X射線晶體分析儀用途:
照相:利用背射勞厄照相,底片安裝在晶體與射線源之間,而入射光束則在底片上的小孔通過,所記錄的為向后方向上的衍射光束,用衍射光束的方向來測(cè)量未知晶體單位晶胞的的形狀和大小,以測(cè)定晶體的取向和評(píng)定晶體的完善性。
定向:對(duì)晶體材料進(jìn)行精確測(cè)角定向,利用X射線通過前置單色器,衍射線被單色化后照射到樣品上,符合公式nλ=2dsinθ時(shí)產(chǎn)生衍射,被計(jì)數(shù)管接收放大,通過表顯示強(qiáng)度,測(cè)角儀顯示器讀出準(zhǔn)確角度值。
JF-3型X射線晶體分析儀主要參數(shù):
電 源AC220V 50HZ 30A
功 率2KW
靶 材Cu
管電壓50KV(連續(xù)可調(diào))
管電流50mA(連續(xù)可調(diào))
制 冷循環(huán)水、制冷水箱
防 護(hù)鉛有機(jī)玻璃與金屬結(jié)構(gòu)防護(hù)罩
照 相
相 機(jī)背反射勞厄相機(jī) (相機(jī)裝底片;暗室洗底片)
晶體定向 晶圓片Φ1—4英寸 晶棒長(zhǎng)100㎜
方 式高精度(前置單色器)
測(cè)角范圍θ10°~55°、2θ10°~110°
顯示器數(shù)字顯示,度、分、秒zui小讀數(shù)10″
顯示精度1″
光 閘腳踏電磁光閘
綜合精度±15″