導波雷達料位計
型號：MH51…56
原理
導波雷達料位計發(fā)出的高頻微波脈沖沿著探測組件（鋼纜或鋼棒）傳播，遇到被測介質，由于介電常數(shù)突變，引起反射，一部分脈沖能量被反射回來。發(fā)射脈沖與反射脈沖的時間間隔與被測介質的距離成正比。容器中存在兩種不同介質，當上面一層的介質介電常數(shù)較小，而下面的介質介電常數(shù)較大時，高頻微脈沖沿著探測組件傳播遇到上層介質時，由于其介電常數(shù)較小，因而有極少的能量被這一層介面反射，而大部分能量穿透上層介質繼續(xù)向下傳播，遇到兩層的介面時，由于下層介質的介電常數(shù)較大，因而會有較大的能量被反射回來。因而導波雷達是可以測量兩種不同介質的介面，其測量條件是上層介質不導電或其介電常數(shù)比下層介質介電常數(shù)小10以上。
● 應 用： 液體及固體測量，復雜過程條件。
● zui大量程： 30m
● 測量精度： ±10mm
● 過程連接： G1½A/G2A/1½NPT
● 探測組件材料： 不銹鋼316L /PTFE
● 過程溫度： -40…150°C
● 過程壓力： -1.0…40bar
● 信號輸出： 兩線制 4…20mA/HART
