高速顯微光譜測(cè)量工作站GP-58C是在科研級(jí)明暗場(chǎng)正置金相顯微鏡XJ-58C基礎(chǔ)上加載高速了顯微光譜儀,是高品質(zhì)和高精度的顯微光譜分析平臺(tái),具有高信噪比,高靈敏度,能夠快速采集紫外—可見(jiàn)—近紅外全譜段的透射、反射光譜。適用于光子晶體研究、納米材料光學(xué)性能表征、微加工材料光學(xué)性能表征、表面等離子體研究。也可用于薄片試樣的金相、礦相、晶體、硅片、電路基板、FPD等結(jié)構(gòu)分析和研究,以及材料表面特性,如:劃痕、裂紋、噴涂的均勻性等分析研究??偡糯蟊稊?shù):50X-500X
◆主要特點(diǎn):
1、低雜散技術(shù),高速光譜傳輸技術(shù),實(shí)現(xiàn)微妙量級(jí)光譜檢測(cè)
3、全譜段技術(shù),最寬譜段覆蓋范圍達(dá)320—1100nm
4、紫外敏化技術(shù),實(shí)現(xiàn)了深紫外光譜探測(cè)。空間分辨率:最小5X5um2
5、采用了的無(wú)限遠(yuǎn)光路設(shè)計(jì),提供了的光學(xué)系統(tǒng)
6、系統(tǒng)配置了電動(dòng)調(diào)焦載物臺(tái),高清相位模塊、高亮度LED照明
7、采用大視野目鏡和明暗場(chǎng)長(zhǎng)距平場(chǎng)物鏡,視場(chǎng)平坦,成像清晰
8、配置了偏光、暗場(chǎng)裝置、可選配微分干涉裝置,拓展了功能
◆典型應(yīng)用:
1、光子晶體研究、納米材料光學(xué)性能表征、微加工材料光學(xué)性能表征、表面等離子體研究
2、電子工業(yè)制造業(yè)對(duì)硅片、電路基板、FPD、PCB板、芯片檢驗(yàn)
3、觀察材料表面的某些特性,金屬、礦相內(nèi)部結(jié)構(gòu)組織
規(guī)格參數(shù):
序號(hào) | 名 稱(chēng) | 參數(shù) |
01 | 光學(xué)系統(tǒng) | 無(wú)限遠(yuǎn)光學(xué)系統(tǒng),鏡筒透鏡f=200mm |
02 | 觀察鏡筒 | 三目鏡筒(帶有0.3XCCD適配鏡) |
03 | 目 鏡 | 1、超寬視場(chǎng)平場(chǎng)目鏡WF10X/26mm2、WF10X/22mm,帶0.1mm十字分劃板 |
04 | 超長(zhǎng)工作距離平場(chǎng)無(wú)限遠(yuǎn)明/暗場(chǎng)物鏡: | 5X/NA0.20(W.D=14.47mm)、10X/NA0.25(W.D=16.0mm)、20X/NA0.40(W.D=10.5mm)、50X/NA0.55(W.D=5.1mm) |
05 | 物鏡轉(zhuǎn)換器 | 帶DIC插孔的五孔轉(zhuǎn)換器 |
06 | 載物臺(tái) | 精密測(cè)量平臺(tái),工作臺(tái)尺寸:150X150mm 移動(dòng)范圍50mmX50mm, |
07 | 濾色片 | 濾色片(綠、藍(lán)、中性) |
08 | 調(diào)焦 | 電動(dòng)調(diào)焦 |
09 | 光源 | 透射照明: LED燈5W,寬電壓AC85V—260V,亮度連續(xù)可調(diào) 反射照明:科勒照明鹵素?zé)?2V50W,寬電壓AC85V—260V,亮度連續(xù)可調(diào),帶孔徑光闌和視場(chǎng)光闌 |
10 | 偏光裝置 | 檢偏鏡可360度旋轉(zhuǎn)。起偏鏡、檢偏鏡均可移出光路 |
11 | 光譜模塊 | 高速顯微光譜測(cè)量工作站 |