WaveMaster® PRO 2 / PRO2 Wafers 是全自動波前測量系統(tǒng)，配有夏克·哈特曼傳感器，用于透鏡和光學鏡片的串聯(lián)測試
| 大量生產(chǎn)小塑料或玻璃鏡片，光學窗的質(zhì)量和效率要求不斷提高。在大規(guī)模生產(chǎn)中使用波前測量技術(shù)可以產(chǎn)生很大的優(yōu)化能力。 WaveMaster® PRO 2和 PRO 2 Wafers典型的測量時間為2秒。每個光學元件可以讓托盤和晶圓快速更換。滿足在大批量生產(chǎn)中使用的條件。關(guān)于測量技術(shù)。WaveMaster® PRO 2和PRO 2 Wafer通過夏克·哈特曼傳感器確定衍生各種參數(shù)的波前。然后對每個鏡頭執(zhí)行與設(shè)計數(shù)據(jù)的比較。一個很好的數(shù)據(jù)池，用于生產(chǎn)中的其他優(yōu)化。 |  |
主要特點
*測量時間，少于透鏡2秒；
*全自動檢測大量樣本；
*用戶可選擇“通過/未通過”標準；
*或相對式測量；
*完整的波前分析（PV、RMS、Zernike、PSF、MTF、Strehl）;
*兩種可行設(shè)置：檢測球面、非球面元件（透鏡或晶圓）；
檢測平面元件（單表面或晶圓）；
*輸出所有檢測結(jié)果；
*可選擇：集成能夠測量晶圓取向、表面翹度和傾斜的系統(tǒng)；
應(yīng)用
質(zhì)量控制：
*球面、非球面元件；
*光學窗口；
*濾光片；
*光學晶圓；
夏克·哈特曼波前傳感器相關(guān)功能：
*Zernike系數(shù)數(shù)據(jù)；
*導入波前理論數(shù)據(jù)與測量數(shù)據(jù)對比；
*通過波前分析確定成像質(zhì)量（MTF）、材料缺陷、生產(chǎn)錯誤；
*楔角（可選擇）；
*EFL（可選擇）；
在托盤的上的晶片和單透鏡的波前測量
WaveMaster®軟件控制WaveMaster® 設(shè)備進行檢測。它具有簡明清晰的操作界面，包含測量與分析的功能。軟件與夏克·哈特曼傳感器進行通訊，能夠?qū)Σㄇ皵?shù)據(jù)進行實時分析。除此之外.WaveMaster® PRO軟件含有配合WaveMaster® PRO 2 與WaveMaster® PRO 2 Wafer生產(chǎn)系統(tǒng)的測量模塊。
軟件優(yōu)勢
*自動通過或失敗的結(jié)果基于眾多可自由選擇的標準；
*實時測量和分析；
*顯示波前、PV和RMS，強度和實時相機圖像；
*Zernink傾斜和散焦系數(shù)的波前校正；
*測量區(qū)域的可調(diào)節(jié)性；
*圓形、矩形和橢圓形的測量區(qū)域；
*在測量區(qū)域編輯器中實時顯示相機成像；
*證書保存；
*相機圖像平均化；
*用戶以不同級別的用戶權(quán)限登錄；
*整個系統(tǒng)是軟件控制的；
| WaveMaster PRO 2 | 大批量檢測單個小鏡片 |
| WaveMaster PRO 2 Wafer | 檢測園晶級鏡頭 |
| 球面、非球面光學元件的檢測配置 | 點光源 |
| 平面光學元件的檢測配置 | 準直光源 |
| 樣品的通光孔徑 | 0.5 mm - 14mm（取決于光學成像） |
| EFL | - 12 mm - +50 mm |
| 單個樣品檢測時間 | < 2 s |
| 時產(chǎn)量 | ≥ 1800 |
| 托盤樣品數(shù) | Max .148 |
| 托盤更換時間 | 10 s |
| 托盤更換時間（含校準時間） | < 2 min |
| 新透鏡設(shè)計加載時間 | < 5 min |
| 波長 | 532 nm ， 635 nm（其他可升級） |
| 樣品架 | 托盤或晶圓卡盤 |
| 精度 | < λ / 20（RMS） |
| 重復率 | < λ / 200（RMS） |
| 動態(tài)范圍 | > 2000λ |
| 檢測頻率(MAX) | 12 Hz |
| 橫向分辨率 | > 138 x 138 微透鏡 |
