魔技納米UV-Ultra
高性能無掩膜直寫光刻設(shè)備
專為工業(yè)級應(yīng)用而設(shè)計(jì)的高性能無掩膜紫外光刻設(shè)備。采用超高速加工方式,搭配自研算法和高性能硬件,實(shí)現(xiàn)更高的對準(zhǔn)、拼接和套刻精度。具備高直寫速度和高分辨率,適用于快速、精準(zhǔn)的加工需求。
采用集成化設(shè)計(jì)和全自動控制,操作簡便,適用于高達(dá)12英寸的基材。廣泛應(yīng)用于微流控、半導(dǎo)體、生物技術(shù)和微電子等領(lǐng)域。