主要技術(shù)指標(biāo):
1、位移靈敏度: 面內(nèi)u & v 場(chǎng): 417nm (1200 線/mm),離面 w場(chǎng): 266nm
2、相移靈敏度: ∽20nm/V
3、光場(chǎng)尺寸: 35×35mm
4、測(cè)試范圍: ≤20×20mm
6、測(cè)量應(yīng)變范圍:10~4000微應(yīng)變
7、激光器: 單縱膜,20 mw, λ=532nm
8、圖像采集: CMOS攝像頭,分辨率 1280 x 1024,USB接口
9、加載系統(tǒng): 拉伸、壓縮、彎曲三種加載方式
主要配置:
1、 主機(jī)
2、 20mW半導(dǎo)體激光器:1個(gè)
3、 USB攝像頭(內(nèi)置):1只
4、 相移器:1個(gè)
5、 光纖:3根
6、 光纖耦合器:1套
7、 1200mm×800mm自動(dòng)平衡隔振平臺(tái):1套
8、 品牌液晶臺(tái)式電腦:1套
9、 拉伸、壓縮、彎曲三種加載方式:1套
10、軟件:1套
應(yīng)用范圍:
云紋干涉法是一種非接觸測(cè)量面內(nèi)位移和應(yīng)變場(chǎng)的方法,具有較為廣泛的應(yīng)用范圍。
該技術(shù)可用于測(cè)量復(fù)合材料的殘余應(yīng)力;測(cè)量微電子封裝組件熱疲勞,熱濕耦合,熱載荷引起的變形;可用于非接觸測(cè)量航空材料在高溫狀態(tài)下的力學(xué)性能;還可以應(yīng)用于材料構(gòu)件內(nèi)部的缺陷,裂紋的無(wú)損檢測(cè)。應(yīng)用范圍非常廣泛。