FEI Quattro ESEM 掃描電子顯微鏡
Quattro E型掃描電鏡現(xiàn)在為現(xiàn)代材料科學研究提供了更大的靈活性，滿足了對結(jié)構(gòu)特性，元素分布以及材料在自然狀態(tài)下的動態(tài)變化的更大可見性的需求。用于檢測，自動化和樣品加熱的新配件使研究人員能夠從更多樣品和更多條件中獲得更多數(shù)據(jù)。
Thermo Scientific™Quattro環(huán)境掃描電子顯微鏡（ESEM）是一款多功能，高性能儀器，配有場發(fā)射槍（FEG），具有特色的分辨率和射束電流穩(wěn)定性。
三種真空模式（高真空，低真空和ESEM）可靈活地適應任何可用SEM的廣泛樣品，包括除氣或不與真空兼容的樣品。Quattro供多種探測器，包括定向反向散射信息，STEM和發(fā)光，可調(diào)諧和真實色彩對比。所有Quattro ESEM系統(tǒng)都可以配備分析功能，例如能量色散x射線光譜（EDS），波長色散x射線光譜（WDS）和與EDS共面的電子背散射衍射（EBSD）。
Quattro的架構(gòu)由輔助功能（用戶南）提供支持，該功能不僅可以指示，還可以直接與顯微鏡進行交互。Quattro支持撤消/重做功能，掃描預設，列預設，簡易的基于攝像頭的導航，SmartSCAN™和漂移補償幀集成（DCFI），以提高生產(chǎn)力，數(shù)據(jù)質(zhì)量和易用性。
多功能分辨率SEM，具有的環(huán)保能力
Thermo Scientific™Quattro ESEM將成像和分析方位性能與的環(huán)境模式（ESEM™）相結(jié)合，可以在自然狀態(tài)下研究樣品。它是各種學術(shù)，工業(yè)和政府實驗室的理想選擇，這些實驗室希望在支持原位實驗的平臺上為不同經(jīng)驗水平和學科的多個用戶提供所需的多功能性和易用性。Quattro的場發(fā)射槍（FEG）可確保特色的分辨率，同時其三種真空模式（高真空，低真空和ESEM）可靈活地適勻魏蜸EM樣品的廣泛樣品，包括放氣或不真空的樣品-兼容。
高性能的多功能性
Quattro ESEM是分析平臺，因為它的腔室可以配備一系列配件。分析能力包括能量色散X射線光譜（EDS），具有180度雙EDS附著的端口，與EDS共面的電子背散射衍射（EBSD）和波長色散X射線光譜（WDS）。
Quattro ESEM支持可選的高真空加熱階段，AutoScript，基于Python的腳本工具和新的RGB發(fā)光（CL）探測器。RGB CL檢測器產(chǎn)生彩色圖像，突出顯示使用傳統(tǒng)電子或X射線成像技術(shù)不可見的樣品特性。高真空加熱階段可在高溫下進行清潔的樣品觀察。使用AutoScript，用戶可以對成像和舞臺移動進行編程，以實現(xiàn)無人值守的數(shù)據(jù)采集。
動態(tài)原位實驗
Quattro的多功能性使其非常適合材料科學的廣泛主題<它同樣擅長于執(zhí)行傳統(tǒng)的高分辨率SEM成像/分析和動態(tài)原位實驗。它允許研究人員研究自然狀態(tài)下廣泛的樣品，以獲得有關結(jié)構(gòu)和組成的準確信息。
的環(huán)境模式
Quattro的環(huán)境SEM（ESEM）功能使科學家能夠在各種條件下研究材料，例如濕/濕，熱或反應環(huán)境，因為他們?yōu)闊o數(shù)學科開發(fā)新材料和產(chǎn)品，包括建筑，汽車，包裝，涂料和能源。Quattro研究化學反應進程的能力，如氧化，腐蝕，蝕刻，晶體生長和催化，可對科學和環(huán)境產(chǎn)生重大影響。
典型應用包括：
1、納米表征：
– 金屬和合金，裂縫，焊縫，拋光部分，磁性和超導材料
-陶瓷，復合材料，塑料
-薄膜，涂層
-地質(zhì)剖面，礦物
-軟材料：聚合物，藥品，過濾器，凝膠，組織，植物材料
-顆粒，多孔材料，纖維
2、原位表征：
-結(jié)晶/相變
-氧化，催化
-物質(zhì)增長
-水合/脫水/潤濕/接觸角分析
-拉伸（加熱或冷卻）
技術(shù)參數(shù)
1、電子光學：
1）發(fā)射源：高分辨肖特基場發(fā)射電子槍。
2）加速電壓：200V – 30kV。
3）放大倍數(shù)：6× – 2,500,000×。
4）電鏡內(nèi)設計有壓差真空系統(tǒng)，保護低真空/環(huán)境真空下電子槍，延長壽命。
5）大的電子束束流：1pA -200nA連續(xù)可調(diào)，保證能譜工作。
2、真空系統(tǒng)：
1）1個250 l/s分子渦輪泵+1個機械泵+2個離子泵
2）集成的離子泵備用電池（用于意外斷電保護）
3）高真空模式：＜6×10-4 Pa （測試導電樣品或噴金處理樣品）
4）低真空模式：10 – 200 Pa （直接測試不導電樣品）
5）環(huán)境真空模式：10 – 4000 Pa （測試含水分樣品）
6）高真空模式下的換樣時間：≤3.5min
7） 環(huán)境真空模式下的換樣時間：≤4.5min
3、電子束分辨率：
A：高真空模式下成像
1）高真空分辨率30 kV下1.0 nm (SE二次電子)
2）高真空分辨率30 kV下2.5 nm (BSE背散射電子)
3）高真空分辨率1 kV下3.0 nm (SE二次電子)
B：低真空模式下成像
4）低真空分辨率30 kV下1.3 nm (SE二次電子)
5）低真空分辨率30 kV下2.5 nm (BSE背散射電子)
6）低真空分辨率3 kV下3.0 nm (BSE背散射電子)
C：環(huán)境模式下成像
7）環(huán)境真空分辨率30 kV下1.3 nm (SE二次電子)
4、樣品室：
1）樣品室內(nèi)寬：340mm
2）分析工作距離：10 mm
3）樣品室紅外CCD相機：1個
4）可升級12個探測器或附件接口
5、樣品臺：
1）樣品臺類型：五軸全自動U中.心對中樣品臺，同時保留五軸手動功能
2）行程：X：110 mm，Y：110 mm ，Z：65 mm，
3）旋轉(zhuǎn)R=n×360°，傾斜T=-15°/+90°
4）多功能樣品臺，存放標準樣品臺 (?12 mm)平面18個，斜面3個，同時提供2個斷面夾具
5）樣品高度≥85mm
