原理：參考GB/T611、T2423、T22230、T5009、ISO 6353、758規(guī)范。應(yīng)用流體靜力學(xué)浮力法、流體力學(xué)Bernoulli 原理在線監(jiān)測蝕刻、洗滌溶液的比重變化。再應(yīng)用Lagrange內(nèi)插法轉(zhuǎn)換蝕刻、洗滌溶液的濃度。監(jiān)測在線溶液濃度的動態(tài)數(shù)據(jù)。
功能：
1.緩沖裝置TP-30 的設(shè)計，符合流體
2.靜力學(xué)原理，讓測量數(shù)據(jù)更加準(zhǔn)確。
規(guī)格參數(shù)：
| 型號： | MZ-EW-ONLINE |
| 比重范圍： | 0.0001~2.0000(玻璃砝碼) |
| 測試種類： | S.G、C% |
| 比重精度： | 0.0001 |
| 濃度范圍： | 0.1%~100.0% |
| 標(biāo)準(zhǔn)接口： | RS-232 |
技術(shù)數(shù)據(jù)：
1、 碳酸鈉水溶液可將膜面上未受光照的區(qū)域顯影去除。
2、 鹽酸及雙氧水混合溶液可將裸露出來的銅箔腐蝕去除，形成線路。
3、 氫氧化鈉水溶液是強(qiáng)電解質(zhì)，可將功成身退的干膜光阻洗除。
4、 印制電路中蝕刻速率降低與溶液比重、氯化銨的含量(濃度)有關(guān)。
5、 蝕刻液中的氯離子濃度過高，將造成印制電路中金屬抗蝕鍍層被浸蝕。
6、 蝕刻液中的氯化鈉含量過低，將造成印制電路中銅表面發(fā)黑，蝕刻不動。
操作說明：
1、 此設(shè)備將主機(jī)置放在一個容易操作的平臺上，主機(jī)前方裝設(shè)取樣槽。
2、 待測液體經(jīng)由取樣槽內(nèi)的進(jìn)出孔進(jìn)出，透過取樣槽內(nèi)感應(yīng)球的浮力變化自動顯出液體的比重值。
3、 透過連續(xù)的動作即可完成在線蝕刻、洗滌溶液比重的測量與監(jiān)控。并轉(zhuǎn)換讀取在線蝕刻、洗滌溶液濃度的動態(tài)數(shù)據(jù)。
