ENLI LSD4 激光掃描缺陷測(cè)繪系統(tǒng) 產(chǎn)品敘述
激光掃描缺陷影像儀，是激光束誘導(dǎo)電流測(cè)試（LBIC）的升級(jí)版，利用波長(zhǎng)能量大于半導(dǎo)體能隙大的激光束，照射在半導(dǎo)體后產(chǎn)生的電子-空穴對(duì)，通過(guò)快速的掃描樣品表面，獲得影像分布，可以得到內(nèi)部電流的變化來(lái)了解分析各種的缺陷分布，幫助分析樣品制備質(zhì)量以及幫助工藝改進(jìn)。
ENLI LSD4 激光掃描缺陷測(cè)繪系統(tǒng) 規(guī)格
| 型號(hào) | 項(xiàng)目 | 規(guī)格 |
|---|---|---|
| 1-1 | 激發(fā)波長(zhǎng) | a. 405 ± 5 nm（可擴(kuò)充至 4 個(gè)雷射） b. 多波長(zhǎng)切換設(shè)計(jì) c. 可軟件控制輸出波長(zhǎng) |
| 1-2 | 激光光點(diǎn) | a. TEM00 光斑 b. 單一波長(zhǎng)光斑 < 100=""> c. 全系列波長(zhǎng) < 200=""> |
| 1-3 | 掃描范圍 | a. 掃描面積：10 cm x 10 cm b. 可客制超過(guò) 16 cm x 16 cm之掃描范圍 |
| 1-4 | 掃描分辨率 | a. 掃描分辨率 - 10 um, ? 20 mm x 20 mm - 50 um, ? 100 mm x 100 mm b. 掃描頻率 - 10 Hz, 25 Hz及 50 Hz - 10 Hz, ? 4,000,000 像素 c. 可由軟件設(shè)定掃描分辨率 |
| 1-5 | 訊號(hào)量測(cè)模塊 | a. 16 bit A/D 解析能力 b. S/N 可達(dá)>1000 以上 c. 超低噪聲放大器模塊 |
| 1-6 | 量測(cè)時(shí)間 | a. <1 mins="" (for="" 20="" mm="" x="" 20="" mm="" with="" 50="" um=""> b. <13 mins="" (for="" 160="" mm="" x="" 160="" mm="" with="" 50="" um=""> |
| 1-7 | 尺寸 | 60 cm x 60 cm x 100 cm |
| 1-8 | 測(cè)量分析軟件 | a. 激發(fā)波長(zhǎng)切換 b. 雷射功率調(diào)整 c. LBIC 3D 圖示 d. 2D 剖面分析（電極深寬度比） e. 光電流回應(yīng)分布分析（搭配長(zhǎng)波長(zhǎng)激光器） f. 數(shù)據(jù)保存與輸出功能 |
| 1-9 | 計(jì)算機(jī)系統(tǒng) | a. x86 兼容計(jì)算器包含屏幕鍵盤(pán)與鼠標(biāo) b. 微軟操作系統(tǒng) |
| 1-10 | 選購(gòu)項(xiàng)目1： 連續(xù)光雷射 | a. 可添加 375 nm/ 450 nm/ 520 nm/ 638 nm/ 650 nm/ 780 nm ± 5 nm b. b. 最小功率：50 mW c. TEM00 輸出 d. 功率輸出穩(wěn)定度：<2> |
| 1-11 | 選購(gòu)項(xiàng)目2： 外加偏壓功能 | a. 可施加偏壓（0~5 V）（可擴(kuò)充更大電壓范圍） b. 軟件控制(選配) |
ENLI LSD4 激光掃描缺陷測(cè)繪系統(tǒng) 特點(diǎn)
● 可掃描光電流在樣品表面的分布圖像
● 可掃描各光電壓在樣品表面的分布圖像
● 可掃描開(kāi)路電壓與短路電流分布
● 可分析表面臟污。
● 可分析短路區(qū)域分布
● 可辨識(shí)分析隱裂區(qū)域。
● 可分析少數(shù)載子擴(kuò)散長(zhǎng)度分布 (選配)
● 可做單波長(zhǎng)量子效率 Mapping
