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吉致電子JEEZ氧化層拋光液

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8

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具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 型號
  • 品牌
  • 所在地無錫市
  • 更新時間2024-02-21
  • 廠商性質生產廠家
  • 入駐年限1
  • 實名認證已認證
  • 產品數量52
  • 人氣值202
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  無錫吉致電子科技有限公司主要研發(fā)生產產品為:拋光液、拋光墊等CMP化學機械研磨拋光材料,已有20余年的研發(fā)經驗。
  產品廣泛應用于金屬、光電、集成電路半導體、陶瓷、硬盤面板顯示器等材質的表面深度處理,目前已發(fā)展為集研發(fā)、生產、銷售于一體的現(xiàn)代工業(yè)科技企業(yè)。現(xiàn)已同多家500強企業(yè)建立合作伙伴關系,現(xiàn)員工已經達上百人,公司占地面積30.5畝,廠房面積約24000平方米。
  產品質量管理執(zhí)行ISO質量管理體系標準要求,嚴格管控每一環(huán)節(jié)。吉致公司采用精密技術,提供超高質量的產品,有效提高客戶所需要的高選擇比、高移除率、高平坦度、低缺陷要求。

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產地國產 加工定制
無錫吉致電子氧化層拋光液
產品特點:納米級SiO2磨料,粒徑均一穩(wěn)定,去除速率穩(wěn)定,金屬離子含量低,通過CMP工藝可有效去除表面氧化層,達到理想平坦度。
吉致電子Oxide Slurry與國內外同類產品相比,具有易清洗、表面粗糙度低等特點。
吉致電子JEEZ氧化層拋光液 產品詳情

 

無錫吉致電子25年研發(fā)生產——氧化層拋光液 /Oxide slurry/CMP拋光液/氧化物CMP研磨液/氧化物化學機械拋光液/半導體CMP拋光液/氧化層lapping研磨拋光液/氧化層slurry/氧化層拋光液拋光漿料/氧化層集成電路拋光液/氧化層CMP化學機械拋光液slurry/氧化層拋光液slurry

磨料類型:半導體cmp拋光液slurry

磨料粒徑:納米級SiO2

產品特點:納米級SiO2磨料,粒徑均一穩(wěn)定,去除速率穩(wěn)定,金屬離子含量低,通過CMP工藝可有效去除表面氧化層,達到理想平坦度。

吉致電子Oxide Slurry與國內外同類產品相比,具有易清洗、表面粗糙度低等特點。

吉致電子氧化層拋光液/OxideSlurry拋光液儲存方法:

通風,陰涼,干燥的庫房,本品需在5-35℃儲存,防止陽光直射及凍結,零度以下因產生不可再分散結塊而失效。

吉致電子CMP拋光液/Slurry拋光液價格:

吉致電子的CMP金屬拋光液生產技術是引進國外生產技術和設備,特殊化學配方制備而成。吉致電子拋光液品質可以媲美進口同類產品。

本土化生產使得吉致電子CMP拋光液產品交貨周期快,品質好,拋光液價格親民。

吉致電子CMP拋光耗材適用范圍

吉致電子科技有限公司擁有成熟的加工工藝,為不銹鋼、銅、鋁、陶瓷、導光板、五金產品、藍寶石、光學玻璃等各類拋光加工服務。為您提供可靠拋光解決方案!



 

 

關鍵詞:光學玻璃
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