武藏野電子MUSASHINO精密拋光設(shè)備MA-150
精密拋光設(shè)備，精密研磨裝置，精密拋光裝置MA-150，MA-200，MA-200e，MA-300e，MA-400e，手動(dòng)拋光裝置MM-200，自動(dòng)噴霧裝置MS-2
武藏野電子MUSASHINO精密拋光設(shè)備MA-150
武藏野電子MUSASHINO精密拋光設(shè)備MA-150
精密拋光設(shè)備，精密研磨裝置，精密拋光裝置MA-150，MA-200，MA-200e，MA-300e，MA-400e，手動(dòng)拋光裝置MM-200，自動(dòng)噴霧裝置MS-2
產(chǎn)品介紹
精密拋光裝置MA-150
其體積小，易于進(jìn)行精密拋光工作。
可以以更低的成本實(shí)現(xiàn)與MA-200e和MA-300e相同的拋光工藝。
特征
可安裝在SEM、EPMA、TEM等旁邊，一機(jī)多用。
通過(guò)設(shè)置定時(shí)器并安裝自動(dòng)磨料噴射裝置MS-2，可以進(jìn)行自動(dòng)拋光工作。
非常適合使用小尺寸樣品制備樣品。
MA-150備有各種拋光夾具。
精密拋光裝置MA-200
它是一種易于使用且高精度的拋光設(shè)備。適合制備研究和開(kāi)發(fā)樣品。
特征
MA-200的定時(shí)器功能和自動(dòng)噴涂裝置MS-2使自動(dòng)拋光工作變得容易。
拋光精度可輕松實(shí)現(xiàn)λ/10以下的平面度和0.01μm以下的表面粗糙度。
邊緣無(wú)下垂、夾雜物無(wú)脫落，非常適合EPMA等評(píng)價(jià)。
適用于IC截面拋光、傾斜拋光、LN等光學(xué)晶體端面拋光。
我們?yōu)?/span>MA-200提供各種拋光夾具和附件。
精密拋光設(shè)備MA-200e
非常適合研究和開(kāi)發(fā)的高精度拋光設(shè)備。兼容多種夾具和附件，功能可擴(kuò)展。
特征
我們反復(fù)改進(jìn)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)和剛性，以實(shí)現(xiàn)減少振動(dòng)和噪音的拋光工作。
使用液晶觸摸屏的數(shù)字操作提高了可操作性。
現(xiàn)在可以使用觸摸屏一次性管理各種拋光工藝的配方。
您可以繼續(xù)使用上一代機(jī)器MA-200D的夾具和附件。
可以在短時(shí)間內(nèi)對(duì)聯(lián)鎖機(jī)構(gòu)、漏電斷路器、緊急停止開(kāi)關(guān)等安全作業(yè)選件進(jìn)行追加規(guī)格變更。
我們?yōu)?/span>MA-200e提供各種拋光夾具和附件。
精密拋光設(shè)備MA-300e
特征
我們反復(fù)改進(jìn)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)和剛性，以實(shí)現(xiàn)減少振動(dòng)和噪音的拋光工作。
使用液晶觸摸屏的數(shù)字操作提高了可操作性。
該裝置非常適合拋光約3英寸或4英寸的大樣品。
自動(dòng)夾持裝置可安裝在三個(gè)位置，使工作更加高效。
配備搖擺裝置，既可保持拋光盤(pán)的平整度，又可提高拋光精度。
可以在短時(shí)間內(nèi)對(duì)聯(lián)鎖機(jī)構(gòu)、漏電斷路器、緊急停止開(kāi)關(guān)等安全作業(yè)選件進(jìn)行追加規(guī)格變更。
我們?yōu)?/span>MA-300e提供各種拋光夾具和附件。
精密拋光設(shè)備MA-400e
精密拋光設(shè)備是研究和開(kāi)發(fā)目的的理想選擇。兼容多種夾具和附件，功能可擴(kuò)展。
特征
我們反復(fù)改進(jìn)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)和剛性，以實(shí)現(xiàn)減少振動(dòng)和噪音的拋光工作。
使用液晶觸摸屏的數(shù)字操作提高了可操作性。
現(xiàn)在可以使用觸摸屏一次性管理各種拋光工藝的配方。
主軸直接安裝在上平臺(tái)上，經(jīng)過(guò)高精度磨削，提高磨削精度。
主軸采用高精度角接觸軸承，表面跳動(dòng)精度在±10μm以內(nèi)。
無(wú)刷直流電機(jī)不會(huì)因負(fù)載波動(dòng)而改變轉(zhuǎn)速，因此可以進(jìn)行更高精度的拋光工作。
可以在短時(shí)間內(nèi)對(duì)聯(lián)鎖機(jī)構(gòu)、漏電斷路器、緊急停止開(kāi)關(guān)等安全作業(yè)選件進(jìn)行追加規(guī)格變更。
通過(guò)自動(dòng)拋光保持裝置和各種樣品支架的組合，可以進(jìn)行各種精密拋光操作，包括電子材料、電子元件、陶瓷和金屬材料的拋光，TEM、SEM和SIMS分析材料的制備以及定向拋光使用 X 射線。您將能夠工作。
手動(dòng)拋光裝置MM-200
這是一種專用的手動(dòng)拋光裝置，可以輕松進(jìn)行拋光工作。
該拋光盤(pán)與精密拋光設(shè)備兼容。
特征
當(dāng)您想要輕松拋光時(shí)，這是很好的設(shè)備。
可以一邊倒水一邊進(jìn)行手動(dòng)拋光作業(yè)。
標(biāo)配Φ203mm鋁板和固定環(huán)，通過(guò)更換耐水砂紙，可以用各種粒度進(jìn)行拋光作業(yè)。
自動(dòng)噴霧裝置MS-2
這是一種自動(dòng)攪拌磨料并定期噴射的裝置。進(jìn)行自動(dòng)拋光時(shí)，工作效率有望顯著提高。
特征
定期自動(dòng)噴射金剛石研磨液，實(shí)現(xiàn)高效的拋光工作。
通過(guò)旋轉(zhuǎn)攪拌器，可以自動(dòng)攪拌容器內(nèi)的磨料。
也可以噴灑氧化鋁磨料和蒸餾水。
可自由調(diào)節(jié)噴霧間隔和噴霧時(shí)間，如每1分鐘噴霧1秒。
一次噴射量約為0.1cc，比手動(dòng)將金剛石液噴射到拋光盤(pán)上更經(jīng)濟(jì)。
需要約2個(gè)大氣壓的氣源。（可選配壓縮機(jī)。）
即使操作多個(gè)噴霧裝置，也可以使用一臺(tái)壓縮機(jī)。
噴嘴有5A、10A、15A三種類型可供選擇。
