Delta-X  多功能X射線衍射儀/反射儀

能滿足科學(xué)研究所和技術(shù)開發(fā)中心不同材料體系的測試需求。

 

產(chǎn)品簡介

Jordan Valley公司設(shè)計的這款Delta-X多功能X射線衍射設(shè)備，可靈活應(yīng)用于材料科學(xué)研究、工藝開發(fā)、與生產(chǎn)質(zhì)量控制等環(huán)境。Delta-X衍射儀可以在常規(guī)衍射模式、高分辨率衍射模式、X射線反射模式之間靈活切換，衍射儀的光源臺和探測臺的光學(xué)元件可以全自動化調(diào)控，并采用了水平式樣品臺。

光學(xué)配置的切換在菜單式程序控制下由計算機完成，無需手動操作。自動化切換和準直不需要專門人員和操作設(shè)備，并確保每次切換都能達到合適的光學(xué)準直狀態(tài) 。

常規(guī)的樣品測量可以通過Delta-X衍射儀實現(xiàn)部分、乃至的自動化運行。自動化測量程序可以依客戶需求進行專門定制。也可采用的手動模式來操作衍射儀，以便發(fā)展新的測量方法，研究新材料體系。

數(shù)據(jù)分析或擬合可以作為測量程序的一部分，能夠?qū)崿F(xiàn)自動化，也可根據(jù)需求來單獨進行數(shù)據(jù)分析。 如以半導(dǎo)體生產(chǎn)線為例，根據(jù)生產(chǎn)線的需求，可以將RADS和REFS擬合軟件以自動化模式運行，能夠允許設(shè)備在沒有用戶干擾的情況下自動完成常規(guī)性的數(shù)據(jù)分析，并直接完成數(shù)據(jù)擬合和結(jié)果輸出。RADS和REFS也可以單獨安裝，以便進行更詳細的數(shù)據(jù)分析。

 

產(chǎn)品特點

·  自動化進行樣品準直、測試、和數(shù)據(jù)分析

·  客戶可以自行設(shè)定測量的自動化程度

·  300 mm的歐拉環(huán)支架 (Eulerian Cradle) 設(shè)計，高精度的樣品定位和掃描

·  300 mm的晶片水平式放置，且可以完整映射

·  100° 的Chi 軸傾轉(zhuǎn)范圍、無限制范圍的 Ph i 軸旋轉(zhuǎn)空間， 可實現(xiàn)極圖和殘余應(yīng)力測試

·  智能化的光學(xué)配置切換和準直。依測量需要，自動選擇光學(xué)配置并實施光學(xué)準直

·  強大的工業(yè)級設(shè)備控制軟件和數(shù)據(jù)分析軟件

·  高分辨率測角儀，以保證精密且準確的測量

·  高強度的光源臺設(shè)計和光學(xué)元件組合，實現(xiàn)快速測量

·  多方面廣泛的測試技術(shù)和測量參數(shù)

·  由擁有超過30年的高分辨率X射線衍射經(jīng)驗的專家設(shè)計、制造，具有客戶經(jīng)驗。

 

產(chǎn)品優(yōu)勢

1、 自動化控制的光學(xué)系統(tǒng)

Delta - X衍射儀的入射束包括多種標準的光學(xué)配置模式，使光學(xué)配置具有充分的靈活性，且易于操作?？梢砸罁?jù)測量樣品的材料類型，選擇參考晶體。

2、樣品臺

Delta - X衍射儀的歐拉（Eulerian）環(huán)支架設(shè)計允許放置單個或多個晶片或樣品，并提供多個轉(zhuǎn)動軸的大范圍、高再現(xiàn)性的精確移動控制。

      ·  可放置直徑 300mm晶片或多個小尺寸晶片、樣品

      ·  “邊緣至邊緣“全晶片測量（無邊緣測量失真現(xiàn)象）

      ·  可選配特殊環(huán)境樣品臺，如高溫、真空等。

      

3、探測臺

      ·  閃爍式高性能點探測器，顯著提高響應(yīng)特性

      ·  的線探測器（選配件）

4、自動化機械手臂(Robot ) 選配件

      可選配全自動化機械手臂，實現(xiàn)直徑≤300mm晶片的全自動化裝卸和測量。

5、系統(tǒng)控制和數(shù)據(jù)采集

Delta - X衍射儀可以在不同模式下工作，包括菜單式全自動化測量、各個軸的手動準直和掃描等。

      ·  利用靈活、簡便的向?qū)?chuàng)建測量菜單

      ·  自動產(chǎn)生分析報告，提供實時信息和警示

6、專業(yè)用戶功能

專業(yè)用戶可以全面使用Delta - X衍射儀的更多專業(yè)功能。控制軟件允許用戶使用從自動操作到手動準直和測量等的所有操作模式。

      ·  手動/自動化準直程序設(shè)置

      ·  可實現(xiàn)任何方向的專業(yè)掃描模式

      ·  功能強大的程序腳本

 

應(yīng)用示例

·  高分辨率X射線衍射和弛豫度(Relaxation)

    材料：單晶襯底材料（如Si，GaAs，InP，GaN)和外延層材料，包括多層外延膜結(jié)構(gòu)

    參數(shù)：外延層厚度、組分、弛豫度、晶格應(yīng)變、晶片均勻性、晶格失配、摻雜濃度、襯底斜切角、外延傾角。

·  三軸X射線衍射和倒易空間Map

    材料：單晶襯底材料（如Si，GaAs，InP，GaN)和外延層材料，包括多層外延膜結(jié)構(gòu)

    參數(shù)：外延層厚度、組分、弛豫度、晶格應(yīng)變、晶片均勻性、晶格失配、摻雜濃度、襯底斜切角、外延傾角。

·  高分辨X射線衍射(HRXRD) 數(shù)據(jù)示例 

    -  GaN基多量子阱結(jié)構(gòu)

    -  硅襯底上生長III - V族材料

·  X射線反射(XRR )

    材料類型：薄膜

    參數(shù)：薄膜厚度、密度、粗糙度

    掃描方式：Omega - 2Theta掃描，Omega掃描，2Theta掃描

 

·  X射線衍射(XRD) 

    材料：測量多晶材料、納米材料、多晶薄膜等。對于超薄層材料、納米級厚度的薄膜材料，可以使用掠入射衍射。

    參數(shù)：相結(jié)構(gòu)、織構(gòu)、晶粒尺寸、顆粒尺寸、晶胞分析、結(jié)晶度分析、殘余應(yīng)力測定。

 

·  多晶薄膜的X射線衍射(XRD)

    材料：測量多晶材料、納米材料、多晶薄膜等。對于超薄層材料、納米級厚度的薄膜材料，可以使用掠入射衍射。

    參數(shù)：相結(jié)構(gòu)、晶格常數(shù)、晶粒尺寸

 

·  多晶薄膜的掠入射X射線衍射(GI - XRD)

    材料：測量多晶材料、納米材料、多晶薄膜等。對于超薄層材料、納米級厚度的薄膜材料，可以使用掠入射衍射。

    參數(shù)：相結(jié)構(gòu)、織構(gòu)、結(jié)晶度

    掃描模式： 2Theta掃描(GI - XRD)

 

·  多晶薄膜的極圖：織構(gòu)測定

    材料：測量多晶材料、納米材料、多晶薄膜等。

    參數(shù)：織構(gòu)

    掃描方式： Chi軸和Phi軸的聯(lián)合掃描

 

·  薄膜的殘余應(yīng)力測定

    材料：測量多晶材料、納米材料、多晶薄膜等。

    參數(shù)：殘余應(yīng)力

    掃描方式： 2Theta軸和Chi軸聯(lián)合掃描

 

·  X射線衍射應(yīng)用示例

    -  超薄High - K材料

    -  薄膜的殘余應(yīng)力測定

 

分析軟件

Jordan Valley分析軟件包已經(jīng)擁有超過30年的使用經(jīng)驗，并廣泛應(yīng)用于薄膜材料結(jié)構(gòu)特征的X射線表征。以原英國Bede Scientific公司的分析軟件包為基礎(chǔ)，Jordan Valley分析軟件在研究領(lǐng)域和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域都具有廣泛的適用性和優(yōu)異性，并囊括了高分辨率X射線衍射（HRXRD ) 和X射線反射(XRR ) 自動化擬合軟件、通用分析軟件、映射圖繪制和分析軟件等。

-  JV RADS：在工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域是飽受好評與信任的軟件，廣泛用于單晶襯底上生長各種外延薄膜的HRXRD 數(shù)據(jù)分析。

-  MDI JADE：擁有強大的XRD數(shù)據(jù)分析功能，包括衍射圖譜的閱讀、處理、分析，能夠準確進行相鑒定分析。

-  JV REFS：用于分析X射線反射數(shù)據(jù)的軟件，軟件操作簡便、功能強大，廣泛應(yīng)用在研發(fā)和生產(chǎn)領(lǐng)域。

-  JV Contour：可繪制和展示2D或3D映射圖

-  JV PeakSplit：提供了直接分析HRXRD和XRD數(shù)據(jù)的多種功能，對HRXRD或XRD測量數(shù)據(jù)做圖形化展示，并可擬合峰形特征。

更多數(shù)據(jù)實例或詳細參數(shù)，歡迎與我司聯(lián)系索取。